彩色滤光片及其制造方法技术

本发明专利技术是有关于一种彩色滤光片及其制造方法，其方法包含：提供一基板；形成多数个黑色矩阵于该基板上，且该些黑色矩阵定义出多个次画素区；形成至少一储墨槽于每一该些黑色矩阵上；以及形成一疏墨层于该些黑色矩阵上且暴露出该储墨槽。本发明专利技术的彩色滤光片利用一储墨槽容纳溢流墨水。因此，本发明专利技术中储墨槽搭配疏墨层的设计，能抑制墨水溢流，进而防止彩色滤光片的色偏。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种彩色滤光片，尤其指一种适用于喷墨工艺的彩色滤 光片。
技术介绍
随着液晶显示器的需求成长，彩色滤光片的需求亦随之增加。因此， 降低彩色滤光片制造成本，成了刻不容缓的课题。彩色滤光片的设计需要高色彩纯度、高透明度、高对比等特性，公知的彩色滤光层涂布方法有四种，分别为染色法(Dyeing)、颜料分散法 (Pigment Dispersion)、 电镀沉积法(Electro-Deposition)、 以及印刷法 (Printing)。然而，上述这些方法不仅工艺复杂、工艺设备昂贵外，而且彩 色滤光片的尺寸亦有限制。此外，工艺与尺寸增加时，彩色滤光片良率将 随之下降，因而造成本提高。为解决彩色滤光片工艺的公知问题，近年来发展出喷墨法(Ink-Jet)。 喷墨法具有许多优越的特点，如使用小巧的设备、减少工艺时间、以及减 低墨水消耗量。然而，在利用喷墨法制造彩色滤光片期间，当彩色墨滴喷 入黑色矩阵的次画素区(sub-pixel)时，容易因彩色墨水的高液滴扩散能 力，发生墨水溢流现象，因而造成混色以及颜色分布不均，并影响色彩对 比度，此即色偏现象。为消弭色偏现象，公知的方法是由黄光微影工艺工艺形成挡墙，以加 深画素区容纳墨水的空间，以防止墨水溢流。然而，此种做法不但工艺繁复，而且对于防止色偏的效果亦不明显。另一方面，除了挡墙法以外，另 一公知的方法为形成疏墨层于黑色矩阵上，以防止色偏发生。惟此种方法 仅依赖疏墨层的作用，亦无法有效阻止墨水溢流，制造的出彩色滤光片仍 然有色偏，对于良率的提高效果有限。综上所述，彩色滤光片工艺中，混色的彩色滤层为急待改善的课题。 尤其是喷墨法工艺中，部份墨水溢流越过黑色矩阵，造成色偏，更是刻不 容缓的课题，尚待解决。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种，以有效抑制有 色墨水溢流，进而防止彩色滤光片的色偏。为实现上述目的，本专利技术提供的彩色滤光片，包含 一基板；多数个黑色矩阵，设置于该基板上，其中每一该些黑色矩阵具有至少 一储墨槽，且该些黑色矩阵定义出多个次画素区；以及一疏墨层，设置于该些黑色矩阵上且暴露出该储墨槽。所述的彩色滤光片，其中，该彩色滤光片还包含一滤光层，且该滤光 层设置于每一该些次画素区中。所述的彩色滤光片，其中，该储墨槽宽度为该黑色矩阵宽度的40%至 60%。所述的彩色滤光片，其中，该储墨槽的底部为一锯齿状。 所述的彩色滤光片，其中，该疏墨层具有至少一斜边。 所述的彩色滤光片，其中，该疏墨层为一梯形。 所述的彩色滤光片，其中，该疏墨层的材料至少包含一酯类化合物以 及一含硅混合物。所述的彩色滤光片，其中，该滤光层与该疏墨层之间的接触角介于40度至90度。本专利技术提供的彩色滤光片的制造方法，其步骤包含-提供一基板；形成多数个黑色矩阵于该基板上，且该些黑色矩阵定义出多个次画素区；形成至少一储墨槽于每一该些黑色矩阵上；以及 形成一疏墨层于该些黑色矩阵上且暴露出该储墨槽。 所述的彩色滤光片的制造方法，还包括 形成一滤光层于每一该些次画素区中。所述的彩色滤光片的制造方法，其中，形成该储墨槽的方法包含激光、 黄光微影工艺或半色调光罩曝光(half-tone exposure)。所述的彩色滤光片的制造方法，其中，形成该疏墨层的方法为利用黄 光微影工艺或转印。附图说明图1 5是本专利技术一较佳实施例的彩色滤光片制造流程的剖视图。图6是本专利技术一较佳实施例的黑色矩阵的俯视图。图7是本专利技术一较佳实施例的黑色矩阵的剖视图。图8是本专利技术一较佳实施例的黑色矩阵的剖视图。图9是本专利技术一较佳实施例的黑色矩阵的剖视图。附图中主要组件符号说明ll基板12黑色矩阵13a次画素区13b滤光层14疏墨层15储墨槽具体实施例方式本专利技术的技术特征在于，储墨槽搭配疏墨层的设计，能有效抑制有色 墨水溢流，进而防止彩色滤光片的色偏。