一种真空镀膜机的沉降机构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种真空镀膜机的沉降机构，真空镀膜机的底部设置有单向阀，单向阀的底部固定连接有管道，管道的底部设置有沉降室，沉降室的底部设置有软管，软管远离沉降室的一侧设置有沉降水箱，沉降水箱的内部设置有隔板，沉降水箱远离隔板的一侧固定连接有闸门，闸门的表面开设有过滤槽，过滤槽的内壁固定连接有弧形侧板，弧形侧板的表面设置有旋转底座，旋转底座的表面活动连接有刷辊，过滤槽的内部设置有分层框架，分层框架内部的两侧分别设置有活性炭网和滤网，沉降水箱远离闸门的一侧设置有储水槽，储水槽的底部设置有阀门，阀门的表面连接有水管，水管远离阀门的一端设置在沉降室的内部。置在沉降室的内部。置在沉降室的内部。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜机的沉降机构


[0001]本技术涉及真空镀膜设备技术，尤其是一种真空镀膜机的沉降机构。

技术介绍

[0002]真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等。目前，真空镀膜机镀膜时镀膜室中在蒸镀，镀膜室中残留部分未蒸镀到薄膜上的蒸气，该蒸气遇冷形成粉尘，粉尘在负压的作用下被真空泵抽走，该粉尘不但影响真空泵正常作业，严重时甚至会损坏真空泵，而且不易清理，因此，提出一种真空镀膜机的沉降机构。
[0003]在中国技术专利申请公开说明书CN210560697U中公开的一种真空镀膜机的沉降机构，该技术具体工作原理：当进行蒸气沉降时，依次打开负压泵和截止阀，使得整个沉降管道中形成负压，将镀膜机体中的蒸气抽入沉降管道，接着打开截止阀、驱动转轴进行转动，从第一通口流入沉降室的蒸气在喷头喷水的沉降作用下，拍打在沉降板上，并随着沉降板最终向下滑落从第三通口滑落到沉降箱体中，但是该真空镀膜机的沉降机构，存在着喷头喷水速率无法控制，如果一旦过量就会存在水资源浪费，但是喷水量减少效果就会大大缩减，以及每次操作都要提前确保沉降箱体内空间足够沉降的问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种真空镀膜机的沉降机构，用于解决现有真空镀膜机沉降机构采用喷水沉降时，水流和沉降箱体的合理利用的问题。
[0005]为了解决上述问题，本技术提供一种真空镀膜机的沉降机构，真空镀膜机的底部设置有单向阀，所述单向阀的底部固定连接有管道，所述管道的底部设置有沉降室，所述沉降室的底部设置有软管，所述软管远离沉降室的一侧设置有沉降水箱，所述沉降水箱的内部设置有隔板，所述沉降水箱远离隔板的一侧固定连接有闸门，所述闸门的表面开设有过滤槽，所述过滤槽的内壁固定连接有弧形侧板，所述弧形侧板的表面设置有旋转底座，所述旋转底座的表面活动连接有刷辊，所述过滤槽的内部设置有分层框架，所述分层框架内部的两侧分别设置有活性炭网和滤网，所述沉降水箱远离闸门的一侧设置有储水槽，所述储水槽的底部设置有阀门，所述阀门的表面连接有水管，所述水管远离阀门的一端设置在沉降室的内部。
[0006]本技术提供的真空镀膜机的沉降机构，还具有以下技术特征：
[0007]进一步地，所述过滤槽位于闸门的中上端。
[0008]进一步地，所述沉降室和沉降水箱之间设置有承重柱。
[0009]进一步地，所述真空镀膜机和沉降水箱的底部均设置有支撑柱。
[0010]进一步地，所述隔板之间间距至少为十公分。
[0011]进一步地，所述储水槽的体积为沉降水箱体积的六分之一。
[0012]本技术具有如下有益效果：真空镀膜机的蒸汽通过单向阀和管道进入沉降室
