成像装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种成像装置，包括光电导体；使所述光电导体曝光的曝光装置；防尘元件，其沿所述光电导体的移动方向设置在所述曝光装置的曝光位置的上游；和盖，其支撑所述曝光装置和所述防尘元件；其中，所述盖围绕枢轴打开和关闭，所述枢轴沿所述光电导体的移动方向设置在所述曝光装置的上游。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种釆用电照相方法的成像装置。技术背景采用电照相方法的成像装置是一种通过充电、随后曝光、显影形成 调色剂图像然后将形成的图像转印到记录介质上作为永久图像的装置。因为采用电照相方法的成像装置使用干的调色剂颗粒，所以由于尘 埃，例如松散的调色剂颗粒、纸张粉末、由放电产生的颗粒，会引起各 种问题。装置内的各种尘埃中，曝光部分的尘埃直接导致图像质量降低，因 此，提出了很多防止曝光部分产生这些尘埃的技术。公开号6-317,951的日本未决专利申请披露了引入光线的光阑形 成在安装于激光曝光装置的激光发射部分上的框架的顶部以支撑防尘 玻璃，沿光电导体移动方向设置在更上游的部件比沿光电导体移动方向 设置在更下游的部件设置的更高，因此，防止空气朝向防尘玻璃流动， 从而防止诸如飞散的调色剂等颗粒落在防尘玻璃上。公开号2000-258,968的未决日本专利申请披露了 一种成像装置，其 中，控制气流的空气限制元件沿光电导体移动方向安装在曝光位置的上 游。公开号2003-54,024的未决日本专利申请披露了 一种成像装置，其 中，设置有沿光电导体移动方向从LED头的顶部朝向上游突出的盖， 所述盖是倾斜的，从而朝向LED头接近光电导体。上述专利文件中公开的防尘元件有效地阻止尘埃落在曝光装置上， 然而它们不能有效地应对落在并且聚积在防尘元件本身上的尘埃。上述 文件不能处理这个问题。大多数成像装置构造成使得可以打开它们的内部来维护或者更换元件，如光电导体、以及围绕光电导体设置的充电装置、瀑光装置、显影装置和清洁装置。如图2中虚线所示， 一些成像装置构造成使得当上 面部分向上移动时，光电导体打开。因为结构复杂的激光曝光装置占用了成像装置中的4艮多空间，所以 所述曝光装置安装在成像装置的骨架结构上。当该装置的内部被打开 时，大部分激光曝光装置不是由可移动部分构成的。另一方面，当成像装置采用LED (发光二极管)曝光装置时，优选 地，所述LED曝光装置构造为由一个盖打开。在上述专利文件中，防尘元件随曝光装置打开，但落在防尘元件上 的尘埃掉落到曝光装置上，因此曝光装置变得落有尘埃，这是个重要的 问题。为了清洁曝光装置，需要长时间的工时。
技术实现思路
本专利技术可克服上述问题，并且本专利技术的一个目的是提供一种成像装 置，其中可防止曝光装置被从防尘元件掉落的尘埃污染，并且易于维护。该目的可以通过以下产品实现。产品l. 一种成像装置，包括光电导体，曝光装置，其使所述光电导体曝光，防尘元件，其沿所述光电导体的移动方向设置在所述曝光装置的曝 光位置的上游，和盖，其支撑所述曝光装置和所述防尘元件，其中，所述盖在轴上枢转，所述轴沿所述光电导体的移动方向设置在 所述曝光装置的上游。产品2. —种成像装置，包括光电导体，膝光装置，其使光电导体曝光，防尘元件，其沿所述光电导体的移动方向设置在曝光装置的曝光位 置的上游，以及盖，其支撑所述曝光装置和所述防尘元件，其中所述盖在轴上枢转，所述轴沿光电导体的移动方向设置在曝光 位置的下游，以及其中所述防尘元件由L形元件构成，所述L形元件包括从所述盖向 着所述光电导体突出的第一防尘部分和从所述第一防尘部分的顶端向 着所述曝光装置突出的第二防尘部分。附图说明图l显示了本专利技术实施方式所涉及的成像装置的结构。 图2显示本专利技术的实施方式1。图3显示尘埃落在防尘元件上，然后从防尘元件掉落到曝光装置上。图4显示本专利技术的实施方式2。图5显示本专利技术的实施方式3。图6显示实施方式4所涉及的彩色成像装置。图7显示抽屉单元60。图8显示本专利技术的实施方式5。图9显示本专利技术的实施方式6。具体实施方式以下将详细描述本专利技术的实施方式，然而本专利技术不限于这些实施方式。