一种复杂图案渐变装饰纹理及电子产品盖板制造技术

技术编号:27564541 阅读:25 留言:0更新日期:2021-03-09 22:08
本实用新型专利技术公开了一种复杂图案渐变装饰纹理及电子产品盖板,该复杂图案渐变装饰纹理包括:承载体和设置在承载体上的微纳结构层;微纳结构层为预定纹理的沟槽结构,沟槽结构中设有预定填充物;预定纹理由目标图片对应的像素格内的单元图形组成,单元图形的尺寸与像素格的RGB值相关。将图片转换为不同尺寸的单元图形,通过占空比的变化,在沟槽结构增加填充物,使产品呈现均匀的色彩渐变和过渡,规避了简单阵列和路径阵列图案单一的局限性,解决了复杂图形的渐变设计问题,将这种纹理应用到电子产品盖板上,增加电子产品盖板的辨识度,将特殊图案稳定设计在产品盖板上,通过微观结构的沟槽填充物解决传统喷绘印刷工艺的脱色磨损问题。损问题。损问题。

【技术实现步骤摘要】
一种复杂图案渐变装饰纹理及电子产品盖板


[0001]本技术属于光学
,涉及一种复杂图案渐变装饰纹理及电子产品盖板。

技术介绍

[0002]随着时代变迁,电子产品在大众消费中占据了重要位置,人们对电子产品的需求大幅度增长,随着科学技术的飞速发展,电子类产品的设计不仅仅局限于功能化,产品外观设计也成为现代主流趋势。以手机为例,后盖的装饰效果设计不仅可以提高产品价值,也满足了大众对于手机美感和艺术感的更高追求。
[0003]然而,目前对手机盖板的装饰设计通常都是材质或颜色的替换,装饰效果欠佳,辨识度低,对于特殊的图案,通常是在表面通过喷绘或印刷工艺制作,往往存在脱色或磨损的问题。

