改进的全息陷波滤波器制造技术

本发明专利技术提供了全息陷波滤波器，它包含若干层具有光密度值至少为２的光聚合物薄膜，所述薄膜固定于一透明基质上。（*该技术在2010年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种全息陷波滤波器，它包括一个支撑含有反射全息图的透明聚合物薄膜的透明基质，所述反射全息图在最大反射波长处的光密度值约大于２，所述膜在记录全息图以前主要由下列物质构成：（１）约２５～９０％的聚合物粘合剂，选自下列一组：聚乙酸乙烯酯，聚乙 烯醇缩丁醛，聚乙烯醇缩乙醛，聚乙烯醇缩甲醛，含有它们的主要链段的共聚物，和它们的混合物；（２）约５～６０％的烯类不饱和单体，选自下列一组：含＊唑的单体，和一种含有一个或多个苯基、联苯基、苯氧基、萘基、萘氧基、含可多达三个芳环的杂芳族基团 、氯和溴的液体单体；（３）约０～２５％的增塑剂；和（４）约０．１～１０％的、可由光化辐射活化的光引发剂系统，其中所述的百分率是以薄膜总重量为基准的重量百分率。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：戴伦尤金基斯，威廉卡尔斯马瑟斯，托伦斯约翰特劳特，
申请(专利权)人：纳幕尔杜邦公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]