一种铗缝Ｘ射线照相装置，由一种吸收器件组成。该部件与一狭缝光阑连接。吸收器件由电子控制的压电簧片构成，控制部件向压电簧片提供控制信号。由阻尼器件为每个压电簧片接收用于控制这些簧片的控制信号。对于每个簧片，该器件包括一个电动势测量电路。并且在工作时提供一个输出信号表示由相对应的簧片产生的反电动势。这些对应的输出信号与控制相关的压电簧片的信号结合，消除簧片的自由振动。（*该技术在2010年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种狭缝射线照相装置，该装置包括一个与狭缝光阑连接的吸收器件，该器件包括可电子控制的压电簧片，该装置还包括一个控制器件，该器件为压电簧片提供控制信号。德国专利(申请号No.8400845)提供了一种装置，该装置包括一个X射线源，该X射线源可以通过一个狭缝光阑以一种扁平的扇形的X射束向接收检查的患者或物体扫描，为了获得均匀的X射线图像在狭缝形光阑的附近设置一个吸收器件，该器件由多个相邻放置的吸收元件组成，这些元件在电控制信号的控制下能够程度不同地插入到X射线束。每个吸收元件可影响扇形X射线束的一个扇区。通过放置在患者或物体的后面的探测器可以获得控制信号。该探测器可测量出每个扇区的X射线束的辐射剂量，提供恰当的电控制信号。就吸收元件而言，采用压电材料制成的簧片较好，将簧片一端夹住固定，而另一端可在上述电控制信号的控制下旋转进入X射线束。这些簧片本身可以吸收一定量的X射线辐射，而且，还可在其自由端放置吸收X射线辐射的特殊元件。这些簧片可以是采用压电材料的简单的簧片，通过加于其上下表面的控制电压使其形成弯曲的形状。这些簧片也可以是所谓的双晶元件。这种元件由两条上下两层叠放的压电材料构成，控制电压加于两个外侧面上面(即顶面和底面，它们电气短接在一起)与中央公共面之间。对这些簧片来说，重要的是要对电控制信号反应迅速并且准确。但是已经发现这些簧片可能发生共振现象。其结果使这些簧片失去控制甚至导至其断裂。尽管采用给控制信号滤波的方法可以防止这种自由振动，但是，采用这种滤波器仍会造成这些簧片的控制迟缓。于是，就需要一种设备以有效的方式来阻止狭缝X射线照相装置中的压电簧片的这种振动。同时保持这些簧片对控制信号的快速反应。为了达到这个目的，根据本专利技术，所述的类型的装置的特征是它有一个阻尼器件(damping devive)该器件接收簧片的控制信号，并包括一个用于每个簧片的电动势(EMF)测量电路，该电路并与簧片相互作用。在工作时，该器件给出一个代表由簧片产生的反电动势的输出信号。该信号与相关的簧片的控制信号相结合。需要指出的是，欧洲专利(申请号No.0，155，065)描述了各种借助于机械方式或在附在簧片上的金属叶片中产生涡流的方式来阻尼簧片型吸收元件或吸收元件的簧片型载体的振动的方法。但是，这些公知的技术并不适合于压电材料的簧片。这些簧片相当脆并且在吸收器件中还另外需要合适的额外空间。本专利技术通过参考下面说明性实施例的附图将得到更详尽的描述。附图说明图1图解性地显示了由吸收器件构成的狭缝X射线照相装置的一个实例的侧视图。图2图解性地显示了由吸收元件构成的压电簧片的一个实例的侧视图;图3采用方框图的形式显示了根据本专利技术压电簧片是如何被控制的;以及图4显示了图3的一部分的一个说明性实施例。图1图解性地显示了由吸收器件构成的已知的狭缝X射线照相装置的一个实施例的侧视图，显示的该装置包括一个X射线源1，该射线源能够通过一个狭缝型光阑2在与扇形射线束3垂直的平面内沿箭头5所指的方向，对要被检查的患者或物体进行扫描。一个X射线探测器6，它可以包括一个X射线胶片盒或一个同步运动的扁长的X射线图象增强管，用于拾取穿过患者的射线以形成所需的X射线影像。当工作时，X射线源沿如箭头7所示的方向绕轴转动，使X射线束沿箭头5所示的方向进行扫描，上述的轴垂直于附图平面，最好通过X射线源的X射线的焦点。为了得到均匀的X射线图像，采用了一种能调节每个扇区的X射线束的吸收器件8，该器件由相邻放置的压电簧片构成，压电簧片也被人们称为压电陶瓷片，因为它们是由具有压电特性的陶瓷材料制造的图2所示的是这种簧片的实例，每个簧片能够影响X射线流3的一个特定区域，因此，簧片的一端被固定，当向簧片提供合适的电信号时簧片弯曲，结果具自由端插入X射线流。所需的控制信号是由探测器9提供的。