离型膜以及离型膜的制造方法技术

本发明专利技术的目的在于提供一种不会污染模具或成形体的离型膜。本发明专利技术提供一种离型膜，是在基材层的第一面依序积层涂布层与表面层；该基材层是由聚对苯二甲酸乙二酯树脂组合物所形成，该涂布层是由丙烯酸系树脂或硅氧烷系树脂所形成，该表面层是由氟系树脂所形成；且在所述基材层的第二面积层表面层，或者依序积层涂布层与表面层；该表面层是由氟系树脂所形成，该涂布层是由丙烯酸系树脂或硅氧烷系树脂所形成。所形成。所形成。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】离型膜以及离型膜的制造方法


[0001]本专利技术是涉及一种离型膜以及离型膜的制造方法，更详细而言是涉及一种用于转移模制成形或压缩模制成形的离型膜以及离型膜的制造方法。

技术介绍

[0002]为了通过树脂来封装半导体，使用了例如转移模制成形法及压缩模制成形法等的成形手法。在所述成形手法中，树脂在模具内硬化之后，为了使成形体容易从模具取下来，经常会使用离型膜。至今为止，关于离型膜已有各种的提案被提出。
[0003]例如，在下述专利文献1揭示了一种离型膜，其特征在于包含涂膜与由非氟化聚合物所形成的层，该涂膜是由包含了含有官能基X的氟树脂(A)与离型成分(B)的组合物所形成。
[0004]又，在下述专利文献2揭示了一种阻气性半导体树脂膜具用离型膜，其特征在于是至少具有离型性优异的离型层(I)、与支撑此离型层(I)的塑料支撑层(II)；所述塑料支撑层(II)在170℃的伸长200％时的强度为1MPa至50MPa，且该离型膜在170℃的二甲苯气体渗透性为5
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[0005][现有技术文献][0006][专利文献][0007]专利文献1：日本特开2015-74201号公报。
[0008]专利文献2：国际公开第2008/020543号。

