一种光学薄膜的镀膜制备方法技术

本发明专利技术提供了一种光学薄膜的镀膜制备方法，包括：S1酸分解、S2浸出、S3冷却结晶、S4浓缩、S5水解分离、S6煅烧、S7静压成型、S8低温除气、S9高温除杂、烧结；所述S1酸分解，向钛铁矿（FeTIO3）内倒入浓H2SO4进行酸分解；所述S2浸出，将S1处理后的物料加水浸出；所述S3冷却结晶，对物料进行冷却结晶，去除物料中的FeSO4·

【技术实现步骤摘要】
一种光学薄膜的镀膜制备方法


[0001]本专利技术涉及光学薄膜
，更具体的说，尤其涉及一种光学薄膜的镀膜制备方法。

技术介绍

[0002]光学薄膜是由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子
，制造各种光学仪器。
[0003]主要的光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等。它们在国民经济和国防建设中得到了广泛的应用，获得了科学技术工作者的日益重视。
[0004]镀膜材料制备的主要方法可概括为：1、湿法(水法)制备工艺：酸(碱)溶法、液相萃取法、分馏法、结晶法。
[0005]2、火法高温制备工艺：热还原法、物理汽相沉积(PVD)法、化学汽相沉积(CVD)法、液相外延生长法(LEC)、热等静压成型法、高温烧结法(或熔炼法)。一般材料的制备都是采用特定的湿法工艺和火法工艺相结合的方法，而且不同材料的制备工艺也有所不同。
[0006]有鉴于此，提供一种光学薄膜的镀膜制备方法，旨在通过该技术，达到解决问题与提高实用价值性的目的。

技术实现思路

[0007]本专利技术的目的在于提供一种光学薄膜的镀膜制备方法，以解决上述
技术介绍
中提出的问题和不足。
[0008]为实现上述目的，本专利技术提供了一种光学薄膜的镀膜制备方法，由以下具体技术手段所达成：一种光学薄膜的镀膜制备方法，包括：S1酸分解、S2浸出、S3冷却结晶、S4浓缩、S5水解分离、S6煅烧、S7静压成型、S8低温除气、S9高温除杂、烧结；所述S1酸分解，向钛铁矿（FeTIO3）内倒入浓H2SO4进行酸分解；所述S2浸出，将S1处理后的物料加水浸出；所述S3冷却结晶，对物料进行冷却结晶，去除物料中的FeSO4·
7H2O；所述S4浓缩，将物料进行浓缩；所述S5水解分离，将S4处理后的物料进行水解分离，去除废酸溶液，制得偏钛酸（H2TiO3）；所述S6煅烧，将偏钛酸进行煅烧，制得TiO2粉末；所述S7静压成型，将TiO2粉末进行造粒等静压成型；所述S8低温除气，将静压成型后的TiO2粉末进行低温除气；所述S9高温除杂、烧结，将S8处理后的物料进行高温除杂、烧结，制得片（粒）状TiO2镀膜材料。
[0009]由于上述技术方案的运用，本专利技术与现有技术相比具有下列优点：本专利技术通过对光学薄膜的镀膜制备方法的改进，具有设计合理，制备方法较为简单，易于实现，稳定性强，成本较低，易于大批量生产的优点，从而有效的解决了本专利技术提出的问题和不足。
具体实施方式
[0010]下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0011]本专利技术提供一种光学薄膜的镀膜制备方法的具体技术实施方案：一种光学薄膜的镀膜制备方法，包括：S1酸分解、S2浸出、S3冷却结晶、S4浓缩、S5水解分离、S6煅烧、S7静压成型、S8低温除气、S9高温除杂、烧结；S1酸分解，向钛铁矿（FeTIO3）内倒入浓H2SO4进行酸分解；S2浸出，将S1处理后的物料加水浸出；S3冷却结晶，对物料进行冷却结晶，去除物料中的FeSO4·
7H2O；S4浓缩，将物料进行浓缩；S5水解分离，将S4处理后的物料进行水解分离，去除废酸溶液，制得偏钛酸（H2TiO3）；S6煅烧，将偏钛酸进行煅烧，制得TiO2粉末；S7静压成型，将TiO2粉末进行造粒等静压成型；S8低温除气，将静压成型后的TiO2粉末进行低温除气；S9高温除杂、烧结，将S8处理后的物料进行高温除杂、烧结，制得片（粒）状TiO2镀膜材料。
[0012]综上所述：该一种光学薄膜的镀膜制备方法，通过对光学薄膜的镀膜制备方法的改进，具有设计合理，制备方法较为简单，易于实现，稳定性强，成本较低，易于大批量生产的优点，从而有效的解决了本专利技术提出的问题和不足。
[0013]尽管已经示出和描述了本专利技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本专利技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本专利技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学薄膜的镀膜制备方法，包括：S1酸分解、S2浸出、S3冷却结晶、S4浓缩、S5水解分离、S6煅烧、S7静压成型、S8低温除气、S9高温除杂、烧结；其特征在于：所述S1酸分解，向钛铁矿（FeTIO3）内倒入浓H2SO4进行酸分解；所述S2浸出，将S1处理后的物料加水浸出；所述S3冷却结晶，对物料进行冷却结晶，去除物料中的FeSO4·
7H2O；所述S4浓缩...

【专利技术属性】
技术研发人员：钱佳琪，陈小刚，
申请(专利权)人：苏州苏克新型材料有限公司，
类型：发明
国别省市：