一种电光装置，其特征在于，在基板上具备： 像素电极； 对该像素电极进行开关控制的薄膜晶体管； 将图像信号供给该薄膜晶体管的数据线； 将扫描信号供给该薄膜晶体管的同时与所述数据线进行交叉的扫描线； 从上侧覆盖构成所述薄膜晶体管的半导体层的至少沟道区域及其相邻区域的上侧遮光膜；以及 从下侧覆盖所述至少沟道区域及其相邻区域的下侧遮光膜； 其中，所述上侧遮光膜和所述下侧遮光膜分别在所述数据线和所述扫描线相交叉的交叉区域中具有伸出来的伸出部，从而在对应于所述像素电极的各个像素的开口区域中规定切角； 所述沟道区域被配置在所述交叉区域内； 所述上侧遮光膜和所述下侧遮光膜，互相地，在所述伸出部中通过遮光性的导电材料或直接进行连接。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及有源矩阵驱动方式的电光装置和电子设备的
，特别涉及在基板上的层积结构中包括像素开关用的薄膜晶体管(以下称为TFT(Thin Film Transistor))形式的电光装置和具备这样的电光装置的投影机等电子设备的
技术介绍
在TFT有源矩阵驱动形式的液晶装置、EL(Electro-Luminescence；场致发光)显示装置等电光装置中，如果入射光照射到设置于各像素的像素开关用TFT的沟道区域，则由光产生的激励而产生光漏泄电流，使TFT的特性变化。特别是在投影机的光阀用电光装置的情况下，由于入射光的强度大，所以对TFT的沟道区域和其相邻区域进行入射光的遮光是重要的。因此，以往在设置于对置基板的各像素中，被构成为通过对有助于显示的光透过或反射的开口区域进行规定的遮光膜，或者通过TFT之上并且由Al(铝)等金属膜构成的数据线，来对相关的沟道区域和其相邻区域进行遮光。而且，在TFT阵列基板上像素开关用TFT的下侧，例如还设置有高熔点金属构成的遮光膜。这样，如果在TFT的下侧也设置遮光膜，则可预先防止来自TFT阵列基板一侧的背面反射光、或在通过棱镜等组合多个电光装置构成一个光学系统的情况下从其他电光装置穿过棱镜等的投射光等的返回光入射到该电光装置的TFT。但是，根据上述的各种遮光技术，有以下的问题。即，首先，根据在对置基板上和TFT阵列基板上形成遮光膜的技术，在遮光膜和沟道区域之间，三维地观察，例如通过液晶层、电极、层间绝缘膜等形成相当大的间隙，对于向两者间倾斜入射的光的遮光不充分。特别是在用作投影机的光阀的小型电光装置中，入射光是用透镜将来自光源的光缩小的光束，含有不能忽略的倾斜入射的分量。例如，包含从垂直于基板的方向倾斜10度到15度左右的分量10％左右，所以对这样的倾斜入射光的遮光不充分成为实际问题。此外，从没有遮光膜的区域侵入到电光装置内的光，由基板或基板上形成的遮光膜的上表面、数据线等反射后，存在这样的反射光或使其再次由基板或遮光膜、数据线等反射的多重反射光最终到达TFT的沟道区域的情况。特别是为了满足近年来显示图像的高质量化的一般需要，与实现电光装置的高清晰化或像素间距的微细化相适应，与为了显示更明亮的图像而与提高入射光的光亮度相适应，根据上述现有的各种遮光技术，实施充分的遮光更加困难，因TFT晶体管特性的变化而产生闪烁等，存在显示图像的质量下降的问题。再有，为了提高这样的耐光性，也可考虑简单地扩大遮光膜的形成区域，但在这种方案中，提高各像素的开口率十分困难，存在显示图像变暗的问题。
技术实现思路
本专利技术鉴于上述问题，以提供耐光性优良、可进行明亮高质量的图像显示的电光装置及具备这样的电光装置的电子设备作为课题。为了解决上述课题，本专利技术的第1电光装置在基板上(above)具备像素电极；对该像素电极进行开关控制的薄膜晶体管；将图像信号供给该薄膜晶体管的数据线；将扫描信号供给该薄膜晶体管的同时与所述数据线进行交叉的扫描线；从上侧覆盖构成所述薄膜晶体管的半导体层的至少沟道区域及其相邻区域的上侧遮光膜；以及从下侧覆盖所述至少沟道区域及其相邻区域的下侧遮光膜；其中，所述上侧遮光膜和所述下侧遮光膜分别在所述数据线和所述扫描线相交叉的交叉区域中具有伸出来的伸出部，从而在对应于所述像素电极的各个像素的开口区域中规定切角；所述沟道区域被配置在所述交叉区域内；所述上侧遮光膜和所述下侧遮光膜，互相地，在所述伸出部中通过遮光性的导电材料或直接进行连接。