用来制造排液头的方法、排液头、及排液记录设备技术

本发明专利技术提供一种用来制造排液头的方法，该排液头包括：能量产生元件，用来产生用于排出液体的能量；排出口，用来排出液体；及通道，用于将液体供给到排出口。该方法包括如下步骤：在设有能量产生元件的基板上形成叠层，这样叠层包括具有用来形成通道的光屏蔽膜图案的多个层叠负性光敏树脂层，光屏蔽膜图案布置在其之间；对设置成在叠层中包括负性光敏树脂层通道的部件的部分进行曝光；及除去叠层中的负性光敏树脂层的未曝光部分。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于制造排出液体的排液头的方法，并且更具体地说，涉及一种用来制造喷墨记录头的方法。
技术介绍
作为采用排出液体的排液头的方法，喷墨记录方法是已知的。适于用在喷墨记录方法中的喷墨记录头典型地具有精细的记录排液开口、用来允许液体流动的液体通道、及设置在液体通道的一部分上的排液能量产生元件。下面描述用来制造这样一种喷墨记录头的以前已知的方法的例子。根据在美国专利5,331,344中公开的制造方法，通过以下步骤制造喷墨记录头，即，形成其中待形成墨水通道的第一光敏材料层，接着通过使用掩模在第一光敏材料层上进行用于形成墨水通道的第一图案曝光，然后在第一光敏材料层上形成具有与第一光敏材料层不同的光敏频谱区的第二光敏材料层，接着借助于具有与在用于形成墨水通道的第一图案曝光中使用的光不同波长的光、在第二光敏材料层上进行用于形成排出口的第二图案曝光。根据在美国专利6,447,102和6,520,627中公开的另一种方法，通过层叠具有不同敏感性的两种材料并且用具有变化的强度的光照射来制造喷墨记录头，敏感性的差别通过染料的作用来实现。更具体地说，将通过添加染料而具有缓慢的交联速率和低敏感性的负性抗蚀剂下部层形成在基板(substrate)上，并且将通过不添加染料而具有高敏感性的负性抗蚀剂上部层形成在负性抗蚀剂下部层上。然后，负性抗蚀剂上部和下部层接受用来形成墨水通道壁的第一图案曝光，并且负性抗蚀剂上部层接受用来形成排出口的第二图案曝光。最后，进行显影并且除去非交联部分，因而形成墨水通道和排出口图案。然而，在前一种制造方法中，由于使用旋转涂敷(spin coating)以便在第一光敏材料层上形成第二光敏材料层，所以第一光敏材料层的未曝光的部分可溶解在其中溶解有第二光敏材料的溶剂中。另外，根据在美国专利6,447,102和6,520,627中公开的后一种制造方法，在上部和下部抗蚀剂之间对于光的敏感性的差别可能较小。在任一种方法中，当通过使用显影剂进行显影时，相对于显影剂的可溶解区域与不溶区域之间的边界可能不清楚。因此，显影易受显影剂浓度变化的影响，作为结果，其中形成有排出口的孔口板的厚度可能产生较大范围的变化。这妨碍了以高生产率制造具有非常精细的墨水通道的喷墨记录头。
技术实现思路
本专利技术提供一种用于以高生产率制造具有非常精细的墨水通道的喷墨记录头的方法。根据本专利技术的一个方面，提供一种用来制造排液头的方法，该排液头包括能量产生元件，其构成为产生促使排出液体的能量；排出口，其用于排出液体；及通道，该通道把液体供给到排出口。该方法包括步骤在设有能量产生元件的基板上形成叠层，这样叠层包括具有用来形成通道的光屏蔽膜图案的多个层叠负性光敏树脂层，光屏蔽膜图案布置在其之间；使用排出口掩模，对设置成在叠层中包括负性光敏树脂层通道的部件的部分进行曝光；及除去叠层中的负性光敏树脂层的未曝光部分。通过参照附图对典型实施方式进行如下描述，本专利技术的进一步特征将变得更加明显。附图说明图1A至1G是喷墨记录头的示意剖视图，用于按时间顺序表示根据典型实施方式的用来制造喷墨记录头的方法的基本步骤和根据实施例1的制造步骤。图2A至2H是喷墨记录头的示意剖视图，用来表示根据实施例2的制造步骤。图3A至3H是喷墨记录头的示意剖视图，用来表示根据实施例3的制造步骤。图4A至4E是喷墨记录头的示意剖视图，用来表示根据实施例4的制造步骤。图5A至5G是喷墨记录头的示意剖视图，用来表示根据实施例5的制造步骤。图6是由根据典型实施例的制造方法制造的喷墨记录头的立体图。图7表示一种喷墨记录头盒，该喷墨记录头盒包括由根据典型实施例的制造方法制造的喷墨记录头。图8表示可包括喷墨记录头的一种喷墨记录设备的典型例子。