一种电触头及真空灭弧室制造技术

本实用新型专利技术公开了一种电触头及真空灭弧室，涉及高压真空开关技术领域。该电触头包括静端触头和动端触头，静端触头和动端触头均包括触头座、主触头和辅助燃弧触头。触头座上以预设角度沿圆周方向开设有路径槽，且静端触头和动端触头上的触头座的路径槽的方向相同；主触头为圆盘状，主触头和辅助燃弧触头设置于触头座的同侧，且辅助燃弧触头位于主触头的外圈。在静端触头和动端触头的主触头闭合时，静端触头和动端触头的辅助燃弧触头间隙配合。本实用新型专利技术提供的电触头在主触头带电分离时，电弧能够从主触头转移到辅助燃弧触头上，以减轻主触头表面的烧蚀，进一步地提高了真空灭弧室的耐电弧烧蚀能力，保证载流能力，提高电寿命。提高电寿命。提高电寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种电触头及真空灭弧室


[0001]本技术涉及高压真空开关
，尤其涉及一种电触头及真空灭弧室。

技术介绍

[0002]真空灭弧室是真空开关的核心元器件，要求可靠承载、关合、开断额定连续电流和短路故障电流。
[0003]现有技术中，无论横磁结构电极还是纵磁结构电极，所采用的触头均为单一结构，只能满足触头在闭合状态承载额定电流和短路电流，触头间有良好的表面质量及较小的接触电阻。而触头在开断短路电流时，由于电弧的烧蚀，其表面会逐渐磨损。现有技术中存在触头因电弧烧蚀导致表面质量变差、接触电阻增大、载流能力下降、电寿命降低等问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种电触头，以减轻主触头烧蚀程度，保证主触头表面质量和电寿命。
[0005]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0006]一种电触头，包括静端触头和动端触头，其中所述静端触头和所述动端触头均包括：
[0007]触头座，所述触头座上以预设角度沿圆周方向开设有路径槽，且所述静端触头和所述动端触头上的所述触头座的所述路径槽的方向相同；
[0008]主触头和辅助燃弧触头，所述主触头为圆盘状，所述主触头和所述辅助燃弧触头设置于所述触头座同侧，且所述辅助燃弧触头位于所述主触头的外圈；
[0009]在所述静端触头和所述动端触头的所述主触头闭合时，所述静端触头和所述动端触头的所述辅助燃弧触头间隙配合。
[0010]可选地，所述间隙包括径向间隙和轴向间隙。
[0011]可选地，所述静端触头和所述动端触头二者中，其中一个的所述辅助燃弧触头设置有凸台，另一个的所述辅助燃弧触头设置有凹槽。
[0012]可选地，在所述静端触头和所述动端触头的所述主触头闭合时，所述凸台进入所述凹槽的高度H为:2mm≤H≤4mm，所述径向间隙L1为：L1≤2mm，所述轴向间隙L2为：L2≤2mm。
[0013]可选地，所述触头座的一端设置有容纳腔，所述主触头的一侧设置有第一台阶，所述第一台阶与所述容纳腔的内壁配合连接。
[0014]可选地，所述容纳腔的外壁设置有第二台阶，所述辅助燃弧触头与所述第二台阶配合连接。
[0015]可选地，所述静端触头和所述动端触头还包括支撑件，所述支撑件设置于所述主触头与所述触头座之间。
[0016]可选地，所述主触头由铜铬合金制成。
[0017]可选地，所述辅助燃弧触头由铜铬合金或铜钨合金制成。
[0018]本技术的另一目的在于提供一种真空灭弧室，以实现既保证了真空灭弧室载流能力和开断能力，又提高了其耐电弧烧蚀能力和电寿命。
[0019]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0020]一种真空灭弧室，其中包括所述的电触头。
[0021]本技术的有益效果：
[0022]本技术提供的电触头，通过在主触头的外圈设置辅助燃弧触头，且静端触头和动端触头的辅助燃弧触头在主触头闭合时存在间隙，使得辅助燃弧触头无需承载额定连续电流和短路电流。触头座上以预设角度沿圆周方向开设有路径槽，且静端触头和动端触头上触头座的路径槽的方向相同，使得主触头带电分离时，产生的磁场与电弧方向平行，磁场力约束电弧保持扩散形态。通过辅助燃弧触头配合间隙的设计，该间隙在主触头分离后的一定时间内显著小于主触头间隙，从而使电弧能够从主触头转移到辅助燃弧触头上，以减轻主触头表面的烧蚀，进一步地提高了真空灭弧室的耐电弧烧蚀能力，保证载流能力，提高电寿命。
