一种控制系统技术方案

本申请涉及一种控制系统，属于工业设备技术领域，所述系统包括：预抽真空室、隔离阀、高真空计、高精度真空计、分子泵、气动阀、粗抽阀、前级压力计、干泵和截止阀；隔离阀连接分子泵和预抽真空室，用于隔离分子泵和预抽真空室；高真空计和高精度真空计容纳在预抽真空室中；气动阀与预抽真空室连通，用于控制向预抽真空室中充入气体；预抽真空室通过粗抽阀与系统泵连接；分子泵通过截止阀连接前级压力计和干泵。解决了现有技术中使用冷泵的情况下可能出现抖动，需要定期维护，成本高的问题；达到了可以减少抖动，降低作业人员的维护成本的效果。降低作业人员的维护成本的效果。降低作业人员的维护成本的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种控制系统


[0001]本申请涉及一种控制系统，属于工业设备


技术介绍

[0002]采用CENTURA5200的晶圆承载平台做PVD 的工艺时，需要在预抽真空室（LOADLOCK）保持高真空度，普通的方式是采用干泵，真空度可以达到10-3
Torr;比如采用干泵+冷泵的方式，真空度可以达到10-6
Torr，但是冷泵面临着震动较大，需要配备压缩机及定期维护的问题。

技术实现思路

[0003]本申请提供了一种控制系统，可以解决现有方案中的问题。本申请提供如下技术方案：
[0004]第一方面，提供了一种控制系统，所述系统包括：
[0005]预抽真空室、隔离阀、高真空计、高精度真空计、分子泵、气动阀、粗抽阀、前级压力计、干泵和截止阀；
[0006]所述隔离阀连接所述分子泵和所述预抽真空室，用于隔离所述分子泵和所述预抽真空室；
[0007]所述所述高真空计和所述高精度真空计容纳在所述预抽真空室中；
[0008]所述气动阀与所述预抽真空室连通，用于控制向所述预抽真空室中充入气体；
[0009]所述预抽真空室通过所述粗抽阀与系统泵连接；
[0010]所述分子泵通过所述截止阀连接所述前级压力计和所述干泵。
[0011]可选的，所述预抽真空室有两个，每个预抽真空室对应于一组隔离阀、高真空计、高精度真空计、分子泵、气动阀、粗抽阀、前级压力计、干泵和截止阀。
[0012]可选的，所述系统还包括可编程逻辑控制器PLC，所述PLC控制器与所述隔离阀、所述高真空计、所述高精度真空计、所述分子泵、所述气动阀、所述粗抽阀、所述前级压力计、所述干泵和所述截止阀电性连接。
[0013] 可选的，所述高精度真空计为MKS Baratron 真空计。
[0014]第二方面，提供了一种控制方法，所述方法包括：
[0015]在初始状态下，开启所述截止阀并启动所述分子泵；所述初始状态下所述气动阀和所述粗抽阀均关闭，所述预抽真空室为大气状态；
[0016]在机台上料完毕后，开启所述粗抽阀，通过系统泵将所述预抽真空室抽至第一预设真空后关闭所述粗抽阀；
[0017]开启所述隔离阀，通过所述分子泵将所述预抽真空室抽至第二预设真空，并执行工艺传输；
[0018]在工艺完成后，关闭所述高真空计后关闭所述隔离阀，开启所述气动阀后给所述预抽真空室充入气体；
[0019]在所述预抽真空室达到大气状态时，关闭所述气动阀，并对所述预抽真空室进行下料。
[0020]可选的，所述方法还包括：
[0021]在通过所述系统泵将所述预抽真空室抽至所述第一预设真空时，通过所述高精度真空计来测量真空状态。
[0022]可选的，所述方法还包括：
[0023]在通过所述分子泵将所述预抽真空室抽至所述第二预设真空时，通过所述高真空计来测量真空状态。
[0024]可选的，所述方法还包括：
[0025]检测每组预抽真空室及其配件所对应的状态；
[0026]在某一组的状态满足工作条件时，控制所述组进行工作，另一组待机；
[0027]在两组的状态均满足工作条件时，按照预设规则控制其中一组进行工作，另一组待机。
[0028]可选的，所述按照预设规则控制其中一组进行工作，包括：
[0029]按照两组的优先级，控制优先级高的一组进行工作。
[0030]可选的，所述方法还包括：
[0031]接收模式选择信号；
[0032]在所述模式选择信号选择自动模式时，执行所述在机台上料完毕后，开启所述粗抽阀，通过系统泵将所述预抽真空室抽至第一预设真空后关闭所述粗抽阀的步骤。
