导流元件、切割元件、旋流曝气器和曝气系统技术方案

技术编号:27741641 阅读:21 留言:0更新日期:2021-03-19 13:35
本实用新型专利技术涉及曝气装置领域,解决了现有技术中曝气器不具有导流机构导致曝气效果不佳的问题。旋流曝气器用导流元件,包括第一支撑框架,第一支撑框架内壁上圆周均布有导流片。旋流曝气器用切割元件,包括第二支撑框架,第二支撑框架的内壁上圆周均布有切割柱。一种旋流曝气器,包括壳体,壳体内设有导流元件和切割元件,切割元件与导流元件间隔分布,不同导流元件上的导流片错位排布,不同切割元件上的切割柱错位排布,所述第二支撑框架形状与壳体内壁相匹配,所述第一支撑框架形状与壳体内壁相匹配,壳体上设有进气机构。一种曝气系统,包括依次连接的供气装置、输气管道、曝气器。

【技术实现步骤摘要】
导流元件、切割元件、旋流曝气器和曝气系统
本技术涉及曝气装置领域,尤其涉及导流元件、切割元件、旋流曝气器和曝气系统。
技术介绍
曝气器是给排水曝气充氧的必备设备,申请号为CN201720318672.6的中国专利公开了一种水力剪切曝气器,解决了传统曝气器工作效率不强,产生气泡数量不多,充氧不全面的问题,并且具有以下优点:能实现曝气时,气与水形成旋流,并在曝气筒体内充分混合;可以实现曝气器下面的水体也处于流动状态,卷吸底部的沉积淤泥,从而达到不积泥、降低曝气阻力、使细菌代谢活跃,大幅提高生化处理效率,整个曝气池无充氧盲区;翼型叶片和锥型叶片形成多层碰撞切割器,可以实现气与水的充分混合和多层切割,提高了氧利用率;无论正常运行还是间歇运行条件下,曝气器都不会堵塞,溶氧效率始终维持不变。由于其不具有导流机构,无法对水流进行导流导致曝气效果不佳。
技术实现思路
本技术提供一种导流元件、切割元件、旋流曝气器和曝气系统,解决了现有技术中曝气器不具有导流机构导致曝气效果不佳的问题。一种旋流曝气器,包括壳体,壳体内设有导流元件和切割元件,壳体上设有进气机构。进气机构将空气输送至曝气器内,空气带动水体流动,通过切割元件和导流元件,切割元件与水流撞击,使气体分散在水中,导流元件使水流产生水平方向的运动,加剧了水流与切割元件的撞击,产生更加微小的气泡,空气与水的接触面积增大,提高了曝气效果。进一步,所述切割元件包括形状与壳体内壁相匹配的第二支撑框架,第二支撑框架的内壁上设有切割柱,切割柱圆周均匀分布,一端与第二支撑框架固定连接,另一端悬空设置,第二支撑框架与所述第一支撑框架连接。第二支撑框架形状与壳体内壁相匹配,使得固定在其内壁上的切割柱能够与绝大多数通过切割元件的水流发生碰撞,进而使水流中的大气泡分散为多个小气泡,增大了空气与水的接触面积,提高曝气器的效果。进一步,所述切割柱上设有轴向凹槽和多个环形凹槽,切割柱上设有多个用于切割水流的切割凸块,不同切割元件上的切割柱错位排布。切割柱用于与水流碰撞,使水流内的大气泡分散为众多的小气泡,增大空气与水的接触面积,环形凹槽能够作为水流通过的通道,一定程度上降低切割柱对水流的阻力。切割凸块优选为三棱锥状,一条棱正对水流,用于切割水流。不同切割元件上的切割柱错位排布能够避免多个切割元件的切割柱正对而导致出现切割盲区,导致曝气效果不佳。进一步,所述第二支撑框架内壁设有用于撞击水流的撞击凸块。撞击凸块在撞击柱之间的空间内等距分布,用于撞击水流。进一步,所述导流元件包括形状与壳体内壁相匹配的第一支撑框架,第一支撑框架内壁上设有用于使水流产生横向运动的导流片,导流片圆周均匀分布,一端与第一支撑框架固定连接,另一端悬空设置。第一支撑框架形状与壳体内壁相匹配,使得固定在其内壁上的导流片能够对绝大多数通过导流元件的水流进行导流,进而使水流在曝气器内持续时间增大,并且使带有气泡的水流离开曝气器后保持螺旋上升,有利于气泡在水体中的扩散。进一步,所述导流片的一面上设有用于撞击水流的撞击条,相对的另一面为弧形,不同导流元件上的导流片错位排布。导流片用于对水流进行导向,使其产生水平方向的运动。撞击条用于与水流撞击。不同导流元件上的导流片错位排布能够避免多个导流元件的导流片正对而导致出现导流盲区,导致导流效果不佳。进一步,所述进气机构包括弯管,弯管的一端设有喷嘴,喷嘴位于壳体内,弯管的另一端位于壳体外,壳体上设有供弯管通过的通道,弯管与壳体固定连接。弯管能够改变气流方向,使其变为竖直向上,喷嘴为变径喷嘴,能够提高进入曝气器的空气的速度,进而提高被气流带动的水流的速度,加剧水流与导流切割组件的撞击。进一步,所述壳体为两端开口的圆筒状,一端上设有用于对导流元件和切割元件进行限位的顶盖,顶盖上设有供水流通过的通孔,壳体内固定连接有用于对切割元件进行限位的环形支撑板,壳体内设有至少两个导流元件和至少两个切割元件,导流元件和切割元件间隔设置。壳体用于容纳、固定导流元件、切割元件和进气机构,导流元件和切割元件位于支撑板和顶盖之间,壳体侧壁、支撑板、顶盖配合将导流元件和切割元件限位。进一步,所述第一支撑框架和第二支撑框架的两端均设有定位凸块,第一支撑框架和第二支撑框架的两端均设有与所述定位凸块匹配的定位凹槽。一种曝气系统,包括依次连接的供气装置、输气管道、曝气器,所述曝气器为上述任意一项所述的旋流曝气器。供气装置通过输气管道向曝气器输送空气。进一步,所述输气管道包括依次连接的主输气管、横管管道、立管管道,主输气管与所述供气装置连接,立管管道远离横管管道的一端与所述弯管远离喷嘴的一端连接。空气依次通过主输气管、横管管道、立管管道到达曝气器,并通过喷嘴喷出。进一步,所述横管管道上连接有用于将横管管道支撑在地面上的支架,所述供气装置为罗茨风机。从以上技术方案可以看出,本技术具有以下优点:进气机构将空气输送至曝气器内,空气带动水体流动,通过切割元件和导流元件,切割元件与水流撞击,使气体分散在水中,导流元件使水流产生水平方向的运动,水流整体流动速度加快,加剧了水流与切割元件的撞击,产生更加微小的气泡,空气与水的接触面积增大,提高了曝气效果。附图说明为了更清楚地说明本技术的技术方案,下面将对描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术旋流曝气器结构示意图。图2为本技术导流元件结构示意图。图3为本技术导流元件主视图。图4为本技术切割元件结构示意图。图5为本技术切割元件主视图。图6为本技术导流元件与切割元件组合结构示意图。图7为本技术曝气系统结构示意图。1、壳体,2、第一支撑框架,3、导流片,4、第二支撑框架,5、切割柱,6、弯管,7、喷嘴,8、法兰,9、顶盖,10、轴向凹槽,11、环形凹槽,12、切割凸块,13、撞击条,14、定位凸块,15、定位凹槽,16、主输气管,17、横管管道,18、立管管道,19、撞击凸块,20、支撑板,21、供气装置。具体实施方式为使得本技术的目的、特征、优点能够更加的明显和易懂,下面将结合本具体实施例中的附图,对本技术中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,下面所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而非全部的实施例。基于本专利中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本专利保护的范围。实施例1如图1-6所示,一种旋流曝气器,包括壳体1,壳体1内设有导流元件和切割元件,壳体1上设有进气机构。进气机构将空气输送至曝气器内,空气带动水体流动,通过切割元件和导流元件,切割元件与水流撞击,使气体分散在水中,导流元件使水流产生水平方向的运动,水流不仅与切割元件底部撞击,还能本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.旋流曝气器用导流元件,其特征在于,包括第一支撑框架(2),第一支撑框架(2)内壁上设有用于使水流产生横向运动的导流片(3),导流片(3)圆周均匀分布,一端与第一支撑框架(2)固定连接,另一端悬空设置。/n