技术实现思路

[0004]本技术目的是:提供一种将图片转换为不同尺寸的单元图形,通过占空比的变化,加上工艺着色,从而使产品呈现均匀的色彩渐变和过渡,规避了简单阵列和路径阵列图案单一的局限性,解决了复杂图形的渐变设计问题,将这种纹理应用到电子产品盖板上,可以增加电子产品盖板的辨识度,并且可以将特殊图案稳定设计在产品盖板上,通过微观结构的沟槽填充物解决传统喷绘印刷工艺的脱色磨损问题。
[0005]本技术的技术方案是:
[0006]第一方面,一种复杂图案渐变装饰纹理,所述复杂图案渐变装饰纹理包括:承载体和设置在所述承载体上的微纳结构层;所述微纳结构层为预定纹理的沟槽结构,所述沟槽结构中设有预定填充物;
[0007]所述预定纹理由目标图片对应的像素格内的单元图形组成,所述单元图形的尺寸与像素格的RGB值相关。
[0008]其进一步的技术方案是:RGB值相邻的像素格内的单元图形的尺寸成等差数列变化。
[0009]其进一步的技术方案是:像素格的尺寸为固定值,位置相邻的像素格内的单元图形的中心点距离相等。
[0010]其进一步的技术方案是:所述单元图形的外部轮廓包括圆形、正方形、多边形中的至少一种。
[0011]其进一步的技术方案是:所述单元图形的内部包括至少一条具备预定方向的线段,不同的单元图形内的线段方向发生变化。
[0012]其进一步的技术方案是:所述沟槽结构的截面包括矩形结构、弧形结构、V型结构中的至少一种。
[0013]其进一步的技术方案是:所述预定填充物包括油墨、金属材料中的至少一种。
[0014]其进一步的技术方案是:所述承载体采用PET、PC防爆膜、PC玻璃中的至少一种。
[0015]第二方面,一种电子产品盖板,该电子产品盖板包括如第一方面所述的复杂图案渐变装饰纹理。
[0016]本技术的优点是:
[0017]1.通过将图片转换为不同尺寸的单元图形,通过占空比的变化,在沟槽结构增加填充物,从而使产品呈现均匀的色彩渐变和过渡,规避了简单阵列和路径阵列图案单一的局限性,解决了复杂图形的渐变设计问题,将这种纹理应用到电子产品盖板上,可以增加电子产品盖板的辨识度,并且可以将特殊图案稳定设计在产品盖板上,通过微观结构的沟槽填充物解决传统喷绘印刷工艺的脱色磨损问题;
[0018]2.通过对RGB值相邻的像素格内的单元图形的尺寸等差变化,可以使得微纳结构层展示出的图案呈现渐变的效果;
[0019]3.通过在单元图形内增加至少一条具备预定方向的线段,角度变化可以引起不同的视觉效果,从而形成变化的光柱效果,使得复杂图案明暗渐变的同时增加立体感。
附图说明
[0020]下面结合附图及实施例对本技术作进一步描述:
[0021]图1是本申请一个实施例提供的复杂图案渐变装饰纹理的剖视图;
[0022]图2是本申请一个实施例提供的目标图片的示意图;
[0023]图3是图2中的目标图片转换为纹理的示意图;
[0024]图4是本申请另一个实施例提供的目标图片的示意图;
[0025]图5是图4中的目标图片的局部区域转换为纹理的示意图;
[0026]图6是本申请一个实施例提供的单元图形变化规律的示意图;
[0027]图7是本申请一个实施例提供的带有方向线段的单元图形的示意图;
[0028]图8是本申请另一个实施例提供的带有方向线段的单元图形的示意图;
[0029]图9是本申请一个实施例提供的沟槽结构的示意图;
[0030]图10是本申请另一个实施例提供的沟槽结构的示意图;
[0031]图11是本申请再一个实施例提供的沟槽结构的示意图。
[0032]其中:1、承载体;2、微纳结构层;3、预定填充物;4、单元图形。
具体实施方式
[0033]实施例:本申请提供了一种复杂图案渐变装饰纹理,结合参考图1至图11,该复杂图案渐变装饰纹理可以包括:承载体1和设置在承载体1上的微纳结构层2;微纳结构层2为预定纹理的沟槽结构;沟槽结构中设有预定填充物3。
[0034]预定纹理由目标图片对应的像素格内的单元图形4组成,单元图形4的尺寸与像素格的RGB值相关。
[0035]目标图片是需要转换为微纳结构层的图片,比如阴影、云、海浪、楼阁等。将目标图片通过微纳结构层的方式转换为纹理,并在纹理的沟槽结构内设置预定填充物,结构稳定,相对普通的印刷而言,不易脱色磨损。
[0036]普通的简单阵列及路径阵列,渐变效果单一,且图形有局限性,通过图片直接转化
为不同尺寸的单元图形4,可以实现复杂图形的渐变效果,且渐变效果更柔和。
[0037]单元图形4的边缘轮廓即对应沟槽结构,沟槽内设有预定填充物3。由于单元图形4的尺寸不同,因此不同区域的填充物的占比也不同,从而实现产品明暗变化的视觉效果。
[0038]结合参考图2至图5,图2中从上面中心点向四周白色至黑色的颜色渐变,经过软件处理得到RGB不同的像素格(如图3所示),单个像素格内含有一个单元图形4(例如圆形),越白的部分单元圆形的直径越小,越黑的部分单元圆形的直径越大,相同颜色灰度(RGB三值均相同)的像素格内的单元图形4的尺寸相同。单元圆形对应沟槽结构部分,沟槽内设有预定填充物3,不同颜色区域圆形尺寸不同导致设有的填充物量不同,从而使得产品呈现预设的图2中的明暗变化效果。图4中复杂的图案也可以转换为图5中单元图形组成的纹理。
[0039]可选的,RGB值相邻的像素格内的单元图形4的尺寸成等差数列变化。
[0040]可选的,像素格的尺寸为固定值,位置相邻的像素格内的单元图形4的中心点距离相等。
[0041]每个像素格的大小固定,单元图形4设置在像素格的中间位置,单元图形4的中心点即像素格的中心点。
[0042]结合参考图6,单元图形4的尺寸呈等差数列变化,A2=A1+d,d为等差数列的公差值,A1和A2对应的像素格为两个相邻的RGB值,像素格的尺寸固定,即图中的B1=B2。对于纯渐变的图案,RGB值相邻的像素格的位置也相邻,如图3所示,对于复杂的图案,RGB值相邻的像素格的位置不一定相邻,如图5所示,需要根据实际像素格的本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种复杂图案渐变装饰纹理,其特征在于,所述复杂图案渐变装饰纹理包括:承载体和设置在所述承载体上的微纳结构层;所述微纳结构层为预定纹理的沟槽结构,所述沟槽结构中设有预定填充物;所述预定纹理由目标图片对应的像素格内的单元图形组成,所述单元图形的尺寸与像素格的RGB值相关。2.根据权利要求1所述的复杂图案渐变装饰纹理,其特征在于,RGB值相邻的像素格内的单元图形的尺寸成等差数列变化。3.根据权利要求2所述的复杂图案渐变装饰纹理,其特征在于,像素格的尺寸为固定值,位置相邻的像素格内的单元图形的中心点距离相等。4.根据权利要求3所述的复杂图案渐变装饰纹理,其特征在于,所述单元图形的外部轮廓包括圆形、正方形、多边形...

【专利技术属性】
技术研发人员:曹淼倩李廷刚
申请(专利权)人:苏州胜利精密制造科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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