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搓脚器制造技术

技术编号:27584163 阅读:16 留言:0更新日期:2021-03-10 09:58
本实用新型专利技术公开了搓脚器,包括:基板;上打磨层,设置在基板的上表面,包括均布设置的若干第一颗粒单元;下打磨层,设置在基板的下表面,包括均布设置的若干第二颗粒单元;下打磨层的颗粒密度小于上打磨层的颗粒密度;第二颗粒单元包括中心颗粒和若干外缘颗粒,若干外缘颗粒围绕中心颗粒设置,外缘颗粒呈月牙形、半圆形或扇形。通过颗粒密度较小的下打磨层可以在脚过水后用于脚上老皮、老茧的粗磨,通过颗粒密度较高的上打磨层则可以用于脚上各部位的精磨,外缘颗粒设置成月牙形、半圆形或扇形,通过外缘颗粒打磨老皮、老茧的同时,通过中心颗粒则可以辅助打磨正在去死皮的表面。颗粒则可以辅助打磨正在去死皮的表面。颗粒则可以辅助打磨正在去死皮的表面。

【技术实现步骤摘要】
搓脚器


[0001]本技术涉及人体护理工具,特别涉及搓脚器。

技术介绍

[0002]人体的脚底板俗称“第二心脏”,常用搓脚器来磨脚能够具有去除足部老皮、护肤美容等功效。
[0003]现有的搓脚器主要通过其上的颗粒摩擦皮肤来使用,单一布局的颗粒凸起存在去皮效率低,老皮难以清理等问题,且搓脚器上的搓脚方式单一,难以适应不同的搓脚需求。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本技术提供一种搓脚器,能够高效打磨脚上的老皮、老茧,具有多种打磨方式。
[0005]根据本技术实施例的搓脚器,包括:基板;上打磨层,设置在基板的上表面,包括均布设置的若干第一颗粒单元;下打磨层,设置在基板的下表面,包括均布设置的若干第二颗粒单元;下打磨层的颗粒密度小于上打磨层的颗粒密度;第二颗粒单元包括中心颗粒和若干外缘颗粒,若干外缘颗粒围绕中心颗粒设置,外缘颗粒呈月牙形、半圆形或扇形。
[0006]根据本技术实施例的搓脚器,至少具有如下有益效果:通过颗粒密度较小的下打磨层可以在脚过水后用于脚上老皮、老茧的粗磨,通过颗粒密度较高的上打磨层则可以用于脚上各部位的精磨,甚至是脚指甲的打磨抛光,其中外缘颗粒设置成月牙形、半圆形或扇形,由于具有长弧形的打磨面,打磨效果强于中心颗粒,主要通过外缘颗粒打磨老皮、老茧的同时,通过中心颗粒则可以辅助打磨正在去死皮的表面。
[0007]根据本技术的一些实施例,外缘颗粒包括至少三个且同心设置,中心颗粒设置在外缘颗粒的中心位置。通过外缘颗粒的长弧形外凸面或内凹面来磨出老皮、老茧的过程中,弧形内凹的弧度不宜太大,弧度太大则磨下来的死皮容易囤积,通过至少三个同心的外缘颗粒来包围中心颗粒,能够使得外缘颗粒组合起来基本覆盖中心颗粒的周围时每个外缘颗粒的弧度可以不大于120度,磨皮效果较佳,死皮不易囤积。
[0008]根据本技术的一些实施例,中心颗粒和外缘颗粒之间设置有若干环绕中心颗粒布置的行星颗粒。行星颗粒的设置是用于辅助中心颗粒,进一步配合外缘颗粒,去死皮的同时能够更好的打磨抛光皮肤表面。
[0009]根据本技术的一些实施例,行星颗粒小于中心颗粒,中心颗粒小于外缘颗粒。外缘颗粒的磨皮负荷较大,设置的相对大一些,便于区别于行星颗粒和中心颗粒,进一步体现外缘颗粒的去死皮能力,分工明确。
[0010]根据本技术的一些实施例,中心颗粒包括一个,行星颗粒包括五个,外缘颗粒包括四个。在此数量搭配下,第二颗粒单元的分工明确,磨皮效果较佳。
[0011]根据本技术的一些实施例,搓脚器还包括:侧打磨层,设置在基板的侧表面,包括均布设置的若干第三颗粒单元。由于上打磨层和下打磨层通常用于打磨较平的表面,
有一定凹陷的表面则难以打磨,通过侧打磨层则可以针对该凹陷表面进行打磨,增加了产品的打磨覆盖面。
[0012]根据本技术的一些实施例,侧打磨层包括分设在基板前、后两个侧表面的前打磨层和后打磨层,第三颗粒单元包括对应前打磨层的第四颗粒单元和对应后打磨层的第五颗粒单元。侧打磨层覆盖到基板的前、后两个侧表面,前打磨层和后打磨层均可以打磨凹陷表面,增加了产品的使用寿命。
