电子产品的中框及其制作方法、电子产品的外壳和电子产品技术

本发明专利技术涉及一种电子产品的中框及其制作方法、电子产品的外壳和电子产品。上述电子产品的中框包括基材、设置在基材上的涂料层和设置在涂料层远离基材一侧的光学薄膜层，制备涂料层的原料包括涂料主剂和稀释剂，按质量份数计，涂料主剂包括：树脂15份～35份、白色颜料20份～40份、溶剂25份～45份及助剂1份～6份，光学薄膜层包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层，高折射率层和低折射率层交替设置，且光学薄膜层远离基材的最外层为高折射率层，电子产品的中框的Lab颜色色度指标为：L＝50～60，a＝‑5～0，b＝0～5。上述电子产品的中框具有陶瓷白色的外观，且亮度较高。

【技术实现步骤摘要】
电子产品的中框及其制作方法、电子产品的外壳和电子产品
本专利技术涉及电子产品领域，特别是涉及一种电子产品的中框及其制作方法、电子产品的外壳和电子产品。
技术介绍
在目前的装饰颜色中陶瓷白一直占有比较大的比例，尤其在电子产品中人们更是喜欢白色的外观，白色外观的比例占了差不多一半多。一般的电子产品中外壳的材料普遍采用塑胶和金属，通常采用喷涂和氧化的方式提高外观效果，但是对于手机这种电子产品如果使用塑胶就在性能和外观上都无法满足客户的要求，目前采用比较多的是玻璃、复合板、陶瓷等材质，这些材质都具有较好的机械性能，并且通过丝印和贴膜的方式来实现外观颜色。但是目前中框的选材就没有那么广泛了，电子产品的中框主要还是采用金属和塑钢材质，而且由于中框的外形特殊性无法采用面板的生产方式。中框要想做白色的效果，目前通常采用喷涂白色油漆的方式或镀膜的方式。但是喷涂油漆由于是采用多种物质的混合物，在颜色的色度上只有白度，而没有陶瓷白所呈现的色彩效果，且在颜色的亮度上较低，无法达到陶瓷白的效果。而采用镀膜的方式只能够做到金属色的银白和亮灰色。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种外观呈现陶瓷白色且亮度高的电子产品的中框及其制作方法。此外，还有必要提供一种电子产品的外壳及电子产品。一种电子产品的中框，包括：基材、设置在所述基材上的涂料层和设置在所述涂料层远离所述基材一侧的光学薄膜层，制备所述涂料层的原料包括涂料主剂，按质量份数计，所述涂料主剂包括：树脂15份～35份、白色颜料20份～40份、溶剂25份～45份及助剂1份～6份，所述光学薄膜层包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层，所述高折射率层和所述低折射率层交替设置，且所述光学薄膜层中远离所述基材的最外层为高折射率层，所述电子产品的中框的Lab颜色色度指标为：L＝50～60，a＝-5～0，b＝0～5。在其中一个实施例中，制备所述涂料层的原料还包括稀释剂，所述稀释剂与所述涂料主剂的质量比为(2～4)∶1。在其中一个实施例中，所述树脂为丙烯腈丁二烯苯乙烯共聚物；及/或，所述溶剂为783慢干水。在其中一个实施例中，所述涂料层的厚度为13μm～17μm。在其中一个实施例中，所述光学薄膜层的总厚度为85nm～200nm；及/或，所述高折射率层和所述低折射率层的总层数为3层～5层。在其中一个实施例中，所述光学薄膜层由依次层叠设置的第一高折射率层、低折射率层和第二高折射率层组成，所述第一高折射率层较所述第二高折射率层更靠近所述涂料层，所述第一高折射率层的厚度为10nm～40nm，所述低折射率层的厚度为20nm～50nm，所述第二高折射率层的厚度为30nm～60nm。在其中一个实施例中，所述光学薄膜层由依次层叠设置的第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层和第三高折射率层组成，所述第一高折射率层较所述第三高折射率层更靠近所述涂料层，所述第一高折射率层的厚度为10nm～40nm，所述第一低折射率层的厚度为20nm～50nm，所述第二高折射率层的厚度为20nm～60nm，所述第二低折射率层的厚度为18nm～50nm，所述第三高折射率层的厚度为10nm～20nm。在其中一个实施例中，所述高折射率层的材料选自Nb2O5、TiO2、Si3N4及SiOxNy中的一种，其中，0＜x≤2，0＜y≤3；及/或，所述低折射率层的材料为SiO2。在其中一个实施例中，所述电子产品的中框还包括设置在所述涂料层和所述光学薄膜层之间的第一UV胶层和/或设置在所述光学薄膜层远离所述基材的一侧的第二UV胶层。在其中一个实施例中，所述第一UV胶层的厚度为8μm～12μm；所述第二UV胶层的厚度为8μm～12μm。一种电子产品的中框的制作方法，包括如下步骤：在基材上形成涂料层，制备所述涂料层的原料包括涂料主剂，按质量份数计，所述涂料主剂包括：树脂15份～35份、白色颜料20份～40份、溶剂25份～45份及助剂1份～6份；及在所述涂料层远离所述基材的一侧形成光学薄膜层，制作电子产品的中框；其中，所述光学薄膜层包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层，所述高折射率层和所述低折射率层交替设置，且所述光学薄膜层中远离所述基材的最外层为高折射率层，所述电子产品的中框的Lab颜色色度指标为：L＝50～60，a＝-5～0，b＝0～5。在其中一个实施例中，采用喷涂的方式在所述基材上形成所述涂料层；及/或，采用溅射的方式形成所述光学薄膜层。在其中一个实施例中，所述在所述涂料层远离所述基材的一侧形成光学薄膜层的步骤之前，还包括：在所述涂料层远离所述基材的一侧形成第一UV胶层，所述光学薄膜层形成在所述第一UV胶层远离所述基材的一侧；及/或，所述在所述涂料层远离所述基材的一侧形成光学薄膜层的步骤之后，还包括：在所述光学薄膜层远离所述基材的一侧形成第二UV胶层。一种电子产品的外壳，包括盖板和中框，所述中框为上述的电子产品的中框或上述的电子产品的中框的制作方法制作的电子产品的中框。一种电子产品，包括上述的外壳以及位于所述外壳内的电路板组件。上述电子产品的中框包括基材、涂料层和光学薄膜层。通过调整涂料层的原料组成，使得涂料层呈现白色，并结合光学薄膜层的膜层设计，与涂料层配合，使得电子产品的中框的Lab颜色色度指标为：L＝50～60，a＝-5～0，b＝0～5，呈现陶瓷白的颜色。同时，光学薄膜层包括交替层叠的高折射率层和低折射率层，且高折射率层位于远离基材的最外层，膜层相互干涉、配合，还能够提高电子产品的中框的整体亮度，较单纯涂料层的颜色效果更加绚丽，亮度更高。因此，上述电子产品的中框不仅具有陶瓷白色的颜色外观且亮度较高。附图说明图1为一实施方式的电子产品的中框的结构示意图；图2为图1所示的电子产品的中框中光学薄膜层的一种结构示意图；图3为图1所示的电子产品的中框中光学薄膜层的另一种结构示意图；图4为一实施方式的电子产品的中框的制作方法的工艺流程图。具体实施方式为了便于理解本专利技术，下面将结合具体实施方式对本专利技术进行更全面的描述。具体实施方式中给出了本专利技术的较佳的实施例。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体地实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。请参阅图1，一实施方式的电子产品的中框100，包括：基材110、设置在基材110上的涂料层120和设置在涂料层120远离基材110一侧的光学薄膜层130。具体地，电子产品可以为手持式电子产品。在其中一个实施例中，电子产品为手机、平板电脑等。具体地，基材110为已完成形状制作，暂未上色的中框本体。例如，基材110为可以注塑的材本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电子产品的中框，其特征在于，包括：基材、设置在所述基材上的涂料层和设置在所述涂料层远离所述基材一侧的光学薄膜层，制备所述涂料层的原料包括涂料主剂，按质量份数计，所述涂料主剂包括：树脂15份～35份、白色颜料20份～40份、溶剂25份～45份及助剂1份～6份，所述光学薄膜层包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层，所述高折射率层和所述低折射率层交替设置，且所述光学薄膜层中远离所述基材的最外层为高折射率层，所述电子产品的中框的Lab颜色色度指标为：L＝50～60，a＝-5～0，b＝0～5。/n