【技术特征摘要】
1.旋流曝气器用导流元件,其特征在于,包括第一支撑框架(2),第一支撑框架(2)内壁上设有用于使水流产生横向运动的导流片(3),导流片(3)圆周均匀分布,一端与第一支撑框架(2)固定连接,另一端悬空设置。


2.根据权利要求1所述的旋流曝气器用导流元件,其特征在于,所述导流片(3)的一面上设有用于撞击水流的撞击条(13),相对的另一面为弧形。


3.旋流曝气器用切割元件,其特征在于,包括第二支撑框架(4),第二支撑框架(4)的内壁上设有切割柱(5),切割柱(5)圆周均匀分布,一端与第二支撑框架(4)固定连接,另一端悬空设置。


4.根据权利要求3所述的旋流曝气器用切割元件,其特征在于,所述切割柱(5)上设有轴向凹槽(10)和多个环形凹槽(11),切割柱(5)上设有多个用于切割水流的切割凸块(12)。


5.根据权利要求4所述的旋流曝气器用切割元件,其特征在于,所述第二支撑框架(4)内壁设有用于撞击水流的撞击凸块(19)。


6.一种旋流曝气器,其特征在于,包括壳体(1),壳体(1)内设有如权利要求1或2所述的旋流曝气器用导流元件和如权利要求3-5任意一项所述的旋流曝气器用切割元件,旋流曝气器用切割元件与旋流曝气器用导流元件间隔分布,不同导流元件上的导流片(3)错位排布,不同切割元...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘德峰王磊
申请(专利权)人:山东本源环境科技有限公司
类型:新型
国别省市:山东;37

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