【技术实现步骤摘要】
一种显示面板的制造方法、显示面板及显示装置
[0001]本专利技术属于显示
,具体涉及一种显示面板的制造方法、显示面板及显示装置。
技术介绍
[0002]平面显示装置具有机身薄、省电、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用。而随着信息技术的发展,人们对平面显示装置的需求得到了快速的增长。为了满足这种需求,以液晶显示装置(LCD,Liquid Crystal Display)、等离子体显示器(PDP,PlasmaDisplay Panel)、有机发光显示装置(OLED,Organic Light Emitting Diode)为代表的显示装置都得到了迅猛地发展。
[0003]有机发光显示装置由于同时具备自发光、高亮度、宽视角、高对比度、可挠曲、低能耗、不需背光源、反应速度快等特性,因此受到广泛的关注,并作为新一代的显示方式,已开始逐渐取代传统液晶显示装置,被认为是下一代平面显示装置的新兴应用技术,并被广泛应用在手机屏幕、电脑显示器、全彩电视机等领域。有机电致发光器件与传统的液晶显示器不同,其无需背光源,直接在玻璃基板 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制造方法,其特征在于,包括:提供衬底基板;通过第一次曝光在所述衬底基板上形成具有像素坑的第一光阻层,所述第一光阻层的材料包括混合有光敏材料的负性光阻材料;对所述第一光阻层进行第二次曝光形成最终光阻层,所述最终光阻层包括剩余部分的第一光阻层及位于所述剩余部分的第一光阻层上的第二光阻层,且所述第一光阻层和所述第二光阻层的亲水特性不同。2.根据权利要求1所述的显示面板的制造方法,其特征在于,通过第一次曝光在所述衬底基板上形成具有像素坑的第一光阻层,包括:在所述衬底基板上涂布混合有光敏材料的负性光阻材料;利用紫外光对所述混合有光敏材料的负性光阻材料进行第一次曝光形成初始光阻层;对所述初始光阻层进行显影和刻蚀形成具有像素坑的第一光阻层。3.根据权利要求2所述的显示面板的制造方法,其特征在于,所述紫外光的光照强度为355-375nm。4.根据权利要求1所述的显示面板的制造方法,其特征在于,对所述第一光阻层进行第二次曝光形成最终光阻层,包括:利用紫外光对所述第一光阻层进行第二次曝光形成...
【专利技术属性】
技术研发人员:蔡奇哲,汪红,
申请(专利权)人:咸阳彩虹光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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