[0013]根据本技术的一些实施例,前打磨层和后打磨层中两者其一与上打磨层的颗粒密度相同,两者其另一与下打磨层的颗粒密度相同。区分前打磨层和后打磨层的功能且对应上打磨层和下打磨层,使得产品用途更广,能够适应更复杂的表面。
[0014]根据本技术的一些实施例,基板的最大前后尺寸大于基板的最大左右尺寸,基板的左侧表面和右侧表面均设置有凹部。凹部的设置便于手持,使用前打磨层和后打磨层来打磨则可以是端部抵接手掌心,至少两只手指分别压接两侧凹部内。
[0015]根据本技术的一些实施例,上打磨层和侧打磨层的颗粒密度不小于100,下打磨层的颗粒密度小于100。搓脚器打磨层的颗粒密度一般在60-1200之间,100以下颗粒密度的下打磨层具有较强的磨锉能力,适于打磨老皮、老茧,100以上颗粒密度的上打磨层和侧打磨层则可以打磨更精细,抛光效果更好,可以打磨指甲,甚至较柔软部分的皮肤。
[0016]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0017]本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
[0018]图1为搓脚器的实施例的结构示意图;
[0019]图2为图1的仰视视角及其中第二颗粒单元实施例的结构示意图;
[0020]图3为搓脚器的实施例的仰视结构示意图;
[0021]图4为搓脚器的实施例的仰视结构示意图。
具体实施方式
[0022]下面详细描述本技术的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本技术,而不能理解为对本技术的限制。
[0023]在本技术的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,限定有“第一”、“第二”、“第三”、“第四”、“第五”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
[0024]在本技术的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安
装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0025]本技术的实施例提供搓脚器,包括:基板,基板100可以是图1和图2所示的凸轮形,也可以是图3所示的形状或图4所示的菱形,基板可以是矩形截面,也可以是腰形截面,腰形截面即在矩形截面的两侧分别有圆心朝内的相互对称的两个半圆截面;上打磨层,设置在基板的上表面,包括均布设置的若干第一颗粒单元;下打磨层,设置在基板的下表面,包括均布设置的若干第二颗粒单元;下打磨层的颗粒密度小于上打磨层的颗粒密度;第二颗粒单元包括中心颗粒和若干外缘颗粒,若干外缘颗粒围绕中心颗粒设置,外缘颗粒呈月牙形、半圆形或扇形,如图2所示,外缘颗粒312呈月牙形。
[0026]应理解,上打磨层、下打磨层通常使用喷砂、镶钻或丝印的方式在基板表面附上颗粒,颗粒具体可以是砂砾,基板可以采用纳米玻璃、浮法玻璃或亚克力等材料制成本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.搓脚器,其特征在于,包括:基板;上打磨层,设置在所述基板的上表面,包括均布设置的若干第一颗粒单元;下打磨层,设置在所述基板的下表面,包括均布设置的若干第二颗粒单元;所述下打磨层的颗粒密度小于所述上打磨层的颗粒密度;所述第二颗粒单元包括中心颗粒和至少三个外缘颗粒,所述外缘颗粒围绕所述中心颗粒设置,所述外缘颗粒呈月牙形、半圆形或扇形,所述外缘颗粒同心设置,所述中心颗粒设置在所述外缘颗粒的中心位置,每个所述外缘颗粒的弧度小于120度。2.根据权利要求1所述的搓脚器,其特征在于,所述中心颗粒和所述外缘颗粒之间设置有若干环绕所述中心颗粒布置的行星颗粒。3.根据权利要求2所述的搓脚器,其特征在于,所述行星颗粒小于所述中心颗粒,所述中心颗粒小于所述外缘颗粒。4.根据权利要求2所述的搓脚器,其特征在于,所述中心颗粒包括一个,所述行星颗粒包括五个,所述外缘颗粒包...

【专利技术属性】
技术研发人员:魏金平
申请(专利权)人:魏金平
类型:新型
国别省市:

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