在此例中，探测器9位于患者与X射线探测器之间，用于拾取在每个时刻穿过患者的X射线辐射并提供每个扇区的X射线束的电信号。该电信号通过处理电路10加到相应的簧片。如图所示，该探测器可以是与X射线束同步运动的扁长的射线探测器，也可以是两维的静止的探测器。图2是一种双晶型压电陶瓷片11的侧面示意图，它包括互相叠放的两条压电材料薄片12和13。所示的薄片在其一端附近在载体14中固定，在此例中，在其自由端还提供了一个吸收元件。间断线表示了它可能的工作位置。簧片由控制电压控制，在工作时，控制电压加于两个接线端16和17之间，其中一端联接于薄片12和13的之间的中央表面18。另一端联接于两个薄片的外侧面19，20。图3以举例的方式显示了压电簧片的控制电路的方框图。本专利技术根据的原理是，压电簧片在工作时产生一个反电动势，其大小取决于簧片的弯曲程度从反电动势中就能够得出一个相应的簧片的阻尼信号，以防止簧片的共振现象。根据本专利技术，每个簧片的反电动势被不断地检测。由瞬时反电动势得到的电信号与由探测器9供给簧片的经过可能的予处理后控制信号相减。这些通过图3得到说明。在工作中，由探测器9提供的控制信号经过予处理后。出现在所示的控制电路30的输入端31。该信号通过反馈点32送入放大器33。放大器33的输出信号送入电动势检测电路34(下面将详细描述)。电动势检测电路34耦合至图5中用图示意的框35表示的压电簧片。此外，电动势检测电路形成(以后将详细解释)一个取决于与于有关的簧片的瞬间反电动势的信号，并通过反馈放大器36负反馈至反馈点32。反电动势依赖于簧片的运动，并使控制电路30形成一种所谓的动态反馈系统。根据本专利技术，在工作期间代表簧片的反电动势的反馈信号可以借助于例如图4中的类型的电路得到。图4显示的是有4个分支40-43的桥式电路。分支41包括两个联接点44，45，它们在工作时联接于被控制的簧片46。分支42、43都包含一个电阻R，该电阻的阻值在实际情况中可取10KΩ。假定将一个其特性相应于一个固定簧片的元件Q连接到桥电路的支路40中，该桥电路可以用来测量簧片46的反电动势为了这个目的，放大器33提供的输出信号被送于顶点47(支路40和41的联接点)和48(支路42和43的联接点)之间。该信号也控制簧片46。在桥电路的另外的顶点49和50之间产生用以反映簧片46的反电动势的反馈信号。该信号被送入差分放大器。该放大器相当于图3中的反馈放大器36或认为配置在其电路中。元件Q可以是一个电容器，因为压电陶瓷片大体上是具有电容性的。但是，最好还是采用与要控制的簧片相似的压电陶瓷片作为元件Q。不过作为元件Q的簧片要完全固定，使其不致因运动而产生反电动势。于是，顶点49和50之间显现的信号全部为簧片46的反电动势。正如指出的那样，既然簧片具有电容性，并且桥的另外的支路43、43在此例中显现为电阻R，桥的输出信号与微分的输入信号成比例。于是反馈信号与簧片46的运动速率成比例。通过此反馈信号，簧片的运动得到很好的控制。同时簧片对控制信号的迅速反应得到保证。应当指出，通过以上披露，对于本
的人员来说，各种修改是显而易见的，例如，在桥电路中的电阻R可以被电容器取代。在该例中，桥的输出信号并非与运动速率成比例，而是与它的时间积分成比例。也就是说与簧片自由端的偏离成比例。这种及类似的修改都视为落入本专利技术的范本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种狭缝Ｘ射线照相装置，由一种吸收部件构成，该部件与一狭缝光阑连接，并包括电控压电簧片，和一个控制部件，该部件为每个簧片提供控制电信号，其特征在于：由一种阻尼器件接收所述的控制信号，该器件包括用于每个簧片的电动势测量电路，并与之相互作用，该部件在工作时提供表示簧片产生的反电动势的输出信号，该信号与控制压电簧片的控制信号相组合。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
【专利技术属性】
技术研发人员：格鲁克，
申请(专利权)人：老代尔夫特光学工业有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]
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