[0023]本技术提供的真空灭弧室，应用上述的电触头，通过引入辅助燃弧触头，减轻主触头表面的烧蚀，从而提高了真空灭弧室的耐电弧烧蚀能力，保证载流能力，提高电寿命。
附图说明
[0024]图1是本技术实施例一提供的电触头的结构示意图；
[0025]图2是本技术实施例一提供的电触头的主触头的结构示意图；
[0026]图3是本技术实施例一提供的电触头的触头座的结构示意图；
[0027]图4是本技术实施例一提供的电触头在主触头闭合时的示意图；
[0028]图5是本技术实施例一提供的电触头在主触头带电分离时的示意图；
[0029]图6是本技术实施例提供的电触头在主触头带电分离后辅助燃弧触头的凹槽和凸台配合失效前的间隙配合结构示意图；
[0030]图7是本技术实施例提供的电触头在主触头带电分离后辅助燃弧触头的凹槽和凸台配合失效后的间隙结构示意图。
[0031]图中：
[0032]100、静端触头；200、动端触头；
[0033]1、触头座；2、主触头；3、辅助燃弧触头；4、支撑件；5、导电杆；
[0034]11、第二台阶；12、路径槽；21、第一台阶；22、径向槽。
具体实施方式
[0035]下面详细描述本技术的实施例，实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0036]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖
直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。其中，术语“第一位置”和“第二位置”为两个不同的位置。
[0037]除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0038]除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一特征和第二特征直接接触，也可以包括第一特征和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0039]下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。
[0040]为了保证开断过程中电弧能量均匀的分布在触头表面，避免触头局部严重烧蚀及熔化，造成开断失败、电寿命下降，根据所需开断电流大小不同，可采用平板结构触头、横磁结构触头、纵磁结构触本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电触头，包括静端触头(100)和动端触头(200)，其特征在于，所述静端触头(100)和所述动端触头(200)均包括：触头座(1)，所述触头座(1)上以预设角度沿圆周方向开设有路径槽(12)，且所述静端触头(100)和所述动端触头(200)上所述触头座(1)的所述路径槽(12)的方向相同；主触头(2)和辅助燃弧触头(3)，所述主触头(2)为圆盘状，所述主触头(2)和所述辅助燃弧触头(3)设置于所述触头座(1)同侧，且所述辅助燃弧触头(3)位于所述主触头(2)的外圈；在所述静端触头(100)和所述动端触头(200)的所述主触头(2)闭合时，所述静端触头(100)和所述动端触头(200)的所述辅助燃弧触头(3)间隙配合。2.根据权利要求1所述的电触头，其特征在于，所述间隙包括径向间隙和轴向间隙。3.根据权利要求2所述的电触头，其特征在于，所述静端触头(100)和所述动端触头(200)二者中，其中一个的所述辅助燃弧触头(3)设置有凸台，另一个的所述辅助燃弧触头(3)设置有凹槽。4.根据权利要求3所述的电触头，其特征在于，在所述静...

【专利技术属性】
技术研发人员：骆虎，曹小军，许铁军，
申请(专利权)人：陕西宝光集团有限公司，
类型：新型
国别省市：