测量方法、电子设备和计算机可读存储介质技术

技术编号:27848251 阅读:25 留言:0更新日期:2021-03-30 13:04
本文描述了测量方法、电子设备和计算机可读存储介质。在此描述的测量方法包括:基于待测对象的特征生成多个网格和多个第一标尺,多个第一标尺一一对应地设置于多个网格中并且各自第一待测区域;确定由每一个第一标尺指示的第一待测区域的第一长度;确定由第二标尺指示的第二待测区域的第二长度;基于多个网格,从多个第一标尺中确定与第二标尺相对应的第一标尺;以及用由所确定的第一标尺指示的第一待测区域的第一长度校正第二长度,以获得经校正的第二长度。以此方式,可以改进测试精度,提高测试结果的可靠性。高测试结果的可靠性。高测试结果的可靠性。

【技术实现步骤摘要】
测量方法、电子设备和计算机可读存储介质


[0001]本公开的实施例总体涉及半导体
,并且更具体地涉及测量方法、电子设备和计算机可读存储介质。

技术介绍

[0002]在半导体制造工艺的各个阶段,需要对相关的器件、工艺特征进行测量。扫描电子显微镜(SEM)经常用于在半导体制造工艺中对相关的器件、工艺特征的参数进行测量。SEM是一种大型分析仪器,它广泛应用于观察各种固态物质的表面超微结构的形态和组成。在利用SEM测量的过程中,通常需要借助标尺(gauge)。标尺用于指示执行测量的准确位置。换言之,标尺是用于测量的位置标记。
[0003]半导体制造工艺的几个不同阶段的测量都需要应用标尺。例如,对显影后图像(ADI)、蚀刻后图像(AEI)、抛光后图像(API)的SEM照片和光学邻近校正(OPC)模拟轮廓的测量都需要标尺。然而,在各个不同的工艺阶段,对同一待测对象的测量,所放置的标尺的位置可能各不相同,因为在各个阶段的标尺的放置并不参考之前阶段所放置的标尺的位置。

技术实现思路

[0004]本公开的实施例提供了测量方法、电子设本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种测量方法,包括:基于待测对象的特征生成多个网格和多个第一标尺,所述多个第一标尺一一对应地设置于所述多个网格中并且各自指示第一待测区域;确定由每一个第一标尺指示的所述第一待测区域的第一长度;确定由第二标尺指示的第二待测区域的第二长度;基于所述多个网格,从所述多个第一标尺中确定与所述第二标尺相对应的第一标尺;以及用由所确定的第一标尺指示的所述第一待测区域的第一长度校正所述第二长度,以获得经校正的第二长度。2.根据权利要求1所述的测量方法,其中基于所述待测对象的特征生成所述多个网格和所述多个第一标尺包括:基于所述待测对象的形状、尺寸、位置中的至少一项生成所述多个网格;以及在每一个网格中设置相应的标尺,以生成多个第一标尺。3.根据权利要求1所述的测量方法,其中,所述第一待测区域位于第一图像中,所述第一图像是所述待测对象的仿真图,并且基于所述待测对象的特征生成所述多个网格和所述多个第一标尺包括:基于所述第一图像所呈现的仿真特征,确定所述第一图像中的待测范围;在所述待测范围内生成所述多个网格,所述多个网格中的每个网格具有与所述第一图像的仿真精细度对应的尺度;以及通过在所述多个网格中的每个网格中设置相应的第一标尺,以生成所述多个第一标尺。4.根据权利要求1所述的测量方法,其中基于所述待测对象的特征生成所述多个网格和所述多个第一标尺包括:基于所述待测对象的待测参数,确定待测范围;在所述待测范围内生成所述多个网格;以及通过在所述多个网格中的每个网格中设置相应的第一标尺,来生成所述多个第一标尺。5.根据权利要求1所述的测量方法,其中确定由每一个第一标尺指示的所述第一待测区域的第一长度包括:确定每一个第一标尺与第一图像的...

【专利技术属性】
技术研发人员:ꢀ七四专利代理机构
申请(专利权)人:全芯智造技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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