【技术实现步骤摘要】
几何图形着色方法、电子设备和计算机可读存储介质
本公开的实施例一般地涉及半导体
,并且更具体地涉及对电路版图中的几何图形着色的方法、电子设备和计算机可读存储介质。
技术介绍
随着集成电路制造工艺的发展,集成电路中的目标图案之间的距离减小,电路版图图案的密度增加。在光刻技术中使用的光波长不能相应地减小时,若同一光掩膜上两个版图图案之间的距离小于预定值,则可能会发生图案冲突。多重图案化技术是解决图案冲突的有效手段之一。该技术涉及将设计版图图案拆解为两个或更多个光掩膜中的版图图案。在生成用于多重图案化的光掩膜版图时,期望能够减小生成多重图案化的光掩膜版图所需时间。因此,为了实施应用日益广泛的三重图案化着色,希望提供一种快速可靠的着色方法。然而,寻找一个图形的着色数是NP-C问题(Non-deterministicPolynomialComplete,多项式复杂程度的非确定性问题)。简单地说,NP-C问题指的是是否能在多项式时间(多项式时间是指O(1)、O(logN)、O(N2)等这类可用多项式表示的时间复杂度,通常认 ...
【技术保护点】
1.一种对电路版图中的几何图形着色的方法,包括:/n从与第一几何图形相邻的第一组几何图形中确定第二几何图形,其中所述第一几何图形被着色成除预定的多个颜色之外的第一颜色,所述第二几何图形被着色成所述预定的多个颜色中的第二颜色,所述第二颜色不同于所述第一组几何图形中除所述第二几何图形之外的其他几何图形的颜色;/n对所述第一几何图形和所述第二几何图形进行重新着色以获得经重新着色的电路版图,在所述重新着色的电路版图中,所述第一几何图形被着色成所述第二颜色,并且所述第二几何图形被着色成所述预定的多个颜色中的第三颜色,所述第三颜色不同于所述第二颜色;/n如果确定所述经重新着色的电路版图 ...
【技术特征摘要】
1.一种对电路版图中的几何图形着色的方法,包括:
从与第一几何图形相邻的第一组几何图形中确定第二几何图形,其中所述第一几何图形被着色成除预定的多个颜色之外的第一颜色,所述第二几何图形被着色成所述预定的多个颜色中的第二颜色,所述第二颜色不同于所述第一组几何图形中除所述第二几何图形之外的其他几何图形的颜色;
对所述第一几何图形和所述第二几何图形进行重新着色以获得经重新着色的电路版图,在所述重新着色的电路版图中,所述第一几何图形被着色成所述第二颜色,并且所述第二几何图形被着色成所述预定的多个颜色中的第三颜色,所述第三颜色不同于所述第二颜色;
如果确定所述经重新着色的电路版图中不存在着色冲突,则保留对所述第一几何图形和所述第二几何图形进行的所述重新着色,所述着色冲突指示由于对所述第一几何图形和所述第二几何图形进行重新着色而导致的颜色相同的相邻几何图形。
2.根据权利要求1所述的方法,还包括:
如果确定所述经重新着色的电路版图中存在所述着色冲突,则放弃对所述第一几何图形和所述第二几何图形进行的所述重新着色。
3.根据权利要求1所述的方法,其中从与所述第一几何图形相邻的所述第一组几何图形中确定所述第二几何图形包括:
从所述第一组几何图形中确定至少一个第三几何图形,所述至少一个第三几何图形中的每个第三几何图形具有与所述第一组几何图形中的其他几何图形不同的颜色;以及
基于所述至少一个第三几何图形各自的相邻几何图形的数目,从所述至少一个第三几何图形中选择所述第二几何图形。
4.根据权利要求3所述的方法,其中基于所述至少一个第三几何图形各自的相邻几何图形的数目,从所述至少一个第三几何图形中选择所述第二几何图形包括:
将所述至少一个第三几何图形中相邻几何图形的数目最小的第三几何图形确定为所述第二几何图形。
5....
【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人,
申请(专利权)人:全芯智造技术有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽;34
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