一种摆阀制造技术

本实用新型专利技术实施例提供了一种摆阀。摆阀包括阀罩、传动组件、驱动组件和阀板；进气口的两侧的阀罩的罩壁内均设置有一个传动组件，每个顶杆的第一端和传动活塞固定，阀罩靠近出气口的一端设置有导出孔，顶杆的第二端穿过导出孔和锁环固定连接，第一密封件位于锁环和导出孔的孔口之间，导出孔的孔壁和顶杆的外壁之间设置有第二密封件；在第一状态下，阀板覆盖出气口，在第二状态下，阀板离开出气口；在摆阀气密性关闭的状态下，阀板处于第一状态，且顶杆推动锁环抵压在阀板上。由于在锁环和导出孔的孔口之间设置有第一密封件，使得导出孔的孔壁和顶杆的外壁之间设置的第二密封件得到密封，避免第二密封件受到腐蚀，进而延长了摆阀的实用寿命。寿命。寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种摆阀


[0001]本技术涉及半导体制造
，特别是涉及一种摆阀。

技术介绍

[0002]等离子体刻蚀通常在工艺腔室完成。在高真空条件下，通过射频电源将刻蚀气体激发成等离子体状态，对液晶基板或晶圆上非金属膜层进行轰击和反应，并生成挥发性物质的方式进行刻蚀。其中，工艺腔室的压力对刻蚀工艺的影响最为显著。时钟摆阀一般位于工艺腔室与泵体之间，通过控制工艺腔室与泵体之间气体通道的启闭，来控制工艺腔室的压力。此外，时钟摆阀还用于气密地关闭气体通道，以测试工艺腔室的漏率。
[0003]目前，时钟摆阀通过驱动器控制阀板的旋转来控制进气口或出气口启闭，来达到控制工艺腔室与泵体之间气体通道的启闭的作用；时钟摆阀通过活塞顶杆施加闭合力将阀板压紧在阀座上，达到气密地关闭气体通道的作用。其中，活塞顶杆位于阀体内部，为保证阀体内部的气密性，通常会在活塞顶杆和阀体内壁之间设置密封环。
[0004]然而，由于时钟摆阀长期处于等离子体的环境中，密封环会逐渐腐蚀并碳化，致使密封作用失效，最终导致时钟摆阀阀体产生漏气，降低了阀体的气密性，且由于密封环位于时钟摆阀阀体内部，无法直接更换，一旦损坏，只能整体更换时钟摆阀，增加了时钟摆阀的后期维修和更换的成本。