[0033]本申请的有益效果在于：
[0034]通过使用包括分子泵的控制系统，解决了现有技术中使用冷泵的情况下可能出现抖动，需要定期维护，成本高的问题；达到了可以减少抖动，降低作业人员的维护成本的效果。
[0035]同时，通过配置两个预抽真空室以及其对应的组件，使得可以提高控制系统的作业产能，避免了在出现故障时无法作业的问题。
[0036]上述说明仅是本申请技术方案的概述，为了能够更清楚了解本申请的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本申请的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
[0037]图1 是本技术一个实施例提供的控制系统的结构示意图；
[0038]图2 是本技术一个实施例提供的控制系统的电路示意图；
[0039]图3是本技术一个实施例提供的控制方法的方法流程图；
[0040]图4是本技术一个实施例提供的控制系统的一种可能的结构示意图。
具体实施方式
[0041]下面结合附图和实施例，对本申请的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本申请，但不用来限制本申请的范围。
[0042]请参考图1，其示出了本申请一个实施例提供的一种控制系统的结构示意图，如图1所示，所述系统包括：
[0043]预抽真空室、隔离阀、高真空计、高精度真空计、分子泵、气动阀、粗抽阀、前级压力计、干泵和截止阀；
[0044]所述隔离阀连接所述分子泵和所述预抽真空室，用于隔离所述分子泵和所述预抽真空室；
[0045]所述所述高真空计和所述高精度真空计容纳在所述预抽真空室中；
[0046]所述气动阀与所述预抽真空室连通，用于控制向所述预抽真空室中充入气体；
[0047]所述预抽真空室通过所述粗抽阀与系统泵连接；
[0048]所述分子泵通过所述截止阀连接所述前级压力计和所述干泵。
[0049]可选的，所述预抽真空室有两个，每个预抽真空室对应于一组隔离阀、高真空计、高精度真空计、分子泵、气动阀、粗抽阀、前级压力计、干泵和截止阀。图1以预抽真空室包括两个来举例说明。
[0050]可选的，如图2所示，所述系统还包括PLC（Programmable Logic Controller，可编程逻辑控制器）控制器，所述PLC控制器与所述隔离阀、所述高真空计、所述高精度真空计、所述分子泵、所述气动阀、所述粗抽阀、所述前级压力计、所述干泵和所述截止阀电性连接。
[0051]结合图2，PLC控制器与CENTURA系统主机相连，用于与CENTURA系统主机进行指令交换，或者通过CENTURA系统主机进行数据显示和报警显示。
[0052]作业人员可以通过PLC进行参数设置。
[0053]可选的，所述高精度真空计为MKS Baratron 真空计。
[0054]其中，高真空计可以为ION GAUGE。
[0055]综上所述，本实施例提供的控制系统，通过使用包括分子泵的控制系统，解决了现有技术中使用冷泵的情况下可能出现抖动，需要定期维护，成本高的问题；达到了可以减少抖动，降低作业人员的维护成本的效果。
[0056]同时，通过配置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种控制系统，其特征在于，所述系统包括：预抽真空室、隔离阀、高真空计、高精度真空计、分子泵、气动阀、粗抽阀、前级压力计、干泵和截止阀；所述隔离阀连接所述分子泵和所述预抽真空室，用于隔离所述分子泵和所述预抽真空室；所述高真空计和所述高精度真空计容纳在所述预抽真空室中；所述气动阀与所述预抽真空室连通，用于控制向所述预抽真空室中充入气体；所述预抽真空室通过所述粗抽阀与系统泵连接；所述分子泵通过所述截止阀连接所述前级压力计和所述干泵。2.根据权利要求1所述的系统，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋永辉，蔡浩杰，徐伟，王兆丰，
申请(专利权)人：上海松尚国际贸易有限公司，
类型：新型
国别省市：