一种新型X射线荧光光谱分析用坩埚及其支架和坩埚钳制造技术

本实用新型专利技术提供了一种新型X射线荧光光谱分析用坩埚及其支架和坩埚钳，坩埚包括坩埚本体、边沿、侧壁散热片和底部散热片；所述坩埚本体为倒圆台状，坩埚本体的底部为水平面，且底部直径为12mm，坩埚本体的高为5mm；所述边沿设置在坩埚本体上端开口处，边沿的宽度为6mm；所述坩埚本体的厚度为0.6mm，坩埚本体的外侧壁上设有侧壁散热片，坩埚本体的底部设有底部散热片。本实用新型专利技术所述的坩埚可以适用于少量样品熔融，散热快且均匀。散热快且均匀。散热快且均匀。

【技术实现步骤摘要】
一种新型X射线荧光光谱分析用坩埚及其支架和坩埚钳


[0001]本技术属于分析化学实验室设备领域，涉及一种X射线荧光光谱分析玻璃熔融制样部件，尤其是涉及一种新型X射线荧光光谱分析用坩埚及其支架和坩埚钳。

技术介绍

[0002]目前，X射线荧光光谱分析(XRF)玻璃熔融制样用的铂-黄金坩埚主要为一种下底直径为32mm左右的坩埚，尺寸较大，一般用0.7g样品和7g混合熔剂熔融制。但有时样品量少，比如用0.1g样品量熔融制样玻璃样片，选择传统的下底直径32mm的铂-黄坩埚时，熔融液体铺不满整个坩埚底部，熔出的样片不成圆形样片，不能测量使用。若增加熔剂用量，也就是增加整个熔融物流体，冷却后可形成圆形样片。但过度的稀释样品，其能不能检出是个难题。因此，需要熔制一个直径较小的样品，此时需要的样品直径约为10mm左右。这就需要针对性的制备一种尺寸较小的坩埚进行熔样。而且，现有的坩埚结构简单，从熔样机中取出的坩埚只能靠静置缓慢冷却，冷却时间较长。另外，刚取出来的坩埚一般是放到砖块上进行冷却，这样会使得坩埚的底部不易散热，导致样品冷却温度不一致。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本技术旨在提出一种可以适用于少量样品熔融、散热快且均匀的新型X射线荧光光谱分析用坩埚及其支架和坩埚钳。
[0004]为达到上述目的，本技术的技术方案是这样实现的：
[0005]一种新型X射线荧光光谱分析用坩埚，包括坩埚本体、边沿、侧壁散热片和底部散热片；
[0006]所述坩埚本体为倒圆台状，坩埚本体的底部为水平面，且底部直径为12mm，坩埚本体的高为5mm；所述边沿设置在坩埚本体上端开口处，边沿的宽度为6mm；所述坩埚本体的厚度为0.6mm，坩埚本体的外侧壁上设有侧壁散热片，坩埚本体的底部设有底部散热片。
[0007]进一步，所述边沿的上表面沿坩埚本体的径向方向设有导流槽。
[0008]进一步，所述边沿的上表面和下表面对应设有卡块，所述卡块为八棱柱状。
[0009]进一步，所述侧壁散热片呈辐射状设置在坩埚本体的外侧壁上。
[0010]进一步，所述坩埚本体的材质为95％铂金和5％黄金。
[0011]本技术还提供了一种适用于上述所述的坩埚的支架，包括下支撑圈、上支撑圈、连接杆、支撑杆、支撑板、连接板、底板和延长片；
[0012]所述上支撑圈位于下支撑圈的上方，上支撑圈的直径大于熔样机内的放置台的放置孔的直径，放置孔的直径大于下支撑圈的直径；所述下支撑圈和上支撑圈通过连接杆连接；
[0013]所述上支撑圈的内侧通过支撑杆连接有弧形的支撑板，坩埚本体的边沿搭在支撑板上；所述支撑板的下表面通过连接板连接有底板，坩埚本体的底部放置在底板上，所述底板的上表面设有卡槽，坩埚本体的底部散热片插在卡槽内；所述上支撑圈的外周设有便于
夹持的延长片。
[0014]进一步，所述下支撑圈的下方固定有米字架。
[0015]进一步，所述卡槽的深度小于底部散热片的高度。
[0016]本专利技术还提供了一种适用于上述所述的坩埚的坩埚钳，所述坩埚钳的钳柄的前端固定有用于套设在卡块上的套筒，套筒的内侧壁为八棱柱状。
[0017]相对于现有技术，本技术所述的新型X射线荧光光谱分析用坩埚及其支架和坩埚钳具有以下优势：
[0018](1)本技术所述的新型X射线荧光光谱分析用坩埚包括坩埚本体、边沿、侧壁散热片和底部散热片；其中坩埚本体底部为水平面，底部直径为12mm，利用该坩埚能够制出直径较小的样片，不会浪费样品。边沿的宽度较宽且与坩埚本体底部半径相同，由于坩埚本体本身较小，宽大的边沿可以方便操作。坩埚本体的外侧壁和底部分别设有侧壁散热片和底部散热片，增大了散热面积，能够有利于对坩埚本体及其内部的样品进行散热，缩短散热时间；而且底部散热片使得坩埚本体的底部不会与砖块直接接触，保证底部与砖块之间留有空隙，以便于空气流通，有利于坩埚底部的散热，使得样品四周及底部冷却温度保持一致，保证了散热均匀。