根据本专利技术的第1电光装置，在其工作时，例如在薄膜晶体管的源极上通过数据线来供给图像信号，在薄膜晶体管的栅极上通过扫描线来供给扫描信号。于是，例如通过对连接到薄膜晶体管的漏极的像素电极由薄膜晶体管进行开关控制，可进行有源矩阵驱动方式的驱动。而且，因为构成薄膜晶体管的半导体层的至少沟道区域和其相邻区域，由上侧遮光膜从其上侧覆盖，所以基本上可以阻止相对于基板面来自上方的入射光入射到薄膜晶体管的沟道区域和其相邻区域。进而，因为由下侧遮光膜从其下侧进行覆盖，所以基本上可以阻止相对于基板面来自下方的返回光入射到薄膜晶体管的沟道区域和其相邻区域。再有，‘返回光’例如指基板的里面反射、从作为光阀使用多个该第1电光装置的多板式投影机中的其它光阀中射出的穿过合成光学系统的光等的，返回到与入射光相反方向上、无助于显示的光。这里，上侧遮光膜和下侧遮光膜分别在数据线和扫描线相交叉的交叉区域中具有伸出来的伸出部，使得在各像素的开口区域中规定切角。例如，如果以四角形的开口区域为基准，则形成一至四个切角，可规定五角形至八角形的开口区域。然后，将沟道区域配置在有这样的切角的交叉区域内。因此，与不存在这样的伸出部的情况相比，通过分别具有伸出部的上侧遮光膜和下侧遮光膜，可以有效地阻止相对于基板面从上方垂直或倾斜行进的强的入射光和基于该光的内面反射光及多重反射光、相对于基板面从下方垂直或倾斜行进的返回光和基于该光的内面反射光及多重反射光入射到薄膜晶体管的沟道区域和其相邻区域。进而，根据本专利技术，上侧遮光膜和下侧遮光膜，相互地，在伸出部中通过遮光性的导电材料连接或直接连接。因此，配置在交叉区域的沟道区域和其相邻区域从它们的侧方被上侧遮光膜和下侧遮光膜的相互连接的部分局部地包围。即，通过这样从侧方包围、相互连接的部分，可显著地提高对从侧方倾斜比较大的倾斜入射的入射光或返回光的遮光性能。此外，因为上侧遮光膜和下侧遮光膜相互连接，可以使两者为同电位，例如对于由两者中一方构成的配线，可将另一方作为其冗余配线利用。这些结果，可提高各像素的开口率，同时通过用相互连接的上侧遮光膜和下侧遮光膜从上下左右包围的立体遮光，可有效地降低薄膜晶体管中的光漏泄电流产生、偏差等引起的显示不匀或闪烁等，最终可显示明亮的高质量的图像。同时，可以实现相互连接的上侧遮光膜和下侧遮光膜的冗余配线，例如通过实现电容线等的低电阻化，也可进一步降低闪烁等。在本专利技术的第1电光装置的一种方式中，所述上侧遮光膜和所述下侧遮光膜通过接触孔相互连接；在该接触孔内，形成所述上侧遮光膜或者由所述导电材料形成栓塞。根据该方式，可以通过接触孔良好地相互电连接上侧遮光膜和下侧遮光膜。而且，通过在设置于伸出部的接触孔内配置的上侧遮光膜或构成栓塞的遮光性的导电材料，可以从它们的侧方局部地包围沟道区域和其相邻区域。或者在本专利技术的第1电光装置的另一方式中，所述上侧遮光膜和所述下侧遮光膜通过对应于所述伸出部的轮廓的截面形状的贯通沟相互连接，在该贯通沟内，由所述上侧遮光膜或所述导电材料形成从侧方与所述沟道区域相对的壁。根据该方式，通过贯通沟将上侧遮光膜和下侧遮光膜良好地电气地相互连接。而且，通过在对应于伸出部轮廓的截面形状的贯通沟内由上侧遮光膜或遮光性的导电材料形成的壁，可将沟道区域和其相邻区域从它们的侧方局部地更宽范围地包围。这样的贯通沟的截面形状例如与伸出部的轮廓大致相同，仅小一圈也可以，或者仅大一圈也可以。这里，越大地形成贯通沟，大致地越提高其遮光性能。在本专利技术第1电光装置的另一方式中，对于所述交叉区域的各个区域，在其四个角部都设置有所述伸出部；在该四个角部的各个角部中，所述上侧遮光膜和所述下侧遮光膜相互连接。根据该方式，通过在设置于伸出部的接触孔本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：村出正夫，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：
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