具有抗腐蚀涂层的金属丝以及用于涂覆金属丝的设备和方法技术

一种用于通过等离子体沉积连续地涂覆丝的设备，包括至少一个等离子体沉积室(14)，所述至少一个等离子体沉积室具有气密的入口(16)和气密的出口(18)，所述气密的入口和气密的出口能够在丝(12)穿过它们时在等离子体沉积室(14)内维持减压，所述丝行进通过等离子体沉积室(14)。在等离子体沉积室(14)中设置等离子体射线(32)的至少一个发生器(30)，用于在丝(12)的处于气密的入口(16)与气密的出口(18)之间的部分中将目标材料(34)沉积在所述丝的外表面上。在所述设备中设置传输系统(40)，以便逐步地将丝(12)拉动通过等离子体沉积室(14)。(14)。(14)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有抗腐蚀涂层的金属丝以及用于涂覆金属丝的设备和方法


[0001]本专利技术涉及一种用抗腐蚀涂层保护的金属丝。本专利技术还涉及用抗腐蚀涂层保护金属丝的设备和方法。
[0002]已经特别地参考金属丝研发了本专利技术，所述金属丝被用使用等离子体沉积方法生产的抗腐蚀涂层保护。
[0003]本专利技术特别地还涉及适合于涂覆该金属丝的设备和方法。已经特别地关于借助PPD技术(脉冲等离子体扩散)进行的等离子体沉积方法研发了本专利技术。

技术介绍

[0004]已知例如由钢生产金属丝，所述金属丝被用来制造用于各种用途的金属网，例如在土木建筑领域中被用于保护堤岸、斜坡等的金属网。为了避免钢丝的腐蚀，通常规定通过抗腐蚀涂层、例如通过镀锌来对钢丝进行保护。通常在热状态中通过其中金属丝被浸没在熔融的金属浴中的工艺来进行镀锌。为了将涂层金属维持于熔融状态中，该措施在能量方面是昂贵的。此外，难以精确地控制涂层的厚度，所述厚度可能变得比需要的厚，从而导致浪费涂层材料。
[0005]另一方面，存在通过不连续的等离子体沉积工艺用材料层涂覆物体的已知技术。特别地，存在已知的等离子体沉积技术，比如PPD技术(脉冲等离子体沉积)。该技术基于颗粒的物理沉积原理，发现所述原理对于生产各种类型的薄涂层(比如氧化物层、金属层、碳层等)来说是有利的。PPD技术在许多专利文献中都有描述，包括Organic Spintronics的EP2936538。PPD技术的优点包括：涂层的显著的沉积速度以及涂层在结晶度、粗糙度以及附着力方面的极佳质量。此外，由于等离子体射线的方向性，等离子体沉积技术以及特别地PPD技术容许减少填料材料的使用。这些优点使得等离子体沉积技术在将涂层施加至单个物体的表面上的方面是有利的，但是如今已知的实施方式容许仅仅在封闭的腔室中进行作业，这阻止连续地使用该技术。此外，所有等离子体沉积技术都具有等离子体射线的方向性的缺点，结果是在待涂覆的产品中产生阴影区域，这不容许将涂层均匀地施加至金属丝的整个圆筒形表面上。