进行喷水沉降操作，水流将粉尘通过软管带入沉降水箱内，在沉降水箱内部设置有隔板，使得水流流过隔板并逐步平稳沉降，粉尘沉淀到水箱底部；同时处于距离软管最远一侧隔板的水流从闸门流入过滤槽，然后依次通过过滤槽内部刷辊、活性炭网和滤网的配合作用下，将水流过滤，并从储水槽内重新回流至沉降室内，达到水循环利用的结果，也确保沉降水箱内部空间利用率的最大化。
附图说明
[0013]图1为本技术实施例的结构示意图；
[0014]图2为本技术实施例过滤槽的剖面结构示意图。
具体实施方式
[0015]下文中将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0016]如图1至图2所示的本技术的真空镀膜机的沉降机构的一个实施例中，该实施例的真空镀膜机的沉降机构，真空镀膜机1的底部设置有单向阀2，单向阀2的底部固定连接有管道3，管道3的底部设置有沉降室4，沉降室4的底部设置有软管5，软管5远离沉降室4的一侧设置有沉降水箱6，沉降水箱6的内部设置有隔板7，沉降水箱6远离隔板7的一侧固定连接有闸门8，闸门8的表面开设有过滤槽9，过滤槽9的内壁固定连接有弧形侧板10，弧形侧板10的表面设置有旋转底座11，旋转底座11的表面活动连接有刷辊12，过滤槽9的内部设置有分层框架13，分层框架13内部的两侧分别设置有活性炭网14和滤网15，沉降水箱6远离闸门8的一侧设置有储水槽16，储水槽16的底部设置有阀门17，阀门17的表面连接有水管18，水管18远离阀门17的一端设置在沉降室4的内部，在本技术中，真空镀膜机的蒸汽通过单向阀2和管道3进入沉降室4进行喷水沉降操作，水流将粉尘通过软管5带入沉降水箱6内，在沉降水箱6内部设置有隔板7，使得水流流过隔板7并逐步平稳沉降，粉尘沉淀到水箱底部；同时处于距离软管5最远一侧隔板7的水流从闸门8流入过滤槽9，然后依次通过过滤槽9内部刷辊12、活性炭网14和滤网15的配合作用下，将水流过滤，并从储水槽16内重新回流至沉降室4内，达到水循环利用的结果，也确保沉降水箱6内部空间利用率的最大化。
[0017]在本申请的一个实施例中，优选地，过滤槽9位于闸门8的中上端，沉降室4和沉降水箱6之间设置有承重柱19，真空镀膜机1和沉降水箱6的底部均设置有支撑柱20，隔板7之间间距至少为十公分，储水槽16的体积为沉降水箱6体积的六分之一，在本技术中，过滤槽9位于闸门8的中上端，确保过滤的水流为上层水流；隔板7之间的间隔确保水流逐步平稳沉降。
[0018]最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本技术的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本技术各实施例技术方案的精神和范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机的沉降机构，其特征在于，真空镀膜机（1）的底部设置有单向阀（2），所述单向阀（2）的底部固定连接有管道（3），所述管道（3）的底部设置有沉降室（4），所述沉降室（4）的底部设置有软管（5），所述软管（5）远离沉降室（4）的一侧设置有沉降水箱（6），所述沉降水箱（6）的内部设置有隔板（7），所述沉降水箱（6）远离隔板（7）的一侧固定连接有闸门（8），所述闸门（8）的表面开设有过滤槽（9），所述过滤槽（9）的内壁固定连接有弧形侧板（10），所述弧形侧板（10）的表面设置有旋转底座（11），所述旋转底座（11）的表面活动连接有刷辊（12），所述过滤槽（9）的内部设置有分层框架（13），所述分层框架（13）内部的两侧分别设置有活性炭网（14）和滤网（15），所述沉降水箱（6）远离闸门（8）的一侧设置有储...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨伟民，杨官瑜，
申请(专利权)人：河南航晨纳米材料有限公司，
类型：新型
国别省市：