烹饪器具制造技术

本发明专利技术提供了一种烹饪器具，包括：炉盘，炉盘的基板被配置为放置锅体，炉盘包括：加热模组，加热模组被配置为对锅体进行加热；检锅模组，设于所述炉盘内部，检锅模组被配置为按照预设时间间隔检测基板的温度分布和温度变化，并将温度分布和温度变化发送至加热模组，其中，加热模组被配置为根据温度分布确定锅体在基板的放置区域，并对放置区域的锅体进行加热，加热模组还被配置为根据温度变化确定确定锅体移动的目标区域，以及控制加热模组对目标区域进行预热。通过本发明专利技术的技术方案，有利于更加准确地检测锅体的材质、大小和放置区域等参数，同时，也有利于提升烹饪效率，提升了用户的使用体验。的使用体验。的使用体验。

【技术实现步骤摘要】
烹饪器具


[0001]本专利技术涉及烹饪
，具体而言，涉及一种烹饪器具。

技术介绍

[0002]电磁炉作为一种最常用的烹饪器具，其加热方案通常是基于电磁炉的微晶面板(触控面板)设置多个同心的磁感线圈对锅体进行加热，并且在微晶面板下设置一个热敏电阻或温度传感器检测锅体的烹饪温度。
[0003]相关技术中，针对锅体的检测通常是基于锅体的放置区域，改进磁感线圈的结构和布局，以实现电磁场的均匀分布，进而提高加热效率。
[0004]但是，这种磁感线圈对于小型锅体来说，加热功率仍然是极大浪费的，且线圈重量大，不仅导致炉盘的体积大，也会导致炉盘笨重，严重地影响用户的使用体验。
[0005]另外，锅体在烹饪过程中可能发生位置移动，基于涡流效应加热的锅体移动后会将热量传输至炉盘的基板，会导致锅体热量损失，进而影响锅体的加热效率。
[0006]综上，整个说明书对
技术介绍
的任何讨论，并不代表该
技术介绍
一定是所属领域技术人员所知晓的现有技术，整个说明书中的对现有技术的任何讨论并不代表认为该现有技术一定是广泛公知的或一定构成本领域的公知常识。

