一种阻隔膜及其制备方法技术

本发明专利技术属于薄膜技术领域，涉及一种阻隔膜及其制备方法，包括上下布设的上光学基膜和下光学基膜；所述上光学基膜的一面涂布有防粘连层，另一面涂布有高分子聚合层；所述下光学基膜的一面涂覆有水氧阻隔层，另一面涂布有预涂层；所述水氧阻隔层贴合于所述高分子聚合层。本申请的技术方案能减少水氧分子从侧面及端面进入阻隔膜内部，从而保证了阻隔膜的阻隔性能，本申请还提供了阻隔膜的制备方法，生产工艺简单，有利于降低生产成本。有利于降低生产成本。有利于降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】
一种阻隔膜及其制备方法


[0001]本专利技术属于薄膜
，涉及一种阻隔膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]通过将量子点材料制备成量子点膜应用在显示器的背光模组中，可以提高显示器色域和色彩饱和度，但是量子点材料对外界的水汽和氧气非常敏感，非常容易衰减，故在量子点膜的实际应用中，需要良好的阻隔性能，以保证量子点膜在使用过程中的稳定性。
[0003]目前，一般量子点膜中应用于保护量子点层的阻隔膜都是在薄膜上使用PVD或PECVD方法沉积一层氧化硅或氧化铝，用来隔绝空气中的水和氧气，沉积的无机阻隔层，附着力低且容易脱落，制造成本较高且工艺复杂。
[0004]现有技术也有阻隔膜，如专利(CN1068333304A)所述包括从上至下依次设置的上层保护膜层、硬化层、第一PET层、阻隔胶层、第二PET层、量子点胶活化层、以及下层保护膜层；所述量子点胶活化层为含有半导体纳米粒子的丙烯酸光固胶液层，所述阻隔胶层为PVDC改性树脂层，所述PVDC改性树脂层包括如下重量份的组分：PVDC10～20份，所述量子点胶活化层由涂布和UV固化工艺制备而成。
[0005]但申请人在实际应用中发现现有技术的阻隔膜仍然存在如下技术问题：第一、PET本身的阻隔性能较低；第二、上述阻隔膜通过多层复合、加纳米粒子得到的，增加了其生产成本。