技术实现思路

[0005]鉴于上述问题，提出了本技术实施例以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的一种摆阀及方法。
[0006]为了解决上述问题，第一方面，本技术实施例公开了一种摆阀，一种摆阀，其特征在于，所述摆阀包括阀罩、传动组件、驱动组件和阀板；其中，
[0007]所述阀罩包括相对的进气口和出气口；
[0008]所述进气口的两侧的所述阀罩的罩壁内均设置有一个所述传动组件，每个所述传动组件包括传动活塞、至少两个顶杆、锁环和第一密封件；
[0009]每个所述顶杆的第一端和所述传动活塞固定，所述阀罩靠近所述出气口的一端设置有导出孔，所述顶杆的第二端穿过所述导出孔和所述锁环固定连接，所述第一密封件位于所述锁环和所述导出孔的孔口之间，所述导出孔的孔壁和所述顶杆的外壁之间设置有第二密封件；
[0010]所述驱动组件驱动所述阀板在第一状态和第二状态之间切换，在所述第一状态下，所述阀板覆盖所述出气口，在所述第二状态下，所述阀板离开所述出气口；
[0011]在所述摆阀气密性关闭的状态下，所述阀板处于所述第一状态，且所述顶杆推动所述锁环抵压在所述阀板上。
[0012]可选的，所述锁环包括固定部和抵压部；
[0013]所述固定部所在的平面和所述抵压部所在的平面相交，所述抵压部和所述顶杆的
第二端固定连接，所述固定部设置在所述阀罩的进气口所在一侧，且所述阀罩和所述固定部之间设置有第三密封件。
[0014]可选的，所述抵压部为圆环，且所述抵压部的周向设置有多个销孔，多个所述顶杆通过所述销孔固定在所述抵压部。
[0015]可选的，每相邻两个所述销孔之间的圆心距相等。
[0016]可选的，每个所述销孔中均设置有第四密封件。
[0017]可选的，所述第一密封件固定在所述导出孔的孔口处。
[0018]可选的，所述第一密封件固定在所述锁环的第一表面上，其中，所述第一表面为所述锁环远离所述阀板的表面。
[0019]可选的，所述传动组件还包括弹性件；
[0020]所述弹性件的一端固定在所述阀罩的内壁上，所述弹性件的另一端和所述传动活塞固定，其中，所述弹性件的压缩方向和所述传动活塞的运动方向一致。
[0021]可选的，所述传动组件还包括第五密封件，所述第五密封件固定在所述锁环的第二表面上，其中，所述第二表面为所述锁环靠近所述阀板的表面。
[0022]可选的，所述阀罩还包括容纳腔；
[0023]所述容纳腔位于所述出气口所在的一侧，在所述第二状态下，所述阀板容纳在所述容纳腔中。
[0024]本技术实施例包括以下优点：
[0025]本技术实施例中，由于在锁环和导出孔的孔口之间设置有第一密封件，这样，使得导出孔的孔壁和顶杆的外壁之间设置的第二密封件得到密封和保护，进而在第二状态下，阀板离开出气口，气体通道打开的情况下，气体不会进入到阀罩内部，有效的隔绝了等离子体对其的渐变腐蚀，避免第二密封件受到腐蚀，进而延长了摆阀的实用寿命。同时，由于第一密封件位于锁环处，且位于阀罩的罩壁的外部，即使第一密封件发生渐变腐蚀，导致密封失效，也便于快速的更换，进而可以减少摆阀的维修难度与维护成本。
附图说明
[0026]图1是本技术提供的摆阀在第一状态下的结构示意图；
[0027]图2是本技术提供的摆阀在第二状态下的结构示意图；
[0028]图3是本技术提供的摆阀在气密性关闭的状态下的结构示意图；
[0029]图4是本技术提供的摆阀在第三状态下的结构示意图；
[0030]图5是本技术提供的锁环的结构示意图。
[0031]附图标记说明：1-阀罩，2-传动组件，3-驱动组件，4-阀板，11-进气口，12-出气口，13-导出孔，14-第二密封件，15-第三密封件，16-容纳腔，21-传动活塞，22-顶杆，23-锁环，24-第一密封件，25-弹性件，26-第五密封件，231-固定部，232-抵压部，233-手柄；2321-销孔。
具体实施方式
[0032]为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细的说明。
[0033]实施例一
[0034]在对本技术实施例进行详细说明之前，首先对现有的摆阀的应用场景以及出现的技术问题进行介绍。
[0035]等离子体刻蚀通常在工艺腔室完成。在高真空条件下，通过射频信号将刻蚀气体激发成等离子体状态，对液晶基板或晶圆上的非金属膜层进行轰击和反应，并生成挥发性物质的方式进行刻蚀。在影响刻蚀工艺的诸多因素中，压力是一项重要的工艺参数。摆阀位于工艺腔室与泵体之间，摆阀通过控制工艺腔室与泵体之间气体通道的启闭，来控制工艺腔室的压力。
[0036]等离子体刻蚀对工艺腔室的漏率有着较高的要求，一旦工艺腔室的漏率增大，将对刻蚀工艺的品质造成影响，进而影响产品的良品率。因此，需要定期对工艺腔室的漏率进行测试，在测试工艺腔室的漏率时，摆阀可以气密地关闭气体通道，以提供气密的测试环境。
[0037]然而，由于用于等离子体刻蚀常用的气体通常具有腐蚀性，如Cl2、BCl3、CF4、SF6等，因此当摆阀长期处于等离子体的环境中，摆阀包括的密封环会逐渐腐蚀并碳化，致使密封作用失效，最终导致摆阀阀体产生漏气，降低了阀体的气密性，且由于密封环位于摆阀阀体内部，无法直接更换，一旦损坏，只能整体更换时钟摆阀，增加了时钟摆阀的后期维修和更换的成本。
[0038]综上所述，针对现有的摆阀，提出了本技术实施例中摆阀，以解决现有的摆阀包括的密封环易腐蚀的问题。
[003本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种摆阀，其特征在于，所述摆阀包括阀罩、传动组件、驱动组件和阀板；其中，所述阀罩包括相对的进气口和出气口；所述进气口的两侧的所述阀罩的罩壁内均设置有一个所述传动组件，每个所述传动组件包括传动活塞、至少两个顶杆、锁环和第一密封件；每个所述顶杆的第一端和所述传动活塞固定连接，所述阀罩靠近所述出气口的一端设置有导出孔，所述顶杆的第二端穿过所述导出孔和所述锁环固定连接，所述第一密封件位于所述锁环和所述导出孔的孔口之间，所述导出孔的孔壁和所述顶杆的外壁之间设置有第二密封件；所述驱动组件驱动所述阀板在第一状态和第二状态之间切换，在所述第一状态下，所述阀板覆盖所述出气口，在所述第二状态下，所述阀板离开所述出气口；在所述摆阀气密性关闭的状态下，所述阀板处于所述第一状态，且所述顶杆推动所述锁环抵压在所述阀板上。2.根据权利要求1所述的摆阀，其特征在于，所述锁环包括固定部和抵压部；所述固定部所在的平面和所述抵压部所在的平面相交，所述抵压部和所述顶杆的第二端固定连接，所述固定部设置在所述阀罩的进气口所在一侧，且所述阀罩和所述固定部之间设置有第三密封件。3.根据权利要求2所述的摆阀，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：田四方，赵双，彭亮，韩宗帅，步超远，金鑫，刘叶鹏，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：