【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光激励存储荧光体(Photoexcitable StoragePhosphor)。具体地,本专利技术涉及能够用于X射线、γ射线或紫外线(UV)辐射成像应用以及用于辐射剂量测定等的光激励存储荧光体。具体地,本专利技术涉及包括+3价氧化态稀土元素的光激励存储荧光体。本专利技术还涉及用于制备光激励存储荧光体的方法。本专利技术进一步涉及包括该光激励存储荧光体的成像板,用于生产包括光激励存储荧光体的成像板的方法,以及成像板在包括医疗、科学成像和放射量测定器在内的各种应用中的其他运用,所述放射量测定器用于身体和环境辐射监控以及辐射治疗中的辐射监控。本专利技术还涉及包括本专利技术的光激励荧光体的放射量测定器。本专利技术还涉及用于本专利技术的光激励存储荧光体的读取技术。
技术介绍
在早期的X射线成像和辐射剂量测定应用中,照相乳胶直接曝光在X射线下。然而,银基胶片对X射线的俘获效率极低,因此引进了荧光屏。荧光屏的成像应用涉及X射线,该X射线穿过目标或是从目标辐射的,然后通过辐射感光荧光层被转换成可见光。该辐射感光荧光层一般呈现在荧光屏(或X射线转换屏)上。通过常规的银基乳胶胶片或板记录可见光。在要求相对强的X射线吸收体的增光屏中使用闪烁体。该闪烁体发射出银基乳胶胶片感光性最高的波长区域内的光。接着需对曝光得到的照相乳胶进行湿化学处理。记录X射线图像的又一方法包括采用称为成像板(IP)的 ...
【技术保护点】
一种光激励存储荧光体,该光激励存储荧光体包括至少一种+3价氧化态稀土元素,其中一旦受到X射线、γ射线或UV辐射,则+3价氧化态降阶为+2价氧化态。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】AU 2004-12-17 20049071921.一种光激励存储荧光体,该光激励存储荧光体包括至少一种+3
价氧化态稀土元素,其中一旦受到X射线、γ射线或UV辐射,则+3
价氧化态降阶为+2价氧化态。
2.根据权利要求1的光激励存储荧光体,其中所述稀土元素是从
包括铈、镨、钕、钷、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥的
组中选取的。
3.根据权利要求1或2的光激励存储荧光体,其中所述稀土元素
是从包括钐、镝、铕、和钆的组中选取的。
4.根据权利要求1至3中任何一项的光激励存储荧光体,其中所
述稀土元素是钐。
5.根据前述任何一项权利要求的光激励存储荧光体,其中所述荧
光体包括至少一种卤素元素。
6.根据权利要求5的光激励存储荧光体,其中所述卤素元素是从
包括氟、氯、碘和溴的组中选取的。
7.根据权利要求5或6的光激励存储荧光体,其中所述卤素元素
是溴或氯。
8.根据权利要求5或6的光激励存储荧光体,其中所述卤素元素
是氯。
9.根据前述任何一项权利要求的光激励存储荧光体,其中所述荧
光体还包括碱土金属。
10.根据权利要求9的光激励存储荧光体,其中所述碱土金属是从
包括钡、钙和锶的组中选取的。
11.根据权利要求10的光激励存储荧光体,其中所述碱土金属是
钡或锶。
12.根据权利要求10或11的光激励存储荧光体,其中所述碱土金
属是钡。
13.根据前述任何一项权利要求的光激励存储荧光体,其中所述光
激励存储荧光体由以下公式(A)表示:
MeX1X2:RE3+,其中Me表示金属离子,
X1和X2是相互独立地从包括氯、氟、溴和碘的组中选取的卤原子;
以及
RE是稀土元素。
14.根据权利要求13的光激励存储荧光体,其中X1和X2彼此不相
同。
15.根据权利要求13或14的光激励存储荧光体,其中所述X1是F。
16.根据权利要求13至15中任何一项的光激励存储荧光体,其中
