激光绘图装置、激光绘图方法以及光掩模的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种激光绘图装置、激光绘图方法以及光掩模的制造方法，即使在表面部形成抗蚀膜（感光性树脂膜）的曝光对象物是大型光掩模等那样的大型物的情况下，也不降低生产率、并且对微小区域中的抗蚀膜的膜厚变动也能够设定最合适的曝光量、对含有细微图案的绘图图案也能够不受抗蚀膜膜厚变化的影响而进行良好的绘图图案的绘图的激光绘图装置。其具备：向曝光对象物照射曝光用光束的绘图头；使曝光对象物上的曝光用光束的照射位置移动的扫描单元；根据来自曝光对象物的曝光用光束的反射光束来测定抗蚀膜的膜厚的膜厚测定单元；和根据预先设定的绘图图案以及膜厚测定单元的测定结果来调制曝光用光束的强度的调制单元。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种对曝光对象物照射曝光用光束绘制规定的绘案的，该曝光对象物是半导体晶片、液晶显示装置(LCD)用或光掩模用的基板、光盘用基板等在表面部形成有抗蚀膜(感光性树脂膜)的曝光对象物。
技术介绍
专利文献1特表2003-500847公报以往，提出了用于对半导体晶片、液晶显示装置(LCD)用或光掩模用的基板、光盘用基板等在表面部形成有抗蚀膜(感光性树脂膜)的曝光对象物上，绘制规定的绘案的激光绘图装置。并且，在专利文献1中揭示了在大型光掩模等的基板上，使用激光绘图装置绘制规定的绘案时，预先收集用于预测在绘案中可能产生的失真的信息，根据该信息在预测失真的基础上，生成用于减小该失真的校正对应图，根据该校正对应图来进行图案绘制的激光绘图装置。在该激光绘图装置中，收集抗蚀膜厚度的偏差作为用于预测在描画图案中产生失真的信息。抗蚀膜厚度偏差的测定通过使用接触式膜厚测定机来进行。通过对样本基板涂敷抗蚀膜、并由接触式膜厚测定机在该样本基板的多个部位上进行抗蚀膜的膜厚测定，来收集抗蚀膜的厚度偏差的信息。在此，当抗蚀膜的膜厚偏差超过特定范围时，调整抗蚀膜涂料器(抗蚀膜涂敷装置)，改变涂敷条件，再一次对样本基板涂敷抗蚀膜，以使膜厚的偏差在特定范围内。并且，作为校正对应图，为了根据绘案各处的抗蚀膜厚度偏差的信息，来校正绘案中的线宽，生成决定绘案各处的曝光量(照射剂量ド一ズ量，Dose)的校正量的校正对应图。对于实际上进行曝光的基板，利用与样本基板相同的条件涂敷抗蚀膜，根据校正对应图，校正曝光量(照射剂量)，同时进行与规定的绘案对应的曝光。另外，在如上述的激光绘图装置中，除了实际上进行曝光的基板，还必须在样本基板上涂敷抗蚀膜并测定抗蚀膜的膜厚，这样，就相应地降低了生产率。特别是对于方形基板中至少一边为300mm或300mm以上的大型光掩模，对该光掩模的整个面进行抗蚀膜膜厚的测定使生产率显著地降低。但是，若仅对样本基板中的数个部位进行抗蚀膜的膜厚测定，就降低了曝光量的校正精度。这种情况下，对于微小区域中的抗蚀膜的膜厚变动无法设定最合适的曝光量，对于含有细微图案的绘案，受到抗蚀膜的膜厚变化的影响而质量恶化。
技术实现思路
因此，本专利技术是鉴于上述实际情况而提出的专利技术，目的在于提供一种即使在表面部形成了抗蚀膜(感光性树脂膜)的曝光对象物是大型光掩模等那样的大型物的情况下，也不降低生产率，并且即使对于微小区域中的抗蚀膜的膜厚变动也能设定最适合的曝光量，对于含有细微图案的绘案也能够不受抗蚀膜的膜厚变化的影响而进行良好的绘案绘制的。为了解决上述问题，本专利技术涉及的激光绘图装置具备以下的结构。(结构1)本专利技术涉及的激光绘图装置，其特征在于，具备向在表面部形成了抗蚀膜的曝光对象物照射曝光用光束的绘图头；使曝光对象物上的曝光用光束的照射位置移动的扫描单元；调制曝光用光束的强度的调制单元；和根据来自曝光对象物的曝光用光束的反射光束来测定抗蚀膜膜厚的膜厚测定单元，调制单元根据预先设定的绘案和膜厚测定单元的测定结果，调制曝光用光束的强度。(结构2)本专利技术涉及的激光绘图装置，其特征在于，具备向在表面部形成了抗蚀膜的曝光对象物照射曝光用光束的绘图头；向曝光对象物照射膜厚测定用光束的光学头；使曝光对象物上的曝光用光束和膜厚测定用光束的照射位置移动的扫描单元；调制曝光用光束的强度的调制单元；和根据来自曝光对象物的膜厚测定用光束的反射光束来测定抗蚀膜膜厚的膜厚测定单元，膜厚测定用光束先于该曝光用光束，对曝光对象物上的照射曝光用光束的位置进行照射，调制单元根据预先设定的绘案和膜厚测定单元的测定结果，调制曝光用光束的强度。