技术实现思路

[0006]本申请提供一种阻隔膜及其制备方法，有效解决了复合阻隔膜生产成本高、阻隔效率低的问题。
[0007]为实现上述技术目的，本申请采取的技术方案为：一种阻隔膜，包括上下布设的上光学基膜和下光学基膜；
[0008]所述上光学基膜的一面涂布有防粘连层，另一面涂布有高分子聚合层；
[0009]所述下光学基膜的一面涂覆有水氧阻隔层，另一面涂布有预涂层；
[0010]所述水氧阻隔层贴合于所述高分子聚合层。
[0011]作为本申请改进的技术方案，所述高分子聚合层包括如下重量份的各成份：
[0012]高分子聚合物：9.05～52.08份；
[0013]有机溶剂：46.88～90.5份；
[0014]流平剂：0.45～1.04份；
[0015]所述高分子聚合物为聚四氟乙烯、聚三氟氯乙烯、聚偏氟乙烯、乙烯-四氟乙烯共聚物、聚氟乙烯中的一种或任意重量比的多种；其中，聚四氟乙烯分子量介于20000～500000；聚三氟氯乙烯分子量介于10000～300000、聚偏氟乙烯分子量介于50000～500000、乙烯-四氟乙烯共聚物分子量介于100000～400000、聚氟乙烯分子量介于200000～500000。
[0016]作为本申请改进的技术方案，所述有机溶剂为乙酸乙酯、甲苯、N,N-二甲基甲酰胺
中的一种或任意重量比的多种。
[0017]作为本申请改进的技术方案，所述高分子聚合层的流平剂为氟系流平剂。
[0018]作为本申请改进的技术方案，所述水氧阻隔层包括如下重量份的各成份：
[0019]压敏胶：26.3～52.65份；
[0020]有机溶剂：23.67～47.34份；
[0021]固化剂：0.019～0.038份。
[0022]所述压敏胶为热固型丙烯酸酯类压敏胶，其固含量5％～50％；
[0023]所述有机溶剂为含有酯基的溶剂；
[0024]所述固化剂为二元或多元异氰酸酯。
[0025]作为本申请改进的技术方案，所述水氧阻隔层厚度为5～20μm。
[0026]作为本申请改进的技术方案，所述防粘连层的涂层雾度为5～50％。
[0027]作为本申请改进的技术方案，所述预涂层的厚度为3～10μm；所述预涂层包括如下重量份的各成份：
[0028]水：50～47.34份；
[0029]聚氨酯树脂：5～40份；
[0030]固化剂：0.1～10份；
[0031]助剂：0.1～10份；
[0032]其中，固化剂包括异氰酸酯、氮吡啶和噁唑啉中的一种或任意重量的多种；
[0033]助剂包括表面润湿剂和消泡剂中的一种或任意重量比的多种。
[0034]作为本申请改进的技术方案，所述高分子聚合层厚度为10～50μm。
[0035]本申请另一目的是提供阻隔膜的制备方法，包括以下步骤：
[0036]制备高分子聚合层：
[0037]将配比量的高分子聚合物溶解于有机溶剂中，搅拌均匀得到聚合物溶液；
[0038]在上述制备的聚合物溶液中加入配比量的流平剂，搅拌均匀得到的高分子聚合层溶液；
[0039]涂布高分子聚合层：
[0040]将高分子聚合层溶液涂布于上光学基膜一面，所述上光学基膜的另一面涂布有已固化的防粘连层，70～120℃固化形成高分子聚合层；
[0041]制备水氧阻隔层溶液：
[0042]将配比量的固化剂加入到配比量的压敏胶溶液中，搅拌均匀得到的水氧阻隔层溶液；
[0043]涂布水氧阻隔层溶液：
[0044]将水氧阻隔层溶液涂布于下光学基膜一面，所述下光学基膜的另一面已涂布有预涂层，90～120℃固化形成具有粘性的水氧阻隔层；
[0045]形成阻隔膜：
[0046]将水氧阻隔层与高分子聚合层通过橡胶辊方式贴合，即得到阻隔膜。
[0047]有益效果
[0048]本专利技术与现有技术相比，具有以下有益效果：
[0049]1、高分子聚合物选择化学结构致密的含氟碳聚合物，将其涂布在光学基材上，形
成一层结构致密的涂层，从而达到隔绝空气中水氧的作用。
[0050]2、通过控制高分子聚合物在有机溶剂中的比例及高分子聚合的分子量，使其均匀的溶解在有机溶剂中，减少涂布过程中团聚现象，同时选用氟系流平剂，提升高分子聚合层的平整度，以减少表面缺陷，提高附着力。
[0051]3、水氧阻隔层通过选用热固型丙烯酸酯类压敏胶，用来粘结高分子聚合层，避免水氧分子从侧面及端面进入阻隔膜内部，从而保证了阻隔膜的阻隔性能，同时控制水氧阻隔层厚度，减少其对阻隔膜光学性能的影响。
[0052]4、在阻隔膜一面涂布防粘连层，赋予其防粘连功能，在另一面涂布预涂层可提高光学基材表面的附着力。
[0053]综上，本申请的技术方案能够有效减少水氧分子从侧面及端面进入阻隔膜内部，从而保证了阻隔膜的阻隔性能。
附图说明
[0054]图1是本专利技术阻隔膜的结构示意图。
[0055]图中各标号分别表示为：1、上光学基膜，2、高分子聚合层，3、水氧阻隔层，4、防粘连层，5、预涂层，6、下光学基膜。
具体实施方式
[0056]专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本专利技术的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0057]本
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阻隔膜，其特征在于，包括上下布设的上光学基膜和下光学基膜；所述上光学基膜的一面涂布有防粘连层，另一面涂布有高分子聚合层；所述下光学基膜的一面涂覆有水氧阻隔层，另一面涂布有预涂层；所述水氧阻隔层贴合于所述高分子聚合层。2.根据权利要求1所述的一种阻隔膜，其特征在于，所述高分子聚合层包括如下重量份的各成份：高分子聚合物：9.05～52.08份；有机溶剂：46.88～90.5份；流平剂：0.45～1.04份；所述高分子聚合物为聚四氟乙烯、聚三氟氯乙烯、聚偏氟乙烯、乙烯-四氟乙烯共聚物、聚氟乙烯中的一种或任意重量比的多种；其中，聚四氟乙烯分子量介于20000～500000；聚三氟氯乙烯分子量介于10000～300000、聚偏氟乙烯分子量介于50000～500000、乙烯-四氟乙烯共聚物分子量介于100000～400000、聚氟乙烯分子量介于200000～500000。3.根据权利要求2所述的一种阻隔膜，其特征在于，所述有机溶剂为乙酸乙酯、甲苯、N,N-二甲基甲酰胺中的一种或任意重量比的多种。4.根据权利要求2所述的一种阻隔膜，其特征在于，所述高分子聚合层的流平剂为氟系流平剂。5.根据权利要求1所述的一种阻隔膜，其特征在于，所述水氧阻隔层包括如下重量份的各成份：压敏胶：26.3～52.65份；有机溶剂：23.67～47.34份；固化剂：0.019～0.038份；所述压敏胶为热固型丙烯酸酯类压敏胶，其固含量5％～50％；所述有机溶剂为含有酯基的有机溶剂；所述固化剂为二元或多元异氰酸酯...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄永华，高俊红，周守发，王增敏，李彩翠，
申请(专利权)人：合肥乐凯科技产业有限公司，
类型：发明
国别省市：