提供一种为防止在副扫描方向的曝光位置偏差，以进行高分辨率曝光的曝光装置。当以与副扫描方向相同方向在发光时间ｔ多行阴极线顺次点灯时，事先考虑阴极线的移动量及移动方向，即曝光装置的副扫描方向的移动量及移动方向，设定各发光部的副扫描方向间距Ｔ为用（ｍ－１／ｎ）Ｐ表示的值。其中Ｐ为曝光装置的间距、ｍ为２以上整数、ｎ为阴极线数。当间距Ｔ设定为（ｍ－１／ｎ）Ｐ时，即使第二阴极线点灯也能曝光给定像素位置，从而能防止由于曝光位置偏差而造成的分辨率降低。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及曝光装置，特别涉及由多个发光元件在主扫描方向上以给定间隔排列配置而成的元件列、在副扫描方向上多列排列配置而成的曝光装置。
技术介绍
使用荧光性有机物质做发光层的有机电致发光元件，被称为有机EL元件，与其他发光元件相比具有容易制造、能构成薄且轻的发光元件等优点，因此，历来是作为薄型显示器用元件予以研究开发而得以发展。近年，由于得到了在发光灰度、发光效率、耐久性能方面也能与发光二极管(LED)相拼比的高性能有机EL元件，开始研讨将其应用于对卤化银感光体等感光体曝光的曝光装置中。作为使用有机EL元件的曝光装置，例如如图8所示，以发出红(R)绿(G)蓝(B)各色光的有机EL元件80按每个颜色在主扫描方向上由多个元件排列配置而成的元件行、以RGB三色为1组、在副扫描方向上多组(图8中为2组)排列配置而形成的。还有，图8中，为区别RGB各色有机EL元件80，在符号末尾处添加表示相应颜色的字母(R/G/B)。该曝光装置中，由于各元件间的光量散差，图像中在副扫描方向上产生条纹斑。为解决该问题，有提议将多行元件行排列配置在副扫描方向上，通过用多行元件行在一条主扫描线反复曝光，可以将元件间光量散差平均化以消除条纹斑的技术(专利文献1)但是，现有的多重曝光装置是通过在副扫描方向上排列配置的多行元件行在一条主扫描线上多重曝光，存在由于在副扫描方向上曝光位置偏差而使得分辨率降低的问题。专利文献1特开2001-356422号公报。
技术实现思路
本专利技术正是为解决上述问题而进行的专利技术，其目的在于提供防止在副扫描方向上曝光位置的偏差、能进行高分辨率曝光的曝光装置。为达到上述目的，本专利技术的第一曝光装置，其特征在于，具有发光元件阵列，让多个发光元件在副扫描方向相对于感光材料排列，由多个各自可独立驱动控制的发光元件沿与所述副扫描方向交叉的主扫描方向排列配置形成的元件行，在所述副扫描方向上排列配置多行而成；驱动控制单元，驱动控制各个所述发光元件，以分时顺次点亮在所述副扫描方向上排列配置的多行元件行。当以与副扫描方向相同方向顺次点亮所述多行元件行时，所述元件行以下式(1)表示的间距排列配置，并且当以与副扫描方向相反方向顺次点亮所述多行元件行时，所述元件行以下式(2)表示的间距排列配置；T＝(m-1/n)P (1)T＝(m+1/n)P (2)式中，P为曝光像素间距，m为2以上的整数，n为在副扫描方向上排列配置的发光元件行数。本专利技术的第一曝光装置，具有发光元件阵列，让多个发光元件在副扫描方向相对于感光材料排列，由多个各自可独立驱动控制的发光元件沿与所述副扫描方向交叉的主扫描方向排列配置形成的元件行，在所述副扫描方向上排列配置多行而成，通过在副扫描方向上排列配置的多个发光元件对感光材料的同一位置多重曝光。驱动控制单元以分时顺次点亮在发光元件阵列中在所述副扫描方向上排列配置的多行元件行，即所谓的无源驱动方式驱动控制各个发光元件。发光元件阵列中，当以副扫描方向相同方向顺次点亮多行元件行时，元件行以上述式(1)表示的间距排列配置。还有，当以副扫描方向相反方向顺次点亮多行元件行时，元件行以上述式(2)表示的间距排列配置。式(1)及(2)中，事先考虑了曝光装置的副扫描方向的移动量及移动方向，来决定各发光部的副扫描方向的间距T，使得即使曝光装置移动了也能对给定像素位置曝光，因此，能够防止在副扫描方向曝光位置的偏差。再有，由于是通过无源驱动进行曝光，因此能使副扫描方向的曝光量分布变窄。其结果，可以实现高分辨率多重曝光。为达到上述目的，本专利技术的第二曝光装置，其特征在于，具有发光元件阵列，让多个发光元件在副扫描方向相对于感光材料排列，由多个各自可独立驱动控制的发光元件沿与所述副扫描方向交叉的主扫描方向排列配置形成的元件行，在所述副扫描方向上排列配置多行而成；驱动控制单元，驱动控制各个所述发光元件，以分时顺次点亮在所述副扫描方向上排列配置的多行元件行。