一种用于坩埚的监控设备制造技术

本实用新型专利技术公布一种用于坩埚的监控设备，所述监控设备设置在坩埚处，所述坩埚用于装填蒸镀材料，所述监控设备包括导线、导电浮块和浮块衔接装置；所述浮块衔接装置具有间隔的两端子，所述浮块衔接装置的两端子分别与一所述导线连接，所述导线延伸到坩埚外；所述导电浮块用于浮于所述蒸镀材料上；所述浮块衔接装置设置在坩埚的底部，所述导电浮块用于与所述浮块衔接装置接触连接后使所述浮块衔接装置的两端连通。上述技术方案用可以对工作人员起到预警的作用，工作人员可以有序地进行补充蒸镀材料或者停止蒸镀，减少人力浪费的同时提高了坩埚的稼动。监控设备保障了蒸镀速率的稳定，避免基板上的膜质出现异常，提高产品的良率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于坩埚的监控设备
本技术涉及蒸镀设备领域，尤其涉及一种用于坩埚的监控设备。
技术介绍
目前制备有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，缩写OLED)器件普遍采用真空热蒸镀的成膜方式，真空热蒸镀技术是指在低于5×10-5Pa的真空环境下，通过电阻丝加热或者热辐射加热的方式使有机小分子材料升华或者熔融气化成蒸气的状态，高速运动的气态分子材料到达玻璃基板并在基板上沉积固化，形成固体薄膜。现在采用的蒸发源为点源坩埚和线源坩埚，点源坩埚多为圆柱形坩埚，线源坩埚多为长方体形坩埚。蒸镀材料加入在坩埚源中，随着蒸镀时间越来越长，蒸镀材料越来越少，需要定期或者定量增加蒸镀材料，以保障设备正常运行。当蒸镀材料的剩余量过少时，蒸镀速率会受到影响，蒸镀薄膜的膜质变差，会直接影响产品的亮度和寿命。
技术实现思路
为此，需要提供一种用于坩埚的监控设备，解决监控坩埚内蒸镀材料不到位的问题。为实现上述目的，本专利技术提供了一种用于坩埚的监控设备，所述监控设备设置在坩埚处，所述坩埚用于装填蒸镀材料，所述监控设备包括导线、导电浮块和浮块衔接装置；所述浮块衔接装置具有间隔的两端子，所述浮块衔接装置的两端子分别与一所述导线连接，所述导线延伸到坩埚外；所述导电浮块用于浮于所述蒸镀材料上；所述浮块衔接装置设置在坩埚的底部，所述导电浮块用于与所述浮块衔接装置接触连接后使所述浮块衔接装置的两端连通。进一步地，还包括绝缘连接线，所述导电浮块的两端分别通过所述绝缘连接线连接到所述浮块衔接装置处。进一步地，所述浮块衔接装置包括两个衔接柱，两个所述衔接柱之间具有间隔，一个衔接柱上设置有一个所述端子，两个所述衔接柱的间隔小于所述导电浮块的长度，所述衔接柱用于与导电浮块连接后让所述浮块衔接装置的两端子形成通路。进一步地，所述导电浮块为探针。进一步地，所述浮块衔接装置还包括电阻，所述电阻与所述浮块衔接装置的两端子并联。进一步地，还包括报警装置和电源，所述浮块衔接装置、所述报警装置和所述电源之间通过所述导线连接。进一步地，所述报警装置包括蜂鸣器和/或报警灯。进一步地，还包括中央集成系统，所述中央集成系统设置在所述坩埚外，所述中央集成系统与所述导线连接。区别于现有技术，上述技术方案用在坩埚中设置导电浮块和浮块衔接装置，导电浮块会在浮力的作用下而悬浮。当蒸镀材料减少至预警剩余量时，导电浮块也会随之下降并落至浮块衔接装置处，并使所述浮块衔接装置的两端连通。一方面，监控设备对工作人员起到预警的作用，工作人员可以有序地进行补充蒸镀材料或者停止蒸镀，减少人力浪费的同时提高了坩埚的稼动率；另一方面，监控设备保障了蒸镀速率的稳定，避免基板上的膜质出现异常，提高产品的良率。附图说明图1为本实施例所述监控设备的剖面结构示意图；图2为本实施例所述衔接柱的剖面结构示意图；图3为本实施例所述导电浮块与所述浮块衔接装置连接的剖面结构示意图；图4为本实施例所述浮块衔接装置、所述报警装置、所述中央集成系统和所述电源的结构示意图；图5为本实施例所述具有电阻的浮块衔接装置的剖面结构示意图。附图标记说明：1、坩埚；2、导线；3、导电浮块；4、绝缘连接线；5、报警装置；6、浮块衔接装置；61、衔接柱；62、电阻；7、中央集成系统；8、电源。具体实施方式为详细说明技术方案的
技术实现思路