因此，本专利技术的制造方法有别于 公知技术中利用挡墙法，或仅依赖疏墨层抑制有色墨水溢流。本专利技术彩色滤光片包含基板、黑色矩阵以及疏墨层。更明确地说， 黑色矩阵是设置于基板上，而且每一黑色矩阵具有至少一储墨槽；疏墨层 设置于黑色矩阵上且暴露出储墨槽。其中，储墨槽可容纳溢流的有色墨水。本专利技术的彩色滤光片可用于液晶显示器中。本专利技术彩色滤光片的制造方法包含步骤提供基板、形成黑色矩阵、 形成储墨槽、以及形成疏墨层。更明确地说，本专利技术的制造方法包含步骤 提供基板；形成黑色矩阵于基板上，且黑色矩阵可定义出次画素区；形成 至少一储墨槽于每一黑色矩阵上；以及形成疏墨层于黑色矩阵上且暴露出 储墨槽。其中，以有色墨水形成滤光层于次画素区中。本专利技术彩色滤光片 的制造方法还包含形成滤光层的步骤。更明确地说，本专利技术的制造方法还 包含步骤形成滤光层于每一次画素区中。本专利技术的黑色矩阵态样不限。较佳为，本专利技术的黑色矩阵为数组排列。 此外，本专利技术的黑色矩阵材质不限。较佳为，本专利技术的黑色矩阵包含金属 或树脂。本专利技术的黑色矩阵功能不限。较佳为，本专利技术的黑色矩阵可定义 多个次画素区。再者，本专利技术的彩色滤光片包括组件不限。较佳为，本发 明的彩色滤光片还包括一滤光层；更佳为，本专利技术的彩色滤光片还包括一 设置于上述次画素区中的滤光层。本专利技术的储墨槽形成位置不限。较佳为，本专利技术的储墨槽形成于黑色 矩阵上。此外，本专利技术的储墨槽尺寸不限。较佳为，本专利技术的储墨槽宽度为黑色矩阵宽度的40%至60%。而且，本专利技术的储墨槽底部形状不限。较 佳为，本专利技术的储墨槽的底部横截面为锯齿状或平面。本专利技术的疏墨层形成位置不限。较佳为，本专利技术的疏墨层形成于黑色 矩阵上，且暴露储墨槽。此外，本专利技术的疏墨层外形不限。较佳为，本发 明的疏墨层具有至少一斜边。更佳为，本专利技术的疏墨层具有梯形的横截面。 再者，本专利技术的疏墨层的材料不限。较佳为，本专利技术的疏墨层的材料至少 包含一酯类化合物以及一含硅混合物。本专利技术的滤光层与疏墨层之间接触角不限。较佳为，本专利技术的滤光层 与疏墨层之间的接触角介于40度至90度。更佳为，本专利技术的滤光层与疏 墨层之间的接触角介于60度至卯度。此外，本专利技术的滤光层与基板之间 接触角不限。较佳为，本专利技术的滤光层与基板之间的接触角介于0度至50 度。另外，本专利技术的基板态样不限。较佳为，本专利技术的基板是一透明基板。 更佳为，本专利技术的基板是一玻璃。本专利技术形成滤光层的方法不限。较佳为，本专利技术形成滤光层的方法包 含喷墨法。此外，本专利技术形成储墨槽的方法不限。较佳为，本专利技术形成储 墨槽的方法包含激光或黄光微影工艺。更佳为，前述黄光微影工艺是利用 半色调光罩曝光(half-toneexposure)。另一方面，本专利技术形成疏墨层的方法 不限。较佳为，本专利技术形成疏墨层的方法为利用转印法或黄光微影工艺。 以下由特定的具体实施例说明本专利技术的实施方式，本领域技术人员 可由本说明书所揭示的内容轻易地了解本专利技术的其它优点与功效。本专利技术 亦可由其它不同的具体实施例加以施行或应用，本说明书中的各项细节亦 可基于不同观点与应用，在不悖离本专利技术的精神下进行各种修饰与变更。实施例18请参考图1至图5，为本专利技术的彩色滤光片制造流程的剖视图。首先， 如图1所示，提供一基板11。在本实施例中，基板11的材质为玻璃。其次，如图2所示，形成多数个黑色矩阵12于基板11上，且使黑色 矩阵12以数组方式排本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩色滤光片，包含：　一基板；　多数个黑色矩阵，设置于该基板上，其中每一该些黑色矩阵具有至少一储墨槽，且该些黑色矩阵定义出多个次画素区；以及　一疏墨层，设置于该些黑色矩阵上且暴露出该储墨槽。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄一晨，李怀安，罗宇城，王君铭，刘佩瑜，孙国升，
申请(专利权)人：中华映管股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]