具体实施例方式下面参照附图描述典型实施方式。在如下说明中，将喷墨记录方法描述成本专利技术的一种应用，尽管本专利技术的适用性并不仅限于此。下面描述一种对其可应用本专利技术的喷墨记录头、和一种包括该喷墨记录头的喷墨盒。图6是根据典型实施方式的喷墨记录头的示意立体图。典型实施方式中的喷墨记录头包括硅基板602，该硅基板602设有以预定间距按两排布置的排墨压力产生元件(排墨能量产生元件)601。硅基板602包括设置在两排排墨压力产生元件601之间的供墨口603。供墨口603可由各向异性蚀刻硅形成。在硅基板602上，向上开口并且与排墨压力产生元件601个别对应的排出口605、和从供墨口603到排出口605连通的各个墨水通道由形成部件604的墨水通道壁限定。喷墨记录头布置成，形成有供墨口603的表面面对记录介质的记录表面。喷墨记录头通过把由排墨压力产生元件601产生的压力施加到通过供墨口603填充在墨水通道中的墨水上，从排出口605排出墨滴。把墨滴转印到记录介质上、进行记录。喷墨记录头可包括在诸如打印机、复印机、传真机、及具有打印机单元的文字处理器等的设备中、及与各种处理装置相结合的工业记录设备中。参照图1A至1G描述按照根据典型实施方式的用来制造喷墨记录头的方法制造墨水通道的步骤。图1A至1G是沿图6的线A-A′得到的剖视图。如在图1A中表示的那样，第一光敏材料层3形成在装有加热电阻器(能量产生元件)1的基板2上。第一光敏材料层3的光敏材料的例子包括环氧树脂和聚酰亚胺树脂。然后，如图1B中所示，在第一光敏材料层3上，形成光屏蔽膜层4。作为光屏蔽膜层4的材料，可使用包含金属材料(例如，铬、钛、和/或镍)和/或染料的光致抗蚀剂，以便阻断照射能量。通过反射和/或吸收入射紫外线或X-射线，光屏蔽膜层4阻断射线的能量。光屏蔽膜层4具有足以阻断照射光的能力，并且其膜厚度可变薄。因此，可精确地进行图案构制。然后，如图1C中所示，通过使用掩模19来构制光屏蔽膜层4的图案，形成光屏蔽膜图案5(图1D)。在光屏蔽膜层4由金属材料形成的情况下，可通过使用具有高蚀刻阻力的抗蚀剂作为掩模、利用干式蚀刻工艺进行图案构制。在添加了染料的光致抗蚀剂的情况下，可通过光刻(photolithography)工艺进行图案构制。在这里的说明中，描述一种使用添加有染料的光致抗蚀剂的情形。另外，如图1E中所示，在光屏蔽膜图案5上，形成一个其中待形成喷嘴壁的负性光敏材料层6。其中待形成喷嘴壁的负性光敏材料层6的材料的成份，可以与在其中待形成墨水通道的第一光敏材料层3的成份相同或不同。并且，如有必要，可使用具有不同特性的材料。更明确地说，例如，负性光敏材料层6和第一光敏材料层3之一对于在图案曝光中使用的光具有较高的敏感性，而另一个对其具有较低的敏感性。改变层之间的敏感性的例示方法是添加染料。通过以上描述的过程，在基板2上形成叠层14，该叠层14是光屏蔽膜图案设置在层叠的负性光敏树脂层之间的叠层。然后，如图1F中所示，叠层14使用具有排出口图案的光掩模7接受曝光，从而其中待形成喷嘴壁的负性光敏材料层6具有曝光部分8和未曝光部分9。在这时，因为光屏蔽膜图案5阻断照射光，所以在第一光敏材料层3中曝光其上没有设置光屏蔽图案的部分10。相反，对在第一光敏材料层3中直接设置在光屏蔽膜图案5和排出口掩模7下方的部分11不进行曝光。接着，进行显影。洗提在图1F中表示的未曝光部分9和11，从而形成排出口13和墨水通道12，并且如图1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用来制造排液头的方法，该排液头包括：能量产生元件，其构成为产生促使排出液体的能量；排出口，其用于排出液体；及通道，该通道把液体供给到排出口，该方法包括如下步骤：在设有能量产生元件的基板上形成叠层，这样叠层包括具有用来形成通道的光屏蔽膜图案的多个层叠的负性光敏树脂层，光屏蔽膜图案布置在其之间；使用排出口掩模，对设置成在叠层中包括负性光敏树脂层通道的部件的部分进行曝光；及除去叠层中的负性光敏树脂层的未曝光部分。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：服田麻纪，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]