技术实现思路

[0007]本专利技术旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。
[0008]为此，本专利技术的第一方面在于提供一种烹饪器具。
[0009]为了实现上述目的，根据本专利技术的第一方面的实施例，提出了一种烹饪器具，包括：炉盘，所述炉盘的基板被配置为放置所述锅体，所述炉盘包括：加热模组，所述加热模组被配置为对所述锅体进行加热；检锅模组，集成于所述基板设置，所述检锅模组被配置为按照预设时间间隔检测所述基板的温度分布和温度变化，并将所述温度分布和所述温度变化发送至所述加热模组，其中，所述加热模组被配置为根据所述温度分布确定所述锅体在所述基板的放置区域，并对所述放置区域的锅体进行加热，所述加热模组还被配置为根据所述温度变化确定所述锅体移动的目标区域，以及控制所述加热模组对目标区域进行预热。
[0010]在上述技术方案中，可选地，所述加热模组还被配置为根据所述温度变化和所述放置区域，确定所述锅体的位置变化，以及根据所述位置变化预测所述锅体移动的目标区域，以及控制所述加热模组对目标区域进行预热。
[0011]在该技术方案中，通过在基板上设置检锅模组，检测的温度分布主要用于确定锅体的放置区域，由于锅体的热传导率比空气的热传导率高，基于锅体对热量的吸收作用，在对磁感线圈施加同样的激励频率下，锅体对应的放置区域的基板吸收较多热量，检测到的温度升高较慢的区域对应于锅体的放置区域，同时，可以确定锅体的大小。
[0012]另外，通过控制检锅模组按照预设时间间隔检测温度变化，若锅体发生移动，则通过温度变化能够确定锅体移动的目标区域，并且通过控制加热模组对目标区域进行预热来
提高加热锅体的效率，降低锅体移动后的热量损失，有利于提升锅体的加热效率。
[0013]进一步地，放置区域是基于涡流效应确定的加热区域，也即放置区域的基板并不产热，而目标区域可以是基于红外加热或热阻加热来提高基板温度的加热区域。
[0014]其中，预设时间间隔可以是研发人员预设的数值，也可以是根据加热模组的功率和/或频率设定的数值。
[0015]根据本专利技术的上述烹饪器具，还可以具有以下技术特征：
[0016]在上述技术方案中，可选地，所述加热模组包括：红外加热涂层，设于所述基板上，所述红外加热涂层被配置为响应于接收到的红外辐射发热；红外辐射发射器，设于所述红外加热涂层的下侧，所述红外辐射发生器被配置为生成第一加热功率对应的红外辐射并定向发送至所述放置区域，和/或所述红外辐射发生器还被配置为生成第二加热功率对应的红外辐射并定向发送至所述目标区域，其中，所述第二加热功率小于或等于所述第一加热功率。
[0017]在该技术方案中，通过设置基板具有红外加热涂层，红外辐射可以向局部的红外加热涂层发出，进而结合检测到的锅体的放置区域，控制基板上与锅体对应的红外加热涂层生成热量，进而在保证锅体烹饪效果的同时，进一步地降低加热功耗，另外，由于红外加热涂层的突出特点是轻薄，因此，结合红外加热涂层和磁感线圈对锅体进行加热，也有利于进一步地优化炉盘的整体重量和体积。
[0018]具体地，放置区域对应的红外加热涂层生成的热量用于加热锅体，而目标区域对应的红外加热涂层用于预热，以降低锅体移动后的热量流速，有助于缩短烹饪时长，进而提升用户的使用体验和食用口感。
[0019]在上述任一技术方案中，可选地，所述检锅模组还包括：检锅线圈阵列，集成于所述基板设置，所述检锅线圈阵列中的任一检锅单元包括至少两个相互耦合的磁感线圈，任一所述检锅单元能够单独对所述锅体进行加热，并在加热过程中生成谐振电压，其中，所述谐振电压被配置为确定所述放置区域，和/或确定所述锅体的属性信息，所述属性信息包括所述锅体的材质、形状和大小中的至少一种参数。
[0020]在该技术方案中，通过设置任一检锅单元包括至少两个相互耦合的磁感线圈，因此，任一所述检锅单元能够单独对所述锅体进行加热，并在加热过程中生成谐振电压，对读取到的值进行排序，具体地，找到谐振电压最大值V
max
和谐振电压最小值V
min
，若检测到V
max-V
min
>
▽
V时，则认为加热区域内放置有铁锅，进一步的，读取谐振电压最小值V
min
及以其为几何中心的N个磁感线圈的谐振电压值V
N
，当V
N
(N可以为正整数或平面坐标点的序号)的值小于谐振电压阈值V
A
时，则判定这些磁感线圈对应的基板位置放置锅体，并进一步地确认锅体的大小。
[0021]在上述任一技术方案中，可选地，所述检锅模组还包括：温度传感阵列，集成于所述基板设置，所述温度传感阵列被配置为检测所述基板上的温度分布，其中，所述温度传感阵列包括多个温度传感单元，每个所述温度传感单元能够单独检测温度，所述温度传感单元包括与所述磁感线圈串联的热敏电阻。
[0022]在该技术方案中，通过将温度传感阵列设于所述炉盘内部，以确定基板上多个点阵区域的温度值，并汇总为温度分布，能够有效地提高锅体的放置区域检测的可靠性和准确性。
[0023]另外，通过所述温度传感单元包括与所述磁感线圈串联的热敏电阻，不需要单独设置温度传感器，通过读取热敏电阻的电压确定谐振电压，在保证温度检测可靠性和准确性的同时，简化了温度传感单元的设计难度和布局复杂度。
[0024]其中，温度传感阵列可以包括多个电阻式的测温单元和/或多个红外测温计。
[0025]在上述任一技术方案中，可选地，所述检锅单元的外径尺寸范围为5mm～100mm。
[0026]在该技术方案中，所述检锅单元的外径尺寸优选为35mm。
[0027]在上述任一技术方案中，可选地，所述检锅单元的厚度范围为1mm～5mm。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种烹饪器具，其特征在于，包括：炉盘，所述炉盘的基板被配置为放置所述锅体，所述炉盘包括：加热模组，所述加热模组被配置为对所述锅体进行加热；检锅模组，设于所述炉盘内部，所述检锅模组被配置为按照预设时间间隔检测所述基板的温度分布和温度变化，并将所述温度分布和所述温度变化发送至所述加热模组，其中，所述加热模组被配置为根据所述温度分布确定所述锅体在所述基板的放置区域，并对所述放置区域的锅体进行加热，所述加热模组还被配置为根据所述温度变化确定所述锅体移动的目标区域，以及控制所述加热模组对目标区域进行预热。2.根据权利要求1所述的烹饪器具，其特征在于，所述加热模组还被配置为根据所述温度变化和所述放置区域，确定所述锅体的位置变化，以及根据所述位置变化预测所述锅体移动的目标区域，以及控制所述加热模组对目标区域进行预热。3.根据权利要求1或2所述的烹饪器具，其特征在于，所述加热模组包括：红外加热涂层，设于所述基板上，所述红外加热涂层被配置为响应于接收到的红外辐射发热；红外辐射发射器，设于所述红外加热涂层的下侧，所述红外辐射发生器被配置为生成第一加热功率对应的红外辐射并定向发送至所述放置区域，和/或所述红外辐射发生器还被配置为生成第二加热功率对应的红外辐射并定向发送至所述目标区域，其中，所述第二加热功率小于或等于所述第一加热功率。4.根据权利要求1或2所述的烹饪器具，其特征在于，所述检锅模组还包括：检锅线圈阵列，集成于所述基板设置，所述检锅线圈阵列中的任一检锅单元包括至少两个相互耦合的磁感...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘志才，王云峰，雷俊，马志海，朱成彬，区达理，刘经生，冯江平，
申请(专利权)人：佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司，
类型：发明
国别省市：