所述由公式(A)表示的光激励存储荧光体中的金属离子Me是二价金
属离子。
17.根据权利要求16的光激励存储荧光体,其中所述由公式(A)
表示的光激励存储荧光体中的金属离子Me是碱土金属或第II族金属
离子。
18.根据权利要求17的光激励存储荧光体,其中所述由公式(A)
表示的光激励存储荧光体中的金属离子Me是碱土金属离子。
19.根据权利要求18的光激励存储荧光体,其中所述碱土金属是
锶、钡或钙。
20.根据前述任何一项权利要求的光激励存储荧光体,其中所述光
激励存储荧光体包括二价金属卤化物和稀土元素。
21.根据前述任何一项权利要求的光激励存储荧光体,其中所述光
激励存储荧光体是碱金属氟卤化物,该碱金属氟卤化物由三价氧化态
稀土金属激活。
22.根据权利要求21的光激励存储荧光体,其中所述碱金属氟卤
化物由从包括钐、铕、镝和钆的组中选取的稀土金属激活。
23.根据权利要求22的光激励存储荧光体,其中所述稀土金属是
钐或镝。
24.根据权利要求23的光激励存储荧光体,其中所述稀土金属是
钐。
25.根据前述任何一项权利要求的光激励存储荧光体,其中所述光
激励存储荧光体由从包括BaFCl:Sm3+、CaFCl:Sm3+和SrFCl:Sm3+的组中
选取的公式表示。
26.根据前述任何一项权利要求的光激励存储荧光体,其中所述光
激励存储荧光体具有四面体或同形晶体结构。
27.根据权利要求26的光激励存储荧光体,其中所述四面体晶体
结构具有空间群P4/nmm(D74h)。
28.根据前述任何一项权利要求的光激励存储荧光体,包括晶粒尺
寸在约10到约1000nm之间的光激励存储荧光体。
29.根据权利要求28的光激励存储荧光体,其中所述光激励存储
荧光体的晶粒尺寸在约100到约300nm之间。
30.根据权利要求28的光激励存储荧光体,其中所述光激励存储
荧光体的晶粒尺寸在约10到约200nm之间。
31.一种辐射图像存储面板,该辐射图像存储面板包括根据权利要
求1至30中任何一项的光激励存储荧光体。
32.根据权利要求31的辐射图像存储面板,其中所述辐射图像存
储面板是成像板。
33.一种辐射存储放射量测定器,该辐射存储放射量测定器包括根
据权利要求1至30中任何一项的光激励存储荧光体。
34.根据权利要求33的辐射存储放射量测定器,其中所述放射量
测定器是包括嵌在柔性或刚性基底上的存储荧光体的薄膜形式。
35.根据权利要求33的辐射存储放射量测定器,其中所述放射量
测定器是用于监控身体辐射水平的剂量计形式。
36.一种用于制备光激励存储荧光体的方法,该方法包括混合第一
溶液和第二溶液以形成反应混和物,其中所述第一溶液包括金属卤化
物和稀土卤化物,其中这些卤化物是独立地从包括氯化物、溴化物、
碘化物的组中选取的,以及所述第二溶液包括氟化物类。
37.根据权利要求36的方法,其中所述金属卤化物是氯化钡。
38.根据权利要求36或37的方法,其中所述稀土卤化物是氯化钐。
39.根据权利要求36、37或38的方法,其中在所述混合第一溶液
和第二溶液的步骤之前和/或期间,将所述第一溶液维持在约5和约
100℃之间的范围内的温度下。
40.根据权利要求39的方法,其中将所述温度维持在约10到约
30℃之间的范围内。
41.根据权利要求39或40的方法,其中将所述温度维持在约15
到约30℃之间的范围内。
42.根据权利要求39、40或41的方法,其中将所述温度维持在约
15到约25℃之间的范围内。
43.根据权利要求42的方法,其中将所述温度维持在约20到约
25℃之间的范围...
【专利技术属性】
技术研发人员:H里森,WA卡克兹马雷克,
申请(专利权)人:新南部创新有限公司,
类型:发明
国别省市:AU[澳大利亚]
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