技术实现思路

[0009][专利技术所要解决的问题][0010]离型膜如上所述，是用于使成形体容易从模具取下来。离型膜要求在树脂硬化后容易从成形体剥离下来。
[0011]又，当离型膜在模具内处于高温时，离型膜所包含的成分会移动到该离型膜表面，而有因为该移动的成分导致模具或成形体受污染的情况。当发生该污染时，就需要从模具或成形体去除该成分。又，要去除该成分经常伴随着困难。因此，寻求着不发生因该成分导致模具或成形体的污染。
[0012]又，若使离型膜不仅使用于1次的成形，而是能在多次的成形中反复使用，就能够减少成形成本。然而，为了使离型膜在多次的成形中反复使用，就需要使离型膜的性能在经过多次的成形仍能维持。
[0013]根据以上内容，本专利技术的目的在于提供一种不污染模具或成形体的离型膜。又，本专利技术的目的在于提供一种不污染模具或成形体且在多次的成形中可连续使用的离型膜。
[0014][解决问题的技术手段][0015]本案专利技术人发现具有特定的构成的离型膜，具有优异的离型性及低污染性，且能够使用在多次的成形。
[0016]即，本专利技术提供一种离型膜，该离型膜是在基材层的第一面，以防止寡聚物渗出层与表面层的此顺序来积层；该基材层是由聚对苯二甲酸乙二酯树脂所形成，该防止寡聚物渗出层是由丙烯酸系树脂或硅氧烷系树脂所形成，该表面层是由氟系树脂所形成；且在所述基材层的第二面，以表面层，或者以防止寡聚物渗出层与表面层的此顺序来积层；该表面层是由氟系树脂所形成，该防止寡聚物渗出层是由丙烯酸系树脂或硅氧烷系树脂所形成。
[0017]积层于所述第一面的所述防止寡聚物渗出层可以是丙烯酸系树脂。
[0018]根据JIS K7127并于175℃测定所述离型膜的拉伸断裂强度时，可以是40MPa至200MPa；并且，当根据JIS K7127并于175℃测定所述离型膜的拉伸断裂伸长度时，可以是200％至500％。
[0019]当根据JIS K7126-1并于175℃测定所述离型膜的氧气渗透性时，可以是5000cc/m2·
24hr
·
atm至50000cc/m2·
24hr
·
atm。
[0020]当根据JIS K7127并于175℃测定所述基材层的拉伸断裂强度时，可以是40MPa至200MPa。
[0021]当根据JIS K7127并于175℃测定所述基材层的拉伸断裂伸长度时，可以是200％至500％。
[0022]形成所述表面层的氟系树脂可以包含异氰酸酯系硬化剂，而该表面层是积层于所述基材层的至少1面。
[0023]形成所述表面层的氟系树脂可以包含根据激光衍射式粒度分析测定法所测定的平均粒径为1μm至10μm的粒子，而该表面层是积层于所述基材层的至少1面。
[0024]形成所述表面层的氟系树脂可以包含四氟化乙烯系树脂。
[0025]所述离型膜可以用于转移模制成形或压缩模制成形。
[0026]所述离型膜可以用于2次以上的成形。
[0027]又，本技术也提供一种离型膜的制造方法，是包含下述工序：第一涂布工序，是将丙烯酸系树脂组合物或硅氧烷系树脂组合物涂布于由聚对苯二甲酸乙二酯树脂所形成的基材层的一侧的面；第一硬化工序，是在所述第一涂布工序中，使涂布的树脂组合物硬化来形成防止寡聚物渗出层；第二涂布工序，是在所述第一硬化工序后，将氟系树脂组合物涂布于所述防止寡聚物渗出层及所述基材层的另一侧的面；第二硬化工序，是在所述第二涂布工序后，使所述氟系树脂组合物硬化来形成表面层。
[0028]本技术也提供一种离型膜的制造方法，是包含下述工序：第一涂布工序，是将丙烯酸系树脂组合物或硅氧烷系树脂组合物涂布于由聚对苯二甲酸乙二酯树脂所形成的基材层的两侧的面；第一硬化工序，是在所述第一涂布工序中，使涂布的树脂组合物硬化来形成2个防止寡聚物渗出层；第二涂布工序，是在所述第一硬化工序后，将氟系树脂组合物涂布于所述2个防止寡聚物渗出层上；第二硬化工序，是在所述第二涂布工序后，使所述氟系树脂组合物硬化来形成表面层。
[0029][专利技术的效果][0030]通过本专利技术，可提供一种离型性优异且污染性低，并且能够为了多次的成形而重复使用的离型膜。
[0031]另外，本专利技术的效果并不一定限定于此处所记载的效果，也可以是本说明书中所记载的任何效果。
附图说明
[0032]图1A是表示本专利技术的离型膜的结构的例子的图。
[0033]图1B是表示本专利技术的离型膜的结构的例子的图。
[0034]图2是表示转移模制成形中的本专利技术的离型膜的使用方法的一例的图。
[0035]图3是表示压缩模制成形中的本专利技术的离型膜的使用方法的一例的图。
[0036]图4是表示FT-IR(Fourier-transform infrared；傅立叶变换红外线)光谱的图。
[0037]图5是成形后的离型膜的模具侧表面的电子显微镜相片。
[0038]图6是成形后的离型膜的模具侧表面的电子显微镜相片。
[0039]图7是加热后的离型膜的表面的显微镜相片。
[0040]图8是加热后的离型膜的表面的显微镜相片。
具体实施方式
[0041]以下，针对用以实施本专利技术的方式来详细地说明。另外，以下所说明的实施方式是表示本专利技术的代表性的实施方式的一例，本专利技术并非仅限定于这些实施方式。
[0042]本专利技术的离型膜，包含由聚对苯二甲酸乙二酯树脂所形成的基材层与由氟系树脂所形成的2个的表面层，并在所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种离型膜，其特征在于，是在基材层的第一面依序积层防止寡聚物渗出层与表面层；所述基材层是由聚对苯二甲酸乙二酯树脂所形成，所述防止寡聚物渗出层是由丙烯酸系树脂或硅氧烷系树脂所形成，所述表面层是由氟系树脂所形成；且在所述基材层的第二面积层表面层，或者依序积层防止寡聚物渗出层与表面层；所述表面层是由氟系树脂所形成，所述防止寡聚物渗出层是由丙烯酸系树脂或硅氧烷系树脂所形成。2.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，积层于所述第一面的所述防止寡聚物渗出层是由丙烯酸系树脂所形成。3.根据权利要求1或2所述的离型膜，其特征在于，当根据JIS K7127并于175℃测定所述离型膜的拉伸断裂强度时为40MPa至200MPa；并且，当根据JIS K7127并于175℃测定所述离型膜的拉伸断裂伸长度时为200％至500％。4.根据权利要求1至3中任一权利要求所述的离型膜，其特征在于，当根据JIS K7126-1并于175℃测定所述离型膜的氧气渗透性时为5000cc/m2·
24hr
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atm至50000cc/m2·
24hr
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atm。5.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的离型膜，其特征在于，当根据JIS K7127并于175℃测定所述基材层的拉伸断裂强度时为40MPa至200MPa。6.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的离型膜，其特征在于，当根据JIS K7127并于175℃测定所述基材层的拉伸断裂伸长度时为200％至500％。7.根据权利要求1至6中任一权利要求所述的离型膜，其特征在于，形成所述表面层的氟系树脂是包含异氰酸酯系硬化剂...

【专利技术属性】
技术研发人员：酒井圭介，岩胁统史，田中奈名恵，平松聪，川渊茜，
申请(专利权)人：小林股份有限公司，
类型：发明
国别省市：