[0019](2)本技术所述的边沿上设有导流槽，能够方便清洗坩埚时液体的倾倒。边沿的上表面和下表面对应设有卡块，采用特制的坩埚钳夹住上下的卡块，再将坩埚取出，防止坩埚钳没有夹紧坩埚而使得坩埚掉落。
[0020](3)本技术所述的侧壁散热片呈辐射状设置，由于坩埚本体的侧壁呈圆形，相邻的两个侧壁散热片固定在坩埚本体侧壁上的一端之间的距离小，而两个侧壁散热片的自由端之间的距离大，固定在坩埚本体侧壁上的一端直径与热源接触进行导热，距离小更有利于热量的传导，热量顺着散热片向外传递的过程中不断的散热，散热片的自由端之间的距离大有利于使热量散失到周围空气中。
[0021](4)本技术所述的支架的下支撑圈和上支撑圈通过连接杆连接，上支撑圈的直径大于熔样机内的放置台的放置孔的直径，放置孔的直径大于下支撑圈的直径，当使用时，可将该支架插在放置孔内，连接杆卡在放置孔内实现对支架的固定支撑。上支撑圈内侧通过支撑杆连接有弧形的支撑板，支撑板的下表面通过连接板连接有底板，使用时将坩埚本体的边沿搭在支撑板上，坩埚本体的底部放置在底板上，同时使底部散热片相应的插在底板上的卡槽内以固定坩埚。由于坩埚尺寸较小，通过该支架可以将小坩埚放在放置台上，以便于小坩埚的使用，而且该支架是镂空的结构，不会阻碍热量的传递；当需要取出坩埚时，可以通过夹持延长片连通坩埚一起取出，并且在静置降温时坩埚也可以直接放在该支架上降温，由于支架是镂空的，可以保证坩埚的四周及上下都是通透的，有利于降温的均匀性。下支撑圈的下方固定有米字架，米字架可以为支架提供稳定支撑的作用。
[0022](5)本技术所述的坩埚钳的钳柄的前端固定有用于套设在卡块上的套筒，套筒的内侧壁为八棱柱状。当需要取下坩埚，将钳柄前端的套筒分别套在边沿上的卡块上，卡块是八棱柱状，套筒的内侧壁也是八棱柱状，使得卡块不会与套筒发生相对转到，卡的更牢固，有利于对坩埚夹持的稳定性。
附图说明
[0023]构成本技术的一部分的附图用来提供对本技术的进一步理解，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
[0024]图1为本技术实施例所述的新型X射线荧光光谱分析用坩埚的示意图；
[0025]图2为本技术实施例所述的新型X射线荧光光谱分析用坩埚的侧视图；
[0026]图3为本技术实施例所述的新型X射线荧光光谱分析用坩埚的俯视图；
[0027]图4为本技术实施例所述的新型X射线荧光光谱分析用坩埚的仰视图；
[0028]图5为本技术实施例所述的支架的结构示意图；
[0029]图6为本技术实施例所述的支撑座的结构示意图；
[0030]图7为本技术实施例所述的坩埚钳的结构示意图；
[0031]图8为本技术实施例所述的熔样机内的坩埚的放置台的结构示意图；
[0032]图9为本实用新本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型X射线荧光光谱分析用坩埚，其特征在于：包括坩埚本体(1)、边沿(2)、侧壁散热片(5)和底部散热片(6)；所述坩埚本体(1)为倒圆台状，坩埚本体(1)的底部为水平面，且底部直径为12mm，坩埚本体(1)的高为5mm；所述边沿(2)设置在坩埚本体(1)上端开口处，边沿(2)的宽度为6mm；所述坩埚本体(1)的厚度为0.6mm，坩埚本体(1)的外侧壁上设有侧壁散热片(5)，坩埚本体(1)的底部设有底部散热片(6)。2.根据权利要求1所述的新型X射线荧光光谱分析用坩埚，其特征在于：所述边沿(2)的上表面沿坩埚本体(1)的径向方向设有导流槽(3)。3.根据权利要求1所述的新型X射线荧光光谱分析用坩埚，其特征在于：所述边沿(2)的上表面和下表面对应设有卡块(4)，所述卡块(4)为八棱柱状。4.根据权利要求1所述的新型X射线荧光光谱分析用坩埚，其特征在于：所述侧壁散热片(5)呈辐射状设置在坩埚本体(1)的外侧壁上。5.根据权利要求1所述的新型X射线荧光光谱分析用坩埚，其特征在于：所述坩埚本体(1)的材质为95％铂金和5％黄金。6.一种适用于权利要求1-5任一项所述的坩埚的支架，其特征在于：包括下支撑圈(7)、上支撑圈(8)...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘亚轩，赵红坤，田有国，孟远夺，顾雪，王瑾，郝亚波，白国栋，
申请(专利权)人：津标天津计量检测有限公司，
类型：新型
国别省市：