技术实现思路

[0006]为了克服现有技术的缺点，本专利技术提出了提供一种用于通过等离子体沉积涂覆丝、特别地但非唯一地金属丝的新颖设备。特别地，该丝涂覆设备提供对等离子体沉积技术的使用，以便以连续的方式获得大长度丝的涂层。因此，本专利技术的丝涂覆方法提出了以高的生产速度以及减少的浪费以连续的方式涂覆丝。相对于通过在热状态下进行镀锌的丝涂覆技术或本领域中已知的其它金属涂覆技术，这容许以显著降低的成本和时间生产大量的被涂覆丝。
[0007]为了实现所指示的目的，本专利技术还涉及一种用于涂覆丝的设备，所述设备具有在所附权利要求中所阐述的特征。本专利技术还涉及一种用于生产涂覆丝的方法。本专利技术进一步
涉及一种以该方式涂覆的丝。
[0008]根据第一方面，描述了一种用于通过等离子体沉积来涂覆丝的设备。该设备可以包括至少一个等离子体沉积室。等离子体沉积室可以设置有入口和出口。进入和离开等离子体沉积室的入口和出口可以被生产成使得在行进通过等离子体沉积室的丝穿过进入和离开等离子体沉积室的入口和出口时是气密的，以便在离子体沉积室本身内维持预定的减压。在离子体沉积室中可以布置等离子体射线的至少一个发生器，所述发生器可以被致动以便沉积材料，所述材料是分子粉末状的并且由撞击目标的能量流产生；分子化粉末可以被沉积在进入离子体沉积室中的丝的外表面上，即沉积在丝的处于离子体沉积室的气密的入口与气密的出口之间的部分中。该设备还可以设置有拉动系统，拉动系统逐步地将丝拉动通过等离子体沉积室。拉动动作可以被以恒定的或可变的速度执行，或者可以随着时间的推移以周期性的前进间隔按部分进行。
[0009]根据一个特定方面，所述设备可以包括在等离子体沉积室上游的至少一个减压室，以便从环境压力改变为存在于用于等离子体涂覆的沉积室中的减压。以这种方式，可以减小紧邻等离子体沉积室的上游和下游的压力差，以使得可以容易地在所述室中补偿由于用于丝的入口和出口的存在而引起的潜在压力损失，而不存在过多的能源消耗。出于等离子体沉积的目的，优选地使所述室内的减压不经受过大的变化。优选地，每个减压室可以设置有气密的入口，丝在其朝向等离子体沉积室的进程中被引导通过所述入口。类似地，所述设备可以包括在等离子体沉积室下游的至少一个加压室，以便逐步地限制从所述室的减压至环境压力的压力增加。优选地，每个加压室可以设置相应的气密的出口，丝可以通过所述出口被逐步地排出。
[0010]根据另一方面，所述设备可以设置振荡系统，所述振荡系统容许丝在其穿过等离子体沉积室期间围绕丝的纵向轴线振荡。以这种方式，可以通过放置在等离子体沉积室中的一个或多个等离子体射线获得目标材料在丝的表面之上的均匀沉积。另外地或替代地，所述设备可以设置振荡系统，所述振荡系统容许等离子体射线的一个或多个发生器在丝穿过等离子体沉积室期间围绕丝的纵向轴线振荡。
[0011]在一个特定实施例中，所述设备可以包括放置在等离子体沉积室中的等离子体射线的三个发生器。等离子体射线的三个发生器可以围绕丝的纵向轴线径向间隔120
°
地布置。以这种方式，等离子体射线的发生器容许以相当均匀的方式将材料从目标沉积在丝上，但丝和/或发生器本身的任何潜在的振荡除外。此外，以120
°
的布置防止等离子体射线撞击放置在等离子体沉积室中的其它发生器中的一个。
[0012]根据另一方面，描述了一种通过等离子体沉积涂覆丝的方法。所述方法可以包括步骤：从气密的入口至气密的出口将丝供应在至少一个等离子体沉积室内。如上所述，气密的入口和气密的出口能够在等离子体沉积室内维持减压。在所述方法期间，可以通过拉动系统将丝逐步地拉动通过等离子体沉积室。所述方法可以进一步包括步骤：致动放置在等离子体沉积室中的等离子体射线的至少一个发生器。等离子体射线的发生器的致动可以容许在丝的位于等离子体沉积室的气密的入口与气密的出口之间的部分中将材料从目标沉积在丝的外表面上。
[0013]根据一个特定方面，所述方法可以设置成使丝和/或等离子体射线的至少一个发生器在目标材料被沉积在丝的外表面上期间围绕丝的纵向轴线振荡。所述振荡容许在丝的
表面上产生目标材料的均匀沉积。
附图说明
[0014]通过下文参考以非限制性示例的方式给出的附图对优选实施例的描述，将理解另外的优点和特征，在附图中：
[0015]-图1是用于生产通过等离子体沉积技术涂覆的丝的设备的示意图，以及
[0016]-图2是等离子体沉积室的根据图1的线II-II的剖视示意图。
具体实施方式
[0017]现在参考图1，示意性地示出了用于涂覆丝12的设备10，所述丝12优选但非排他地为金属丝，例如钢丝或其它金属或金属合金的丝。自然地，该设备可以适于以平行的方式实现多根丝的涂覆。涂层可以是金属材料的涂层。例如，丝12可以被涂覆有锌或锌合金。
[0018]设备10可以包括等离子体沉积室14，在等离子体沉积室14中根据众所周知的特征执行等离子体沉积的方本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于通过等离子体沉积连续地涂覆丝的设备，所述设备包括至少一个等离子体沉积室(14)，所述至少一个等离子体沉积室具有气密的入口(16)和气密的出口(18)，所述气密的入口和气密的出口能够在丝(12)穿过它们时在等离子体沉积室(14)内维持减压，所述丝被从气密的入口(16)引入并且行进通过等离子体沉积室(14)直至气密的出口(18)，在等离子体沉积室(14)中设置等离子体射线(32)的至少一个发生器(30)，用于在丝(12)的处于气密的入口(16)与气密的出口(18)之间的部分中将目标材料(34)沉积在丝的外表面上，设置了传输系统(40)以便逐步地将丝(12)拉动通过等离子体沉积室(14)。2.根据前一权利要求所述的设备，包括在等离子体沉积室(14)上游的至少一个减压室(20a，20b，20c)，以减小环境压力与等离子体沉积室(14)的减压之间的压力差。3.根据前一权利要求所述的设备，其特征在于，丝(12)穿过每个减压室(20a，20b，20c)，所述丝被通过相应的气密的入口(22a，22b，22c)逐步地引导至每个减压室中。4.根据前述权利要求中的任一项所述的设备，包括在等离子体沉积室(14)的下游的至少一个加压室(24a，24b，24c)，以减小等离子体沉积室(14)的减压与环境压力之间的压力差。5.根据前述权利要求4所述的设备，其特征在于，丝(12)穿过每个加压室(24a，24b，24c)，所述丝被经由相应的气密的出口(26a，26b，26c)逐步地从每个加压室排出。6.根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，振荡系统容许丝(12)在其穿过等离子体沉积室(14)期间围绕所述丝的纵向轴线振荡。7....

【专利技术属性】
技术研发人员：F，
申请(专利权)人：奥菲奇内，
类型：发明
国别省市：