、构造特征、所实现目的及效果，以下结合具体实施例并配合附图详予说明。请参阅图1至图5，本实施例提供一种用于坩埚的监控设备，所述监控设备设置在坩埚1处。坩埚1可以是现有蒸镀工艺中使用的点源坩埚或者线源坩埚，点源坩埚多为圆柱形坩埚，圆柱形坩埚的结构如图1所示，线源坩埚多为长方体形坩埚。坩埚1内是装填有蒸镀材料，蒸镀材料在坩埚1中经过加热蒸发后形成蒸汽，可以在上方的基板上成型。所述监控设备包括导线2、导电浮块3和浮块衔接装置6。所述浮块衔接装置6具有间隔的两端子，所述浮块衔接装置6的两端子分别与一所述导线2连接，所述导线2延伸到坩埚外。要说明的是，所述导线2可以是贴附于所述坩埚1的侧壁、所述坩埚1的底面来连接浮块衔接装置6。所述导电浮块3用于浮于所述蒸镀材料上，所述浮块衔接装置6设置在坩埚1的底部，所述导电浮块3用于与所述浮块衔接装置6接触连接后使所述浮块衔接装置6的两端连通。结构如图4所示。即所述浮块衔接装置6相当于一个开关，在浮块衔接装置6未与导电浮块3连接时，浮块衔接装置6是断开的状态，结构如图3所示；当浮块衔接装置6与导电浮块3连接时，浮块衔接装置6与外接的电路之间才是连通(电流开始流通)的状态，结构如图1所示。在本实施例中，所述导电浮块3浮于所述蒸镀材料上，所述导电浮块3可以是内部封闭中空的金属(如钨)，使得金属浮力变大，可以浮在表面；或者所述导电浮块3通过耐高温的低密度材料带动；或者所述导电浮块3是与耐高温的海绵泡沫绑在一起，耐高温的海绵泡沫可以带动所述导电浮块3浮起来。所述导电浮块3的密度用于小于所述坩埚1内的蒸镀材料的密度，使得所述导电浮块3在坩埚1中的蒸镀材料充足时可以悬浮起来。如有耐高温的可导电的低密度材料，则直接采用该材料制成导电浮块3。所述导电浮块3可以是探针、浮球或者方块，所述导电浮块3的间距大于所述浮块衔接装置6的间距。浮块衔接装置6可以是多个套环或者多个平行的导线，每个套环等间距，且每个套环都连接有导线。导电浮块3随着蒸镀材料的减少便会下降，而后掉落并与两个相邻的套环所接触，使浮块衔接装置6的两端形成连通。导线连接到坩埚的外部后，工作人员可以试需求与报警装置和中央集成系统连接。所述浮块衔接装置6设置在坩埚1的底部(两端子可以分别是“丫”形或者水平的平行直线，则探针落下后可以与两端接触)，并与所述导电浮块3连接后使电路连通。在某些实施例中，所述浮块衔接装置6可以是一个大的平台，浮块衔接装置6的上表面面积大于导电浮块3的面积。平台上的上表面作为与导电浮块3连接的触点，面积足够大的浮块衔接装置6可以提供较大的接触面积给导电浮块3。现有技术中，无法预先确定坩埚1内蒸镀材料的剩余量，在蒸镀材料缺少时会出现蒸镀速率异常的情况。为了解决这一问题，上述技术方案采用在坩埚1中设置一个导电浮块3，导电浮块3会在浮力的作用下而悬浮，当蒸镀材料减少至预警剩余量时，导电浮块3也会随之下降并落至浮块衔接装置6处。一方面，监控设备对工作人员起到预警的作用，工作人员可以有序地进行补充蒸镀材料或者停止蒸镀，减少人力浪费的同时提高了坩埚的稼动率；另一方面，监控设备保障了蒸镀速率的稳定，避免基板上的膜质出现异常，提高产品的良率。在本实施例中，还包括绝缘连接线4，所述导电浮块3的两端分别通过所述绝缘连接线4连接到所述浮块衔接装置6处。绝缘连接线4起到固定导电浮块(如探针)的作用，防止导电浮块(如探针)受到向上的力本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于坩埚的监控设备，其特征在于，所述监控设备设置在坩埚处，所述坩埚用于装填蒸镀材料，所述监控设备包括导线、导电浮块和浮块衔接装置；/n所述浮块衔接装置具有间隔的两端子，所述浮块衔接装置的两端子分别与一所述导线连接，所述导线延伸到坩埚外；/n所述导电浮块用于浮于所述蒸镀材料上；/n所述浮块衔接装置设置在坩埚的底部，所述导电浮块用于与所述浮块衔接装置接触连接后使所述浮块衔接装置的两端连通。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于坩埚的监控设备，其特征在于，所述监控设备设置在坩埚处，所述坩埚用于装填蒸镀材料，所述监控设备包括导线、导电浮块和浮块衔接装置；
所述浮块衔接装置具有间隔的两端子，所述浮块衔接装置的两端子分别与一所述导线连接，所述导线延伸到坩埚外；
所述导电浮块用于浮于所述蒸镀材料上；
所述浮块衔接装置设置在坩埚的底部，所述导电浮块用于与所述浮块衔接装置接触连接后使所述浮块衔接装置的两端连通。


2.根据权利要求1所述的一种用于坩埚的监控设备，其特征在于，还包括绝缘连接线，所述导电浮块的两端分别通过所述绝缘连接线连接到所述浮块衔接装置处。


3.根据权利要求1所述的一种用于坩埚的监控设备，其特征在于，所述浮块衔接装置包括两个衔接柱，一个衔接柱上设置有一个所述端子，两个所述衔接柱之间具有间隔，两个所述衔接柱的间隔小于所述导电浮块的长...

【专利技术属性】
技术研发人员：温质康，林佳龙，乔小平，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35