图l显示本专利技术实施方式的成像装置的结构。该成像装置通过电照相处理在记录介质上形成图像。该成像装置由 沿光电导体1的如箭头A所指的转动方向顺次布置在光电导体1周围的 充电装置2、曝光装置3、显影装置4、图像转印装置5和清洁装置6构成o在该成像装置的底部，从左到右依次设置有供纸部分8、转印装置 5、定影装置7和排纸部分9。为了形成图像，光电导体l逆时针转动，如箭头A所示，通过充电 装置2、曝光装置3和显影装置4的操作，在光电导体l上形成调色剂与调色剂图像的形成同步，从供纸部分8传输记录介质P,从而光 电导体1上的调色剂图像被转印装置5转印到记录介质P上。记录介质P栽持的调色剂图像穿过定影装置7，通过热和压力定影。载持定影图像的记录元件P排出到排纸部分9的托盘上。图2显示本专利技术的实施方式1，其具有阻止尘埃落在曝光装置3上 并且在其上聚积的结构。在图2中，曝光装置3包括LED阵列和光学元件阵列，在LED阵 列中沿着垂直于光电导体1移动方向的方向设置有多个LED元件，所 述光学元件阵列将LED发出的输出光线集中到光电导体1的表面。基 于驱动LED的驱动信号，曝光装置3在光电导体1上进行点啄光，以 在光电导体l上形成图像。形成成像装置的上部外壳体的盖10在其右端部10a处铰接，并且 可通过操作者的操作沿箭头B的方向打开和关闭。曝光装置3通过支撑元件12悬挂在盖10上，防尘元件11也悬挂在 盖10上。防尘元件11在光电导体1的曝光位置处沿移动方向(如箭头AA所 示)安装在啄光装置3的上游。防尘元件11的底部比膝光装置3的底 部更接近光电导体l。在光电导体1沿箭头A旋转的过程中，在光电导体1的表面产生气 流，气流跟随光电导体l的转动而动。气流中任何松散的尘埃，例如调 色剂颗粒，被防尘元件11阻挡，从而防止尘埃覆盖曝光装置3的发光 表面。铰链10a在曝光位置处沿光电导体1的移动方向安装在曝光装置3 的上游，即，铰链10a对应于箭头A所示的旋转，沿移动方向AA安装 在曝光位置的上游。在任何维护工作中，盖10围绕铰链10a转动，如箭头B所示，将 其位置从实线所示的操作位置改变到虚线所示的非操作位置。曝光装置 3和防尘元件11随盖10 —起移动。尘埃颗粒"C"趋于沿光电导体1的移动方向AA聚积在防尘元件 ll的上游边缘。聚积的尘埃颗粒C趋于掉落，尤其是在盖10打开或者关闭的时候。因为盖10围绕沿光电导体1移动方向AA安装在曝光装置3上游的 铰链10a转动，所以，当盖10打开时，防尘元件11的位置低于曝光装 置3的位置。因此，掉落的尘埃颗粒C不会落到膝光装置3上。现在将详细描述本实施方式的结构，即，防止啄光装置3被尘埃颗 粒C覆盖的结构，同时将其与图3所示的结构比较。在图3中，盖10沿方向Bl围绕沿光电导体1转动方向AA安装在 膝光装置3下游的铰链10a转动，因此，盖10可沿箭头B1所示打开或 关闭。在此结构中，当打开盖10时，防尘元件11的位置高于曝光装置3。结果，尘埃颗粒C落到曝光装置3的发光表面上，如箭头D所示， 从而曝光装置变得积有尘埃。在图2所示的实施方式中，很清楚，可有效地防止曝光装置3变得 积有尘埃。图4显示本专利技术的实施方式2。本实施方式中，防尘元件11由第一防尘部分lla和连接在第一防尘 部分lla底端的第二防尘部分lib构成。在光电导体1的表面和从盖10向着光电导体1的表面突出的第一 防尘部分lla之间形成有间隙，从而跟随光电导体l的转动的气流E被 阻挡，从而阻止尘埃颗粒C进本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成像装置，包括：　光电导体；　曝光装置，其使所述光电导体曝光；　防尘元件，其沿所述光电导体的移动方向设置在所述曝光装置的曝光位置的上游；和　盖，其支撑所述曝光装置和所述防尘元件；　其中，所述盖围绕枢轴打开和关闭，所述枢轴沿所述光电导体的移动方向设置在所述曝光装置的上游。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：森田真次，
申请(专利权)人：柯尼卡美能达商用科技株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]