(结构3)本专利技术根据结构2所述的激光绘图装置，其特征在于，曝光对象物上的曝光用光束的照射位置与曝光对象物上的膜厚测定用光束的照射位置的间隔为10mm或10mm以下。(结构4)本专利技术涉及的激光绘图方法，其特征在于，利用绘图头向在表面部形成了抗蚀膜的曝光对象物照射曝光用光束，使曝光对象物上的曝光用光束的照射位置移动，根据来自曝光对象物的曝光用光束的反射光束测定抗蚀膜的膜厚，根据预先设定的绘案和抗蚀膜的膜厚测定结果调制曝光用光束的强度。(结构5)本专利技术涉及的激光绘图方法，其特征在于，利用绘图头向在表面部形成了抗蚀膜的曝光对象物照射曝光用光束，并向曝光对象物照射膜厚测定用光束，使膜厚测度用光束先于该曝光用光束对照射曝光用光束的位置进行照射地、在曝光对象物上使曝光对象物上的曝光用光束和膜厚测定用光束的照射位置移动，根据来自曝光对象物的膜厚测定用光束的反射光束测定抗蚀膜的膜厚，根据预先设定的绘案和抗蚀膜的膜厚测定结果调制曝光用光束的强度。(结构6)本专利技术涉及的光掩模的制造方法，其特征在于，利用绘图头向在表面部具有抗蚀膜的光掩模坯件照射曝光用光束，使光掩模坯件上的曝光用光束的照射位置移动，根据来自光掩模坯件的曝光用光束的反射光束来测定抗蚀膜的膜厚，根据预先设定的绘案和抗蚀膜的膜厚测定结果调制曝光用光束的强度。(结构7)本专利技术涉及的光掩模的制造方法，其特征在于，利用绘图头向在表面部具有抗蚀膜的光掩模坯件照射曝光用光束，并向光掩模坯件照射膜厚测定用光束，使膜厚测度用光束在照射曝光用光束的位置上先于该曝光用光束进行照射地、在光掩模坯件上使光掩模坯件上的曝光用光束和膜厚测定用光束的照射位置移动，根据来自光掩模坯件的膜厚测定用光束的反射光束测定抗蚀膜的膜厚，根据预先设定的绘案和抗蚀膜的膜厚测定结果调制曝光用光束的强度。本专利技术涉及的激光绘图装置中，调制由绘图头对在表面部形成了抗蚀膜的曝光对象物进行照射的曝光用光束的强度的调制单元，根据预先设定的绘案和根据来自曝光对象物的曝光用光束的反射光束测定抗蚀膜膜厚的膜厚测定单元的测定结果，调制曝光用光束的强度，所以不用样本基板，根据曝光用光束实时地测定抗蚀膜的膜厚，并利用曝光用光束进行绘图。因此，该激光绘图装置，不需要在绘图前进行膜厚测定作业，能够缩短绘图作业所需要的时间。此外，该激光绘图装置由于使用曝光用光束测定抗蚀膜的膜厚，所以不需要安装其他的激光光源，能够使结构简洁化。并且，本专利技术涉及的激光绘图装置中，对由绘图头向在表面部形成了抗蚀膜的曝光对象物照射的曝光用光束的强度进行调制的调制单元，根据基于预先设定的绘案和根据来自曝光对象物的膜厚测定用光束的反射光束来测定抗蚀膜膜厚的膜厚测定单元的测定结果，调制曝光用光束的强度，所以不使用基板，根据曝光用光束实时地测定抗蚀膜膜厚，并利用曝光用光束进行绘图。因此，该激光绘图装置中，不需要在绘图前进行膜厚测定作业，能够缩短绘图作业所需要的时间。此外，在该激光绘图装置中，通过将曝光对象物上的曝光用光束的照射位置与曝光对象物上的膜厚测定用光束的照射位置的间隔设为10mm或10mm以下，能够对利用曝光用光束进行绘图的部位进行正确的抗蚀膜的膜厚测定。即，本专利技术能够提供一种即使在表面部形成了抗蚀膜(感光性树脂膜)的曝光对象物是大型光掩模等那样的大型物的情况下也不降低生产率、并且即使对微小区域中的抗蚀膜的膜厚变动也能够设定最合适的曝光量，对含有细微图案的绘案也能够不受抗蚀膜膜厚变化的影响而进行良好的绘案绘制的激光绘图装置。附图说明图1是表示本专利技术涉及的激光绘图装置的第1实施方式中的结构的方框图。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种激光绘图装置，其特征在于，具备：向在表面部形成抗蚀膜的曝光对象物照射曝光用光束的绘图头；使所述曝光对象物上的所述曝光用光束的照射位置移动的扫描单元；调制所述曝光用光束的强度的调制单元；和根据来自所述曝光对 象物的所述曝光用光束的反射光束来测定所述抗蚀膜膜厚的膜厚测定单元，所述调制单元根据预先设定的绘图图案和所述膜厚测定单元的测定结果，调制所述曝光用光束的强度。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：田添贵久，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]