三维光子晶体制备方法及其装置制造方法及图纸

涉及一种用全息方法制备三维光子晶体的方法及装置。将激光经扩束空间滤波，再变成扩束的平行光照射到光栅版上，在光栅版后产生４束光干涉，在干涉区域放置记录干版，再经曝光显影。设有激光器、扩束与空间滤波器、准直透镜、光栅版和全息记录干版，光栅版对扩束后的平行光形成４束光干涉。只需单束激光和光栅版就能产生四束光，并以期望的方向运行。四束光汇合后在自由空间互相干涉，产生了光强度周期性变化的三维图形。用光敏材料产生折射率周期性变化的三维晶格结构。只要晶格结构中的二种折射率之比够大，就能产生光子禁带，该材料就能用做光子晶体。若用光刻胶版做记录材料，亦可将记录下的结构当作模版，用高折射率材料翻制成光子晶体。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用全息方法制备三维光子晶体的方法及其装置。
技术介绍
光子晶体是由不同折射率的电介质材料周期性排列而形成的人造晶体。与天然晶体衍射X射线不同，光子晶体衍射的是可见光和近红外线。类似半导体材料对电子有能量禁带，光子晶体对光波有光禁带，即频率在某一范围内的光波将无法通过特定的光子晶体，而被完全反射回来。此特性使得光子晶体有着许多重要的应用，例如制备高效率发光二极管、光子晶体光纤、光子晶体激光器等，并在光通信、全光网络、光纤激光器、半导体激光器等系统和器件中获得重要应用。光子晶体的制作方法有多种，如层层叠加法、胶体自组织法，以及各种刻蚀、制版技术，包括X射线平板刻蚀、离子束刻蚀、掠射角沉积和调制光电化学刻蚀等技术。这些方法不仅制备过程复杂，而且不易得到多层的光子晶体。在所报道的(见文献MCampbell，D N Sharp，M T Harrison，et al，Fabrication of photonic crystals for the visiblespectrum by holographic lithography，Nature，2000，40453-56。本文档来自技高网...

【技术保护点】
三维光子晶体制备方法，其特征在于将激光经扩束与空间滤波，再变成扩束的平行光，将扩束后的平行光照射到光栅版上，在光栅版后产生４束光干涉，在干涉区域放置全息记录干版，经曝光显影后，即得三维光子晶体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘守，张向苏，刘影，
申请(专利权)人：厦门大学，
类型：发明
国别省市：92[中国|厦门]