提供抑制由于接触孔周围的取向膜引起的显示不均的显示装置。显示装置具备阵列基板、对置基板和液晶层。在阵列基板的一个面，设有在第1方向上隔开间隔排列的多个信号线、在第2方向上隔开间隔排列的多个扫描线、第1有机绝缘膜、以及设在第1有机绝缘膜之上的第2有机绝缘膜。第2接触导电层经由在第1有机绝缘膜中开设的第1接触孔而与第1接触导电层接触。第2接触导电层与第1接触导电层接触的接触区域的至少一部分被第2有机绝缘膜覆盖。经由在第2有机绝缘膜中开设的第2接触孔，第1电极与第2接触导电层电连接。此外，第1接触孔和第2接触孔相互在第2方向上错开。互在第2方向上错开。互在第2方向上错开。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显示装置
[0001]本专利技术涉及显示装置。
技术介绍
[0002]在专利文献1中，记载有抑制由接触孔周围的取向膜引起的显示不均的显示装置。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2017－146449号公报
技术实现思路
[0006]专利技术要解决的课题
[0007]在专利文献1的技术中，虽然抑制了由接触孔周围的取向膜引起的显示不均，但希望进一步抑制显示不均的发生。
[0008]本专利技术的目的在于，提供抑制由接触孔周围的取向膜引起的显示不均的显示装置。
[0009]用来解决课题的手段
[0010]一技术方案的显示装置具备：阵列基板；对置基板，具备滤色器；以及液晶层，在上述阵列基板与上述对置基板之间；在上述阵列基板的一个面，设有在第1方向上隔开间隔排列的多个信号线、在第2方向上隔开间隔排列的多个扫描线、设在上述信号线之上的第1有机绝缘膜、以及设在上述第1有机绝缘膜之上的第2有机绝缘膜；在被上述扫描线和上述信号线包围的区域，分别设有半导体层、第1接触导电层、第2接触导电层和第1电极；在上述半导体层的第1部分，电连接着上述信号线，在上述半导体层的第2部分，电连接着上述第1接触导电层；上述第2接触导电层经由在上述第1有机绝缘膜中开设的第1接触孔而与上述第1接触导电层接触；上述第2接触导电层与上述第1接触导电层接触的接触区域的至少一部分被上述第2有机绝缘膜覆盖；经由在上述第2有机绝缘膜中开设的第2接触孔，上述第1电极与上述第2接触导电层电连接；上述第1接触孔和上述第2接触孔相互在上述第2方向上错开。
附图说明
[0011]图1是表示实施方式1的显示装置的分解立体图。
[0012]图2是示意地表示阵列基板的平面图。
[0013]图3是表示实施方式1的显示区域的像素排列的电路图。
[0014]图4是在像素的示意性平面图中说明检测电极的平面图。
[0015]图5是在像素的示意性平面图中说明像素电极的平面图。
[0016]图6是说明图4的VI－VI
’
剖面的局部剖面图。
[0017]图7是用来说明实施方式1的开关元件的平面图。
[0018]图8是用来说明实施方式1的接触孔的平面图。
[0019]图9是说明图8的IX－IX
’
剖面的局部剖面图。
[0020]图10是用来说明金属布线的宽度扩大部的剖面图。
[0021]图11是用来说明传感器布线的宽度扩大部的剖面图。
[0022]图12是用来说明金属布线的宽度扩大部的剖面图。
[0023]图13是用来说明金属布线的宽度扩大部的平面图。
[0024]图14是用来说明实施方式2的接触孔的平面图。
[0025]图15是说明图14的XV－XV
’
剖面的局部剖面图。
[0026]图16是用来说明实施方式3的开关元件的平面图。
[0027]图17是用来说明实施方式3的副像素的示意性说明图。
具体实施方式
[0028]参照附图对用于实施本专利技术的方式(实施方式)详细地进行说明。本专利技术并不由以下实施方式中记载的内容限定。此外，在以下记载的构成要素中，包括本领域技术人员能够容易地想到的构成要素、实质相同的构成要素。进而，能够将以下记载的构成要素适当组合。另外，公开只不过是一例，关于本领域技术人员对于保持着本专利技术的主旨的适当变更能够容易地想到的形态，当然包含在本专利技术的范围中。此外，附图为了使说明更明确而有与实际形态相比对各部的宽度、厚度、形状等示意地表示的情况，但只不过是一例，并不限定本专利技术的解释。此外，在本专利技术和各图中，有对关于已出现的附图而说明过的要素同样的要素赋予相同标记并适当省略详细说明的情况。
[0029](实施方式1)
[0030]图1是表示实施方式1的显示装置的分解立体图。如图1所示，显示装置PNL具备阵列基板SUB1和对置基板SUB2。如图1所示，在显示装置PNL中，在显示区域DA的外侧设有周边区域BE。显示区域DA形成为四边形，但显示区域DA的外形的形状不被限定。例如，在显示区域DA中可以有缺口，或者显示区域DA也可以形成为其他多边形，显示区域DA也可以形成为圆形或椭圆形等其他形状。