在各元件行发光时间为t、帧间的间隔时间为t1的条件下，当以与副扫描方向相同方向顺次点亮所述多行元件行时，所述元件行以下式(4)表示的间距排列配置，当以与副扫描方向相反方向顺次点亮所述多行元件行时，所述元件行以下式(5)表示的间距排列配置；T′＝{m-t/(n·t+t1)}P(4)T′＝{m+t/(n·t+t1)}P(5)式中，P为曝光像素间距，m为2以上的整数，n为在副扫描方向上排列配置的发光元件行数。第二曝光装置，通过在曝光装置的副扫描方向的移动量及移动方向的基础上，预先还考虑帧间的间隔时间，来决定各发光部的副扫描方向间距T’，使得即使曝光装置移动了也能对给定像素位置曝光，从而在实际驱动顺序中能防止在副扫描方向的曝光位置偏差。另外，由于是通过无源驱动曝光，使在副扫描方向的曝光量分布变窄。其结果，能进行高分辨率多重曝光。在上述第一曝光装置中，以下式(3)表示的副扫描速度v对感光材料扫描曝光。v＝P/(n·t) (3)在上述第二曝光装置中，以下式(6)表示的副扫描速度v′对感光材料扫描曝光。v′＝P/(n·t+t1) (6) 再有，发光元件阵列优选采用有机EL元件，此时，有机EL元件的各发光部相当于本专利技术的“发光元件”。按照本专利技术，可以得到防止副扫描方向的曝光位置偏差，以进行高分辨率曝光的效果。附图说明图1表示有关本专利技术实施方式的曝光装置结构的断面图。图2表示有机EL元件发光部形成模式的俯视图。图3(A)表示当设定阴极线间距T为曝光像素间距P整数倍时阴极线与曝光像素位置关系的图，(B)表示当设定阴极线间距T为由式(1)决定时阴极线与曝光像素位置关系的图。图4表示在有源驱动情况下，(A)为阴极线点灯时发光光量的图表，(B)为阴极线熄灯时发光光量的图表，(C)为感光材料表面曝光量分布的图表。图5表示在无源驱动情况下，(A)为阴极线点灯时发光光量的图表，(B)为阴极线熄灯时发光光量的图表，(C)为感光材料表面曝光量分布的图表。图6(A)表示当设定阴极线间距T为曝光像素间距P整数倍时阴极线与曝光像素位置关系的图，(B)表示当设定阴极线间距T为由式(1)决定时阴极线与曝光像素位置关系的图。图7表示各发光部的每一帧发光时序图。图8表示现有技术的使用有机EL元件的曝光装置结构图。图中10-透明基板，20-有机EL元件，20R、20G、20B-发光部，21-透明阳极，22-有机化合物层，23-金属阴极，30-SLA，31-自聚焦透镜，40-感光材料。具体实施例方式下面，参照附图，详细说明本专利技术的实施方式。如图1所示，有关本实施方式的曝光装置，包括透明基板10、在透明基板10上使用蒸镀法形成的有机EL元件20、将有机EL元件20发出的光聚光并照射到感光材料40上的自聚焦透镜阵列(以下称为“SLA”)30、和支撑透明基板10和SLA30的支撑体50。有机EL元件20是在透明基板10上顺次层叠透明阳极21、含发光层的有机化合物层22、金属阴极23而形成的。通过适当选择含发光层的有机化合物层22的材料，可以得到所期望颜色的发出光，在透明基本10上以后述的给定模式形成发出红色(R)光的发光部20R、发出绿色(G)光的发光部20G、发出蓝色(B)光的发光部20B。还有，对于有机EL元件，各发光部相当于本专利技术的“发光元件”本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种曝光装置，其特征在于，具有：发光元件阵列，让多个发光元件在副扫描方向相对于感光材料排列，由多个各自可独立驱动控制的发光元件沿与所述副扫描方向交叉的主扫描方向排列配置形成的元件行，在所述副扫描方向上排列配置多行而成；驱动控 制单元，驱动控制各个所述发光元件，以分时顺次点亮在所述副扫描方向上排列配置的多行元件行；当以与副扫描方向相同方向顺次点亮所述多行元件行时，所述元件行以下式（１）表示的间距排列配置，并且当以与副扫描方向相反方向顺次点亮所述多行元件行时 ，所述元件行以下式（２）表示的间距排列配置；Ｔ＝（ｍ－１／ｎ）Ｐ（１）Ｔ＝（ｍ＋１／ｎ）Ｐ（２）式中，Ｐ为曝光像素间距，ｍ为２以上的整数，ｎ为在副扫描方向上排列配置的发光元件行数。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：大久保和展，日向浩彰，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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