【技术特征摘要】
1.一种电子产品的中框，其特征在于，包括：基材、设置在所述基材上的涂料层和设置在所述涂料层远离所述基材一侧的光学薄膜层，制备所述涂料层的原料包括涂料主剂，按质量份数计，所述涂料主剂包括：树脂15份～35份、白色颜料20份～40份、溶剂25份～45份及助剂1份～6份，所述光学薄膜层包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层，所述高折射率层和所述低折射率层交替设置，且所述光学薄膜层中远离所述基材的最外层为高折射率层，所述电子产品的中框的Lab颜色色度指标为：L＝50～60，a＝-5～0，b＝0～5。


2.根据权利要求1所述的电子产品的中框，其特征在于，制备所述涂料层的原料还包括稀释剂，所述稀释剂与所述涂料主剂的质量比为(2～4)∶1。


3.根据权利要求1所述的电子产品的中框，其特征在于，所述树脂为丙烯腈丁二烯苯乙烯共聚物；及/或，所述溶剂为783慢干水。


4.根据权利要求1～3任一项所述的电子产品的中框，其特征在于，所述涂料层的厚度为13μm～17μm。


5.根据权利要求1所述的电子产品的中框，其特征在于，所述光学薄膜层的总厚度为85nm～200nm；及/或，所述高折射率层和所述低折射率层的总层数为3层～5层。


6.根据权利要求1所述的电子产品的中框，其特征在于，所述光学薄膜层由依次层叠设置的第一高折射率层、低折射率层和第二高折射率层组成，所述第一高折射率层较所述第二高折射率层更靠近所述涂料层，所述第一高折射率层的厚度为10nm～40nm，所述低折射率层的厚度为20nm～50nm，所述第二高折射率层的厚度为30nm～60nm。


7.根据权利要求1所述的电子产品的中框，其特征在于，所述光学薄膜层由依次层叠设置的第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层和第三高折射率层组成，所述第一高折射率层较所述第三高折射率层更靠近所述涂料层，所述第一高折射率层的厚度为10nm～40nm，所述第一低折射率层的厚度为20nm～50nm，所述第二高折射率层的厚度为20nm～60nm，所述第二低折射率层的厚度为18nm～50nm，所述第三高折射率层的厚度为10nm～20nm。


8.根据权利要求1～3及5～7任一项所述的电子产品的中框，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：张春姣，周天济，
申请(专利权)人：深圳市沃阳精密科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44