[0031]在本实施方式中，第1方向X是沿着显示区域DA的短边的方向。第2方向Y是与第1方向X交叉(或正交)的方向。不限于此，第2方向Y也可以相对于第1方向X以90
°
以外的角度交叉。由第1方向X和第2方向Y规定的平面与阵列基板SUB1的面平行。此外，与第1方向X及第2方向Y正交的第3方向Z是阵列基板SUB1的厚度方向。
[0032]显示区域DA是用来使图像显示的区域，是与多个像素Pix重叠的区域。周边区域BE表示比阵列基板SUB1的外周靠内侧并且比显示区域DA靠外侧的区域。另外，周边区域BE可以是将显示区域DA包围的框状，在此情况下，周边区域BE也可以说是边框区域。
[0033]将图像进行显示的显示区域DA包括在检测静电电容的检测装置中包含的传感器区域。如图1所示，检测电极CE在显示区域DA中在第1方向X及第2方向Y上以矩阵状排列多个。各个检测电极CE在平面视图中用矩形或正方形示意地表示，但检测电极CE的详细形状后述。检测电极CE例如由ITO(Indium Tin Oxide)等具有透光性的导电性材料构成。
[0034]如图1所示，在阵列基板SUB1的一面侧的周边区域BE，设有外缘布线CE－G和集成电路CP。例如，外缘布线CE－G沿着显示区域DA的长边和短边连续地设置，将显示区域DA包
围。
[0035]显示装置PNL是传感器区域与显示区域DA一体化的带传感器的显示装置。具体而言，在显示装置PNL中，显示区域DA的部件的一部分成为传感器区域的检测电极CE。
[0036]图2是示意地表示阵列基板的平面图。如图2所示，检测电极CE被狭缝SPB在第1方向X及第2方向Y上划分为矩阵状。在周边区域BE的短边侧，设有连接电路MP和集成电路CP。此外，在周边区域BE的短边侧，连接未图示的柔性基板。另外，连接电路MP和集成电路CP的配置不限于此，例如也可以设置在模组外部的控制基板或柔性基板上。
[0037]检测电极CE经由金属布线TL及连接电路MP而与集成电路CP电连接。金属布线TL供给向检测电极CE供给的驱动信号，将与静电量变化对应的信号向模拟前端发送。多个金属布线TL分别与配置于显示区域DA的多个检测电极CE分别电连接，并被引出到周边区域BE。多个金属布线TL分别沿着第2方向Y延伸，多个金属布线TL在第1方向X上排列配置。例如，内置于集成电路CP的驱动电路经由配置于周边区域BE的连接电路MP和金属布线TL而与多个检测电极CE分别连接。
[0038]在接触孔TH中，有将检测电极CE和重叠于检测电极CE的金属布线TL电连接的连接部CT(参本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种显示装置，其特征在于，具备：阵列基板；对置基板，具备滤色器；以及液晶层，在上述阵列基板与上述对置基板之间；在上述阵列基板的一个面，设有在第1方向上隔开间隔排列的多个信号线、在第2方向上隔开间隔排列的多个扫描线、设在上述信号线之上的第1有机绝缘膜、以及设在上述第1有机绝缘膜之上的第2有机绝缘膜；在被上述扫描线和上述信号线包围的区域，分别设有半导体层、第1接触导电层、第2接触导电层和第1电极；在上述半导体层的第1部分，电连接着上述信号线，在上述半导体层的第2部分，电连接着上述第1接触导电层；上述第2接触导电层经由在上述第1有机绝缘膜中开设的第1接触孔而与上述第1接触导电层接触；上述第2接触导电层与上述第1接触导电层相接触的接触区域的至少一部分被上述第2有机绝缘膜覆盖；经由在上述第2有机绝缘膜中开设的第2接触孔，上述第1电极与上述第2接触导电层电连接；上述第1接触孔和上述第2接触孔相互在上述第2方向上错开。2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，在上述第2有机绝缘膜中开设的上述第1接触孔的壁面和与上述阵列基板的面平行的面所成的角度小于在上述第1有机绝缘膜中开设的上述第2接触孔的壁面和与上述阵列基板的面平行的面所成的角度。3.如权利要求2所述的显示装置，其特征在于，上述第2接触孔的壁面和与上述阵列基板的面平行的面所成的角度小于60度。4.如权利要求3所述的显示装置，其特征在于，上述第2接触孔的壁面和与上述阵列基板的面平行的面所成的角度是45度以上55度以下。5.如权利要求1～4中任一项所述的显示装置，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：宫本素明，石川智一，
申请(专利权)人：株式会社日本显示器，
类型：发明
国别省市：
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