本发明专利技术提供转移装置和使用方法。在保持高转移位置精度的同时实现转移装置的受体基板的大型化、精细化和缩短节拍时间。在以保持放置有转移对象物的供体基板和/或光束整形光学系统以及缩小投影光学系统的状态移动的各台组、以及保持作为转移目的物的受体基板的台组构建在分开的平台上而构成的机构中，使伴随各基板相对于激光的相对扫描而产生的振动和承担该扫描的台的同步位置精度的异常最小化。担该扫描的台的同步位置精度的异常最小化。担该扫描的台的同步位置精度的异常最小化。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】转移装置和使用方法
[0001]本专利技术涉及一种装置，该装置使用激光照射而将位于供体基板上的对象物高精度地转移到受体基板上(LIFT：Laser Induced Forward Transfer激光诱导向前转移)。
技术介绍
[0002]以往有一种技术，其向供体基板上的有机EL(电致发光)层照射激光并将其转移到对置的电路基板上。作为该技术，在专利文献1中公开了一种技术：将一个激光转换为具有矩形形状的强度分布均匀的多个矩形激光，将它们串列且等间隔配置，以隔开一定时间以上且重叠规定次数的方式向供体基板的规定的区域照射多个矩形激光，使该激光被位于供体基板和有机EL层间的金属箔吸收而产生弾性波，将由此剥离的有机EL层转移到对置的电路基板上。
[0003]在该技术中使用如下的结构：在供体基板和电路基板之间夹持将80～100[μm]作为适当值的间隔件，把将供体基板和电路基板的间隔保持为固定的状态并一体化的构件放置在一个台上并使其相对于激光进行扫描。但是，在该情况下，除了另外需要使对置的供体基板和电路基板一体化的工序以外，还需要与电路基板尺寸相同的供体基板，并且伴随电路基板的大型化的需要，需要增加制造成本和装置的大型化。
[0004]同样，作为将供体基板上的有机EL层向对置的电路基板转移的技术，在专利文献2中公开了如下的技术：将光吸收层设置在供体基板和有机EL层之间，使该光吸收层吸收照射的激光而产生冲击波，将供体基板上的有机EL层向设置有10～100[μm]的间隔并对置的电路基板转移。但是，专利文献2未公开激光的扫描方法和实现其的台结构，而且也未公开转移装置。因此，专利文献2不能作为用于维持并提高能够与电路基板的大型化对应的转移位置精度的技术来进行参照。
[0005]此外，在专利文献3中公开了一种在用于半导体器件制造的曝光装置中与步进扫描法相关的技术。其基本考虑方式如下：边跳过中途的几个照射区域边间歇地对沿着晶片台的扫描曝光方向的一列照射区域进行曝光，并且在其中途不使晶片台停止。即，专利文献3公开了一种曝光装置，其包括：中间掩膜台，保持中间掩膜；晶片台，保持晶片；以及投影光学系统，将中间掩膜的图案向晶片投影，边使中间掩膜台和晶片台一起相对于投影光学系统扫描边进行曝光，将中间掩膜的图案依次投影到晶片的多个照射区域，其中，边不使所述晶片台静止地使其扫描移动边对沿扫描方向排列的晶片上的多个照射区域间歇地进行曝光。由此，在晶片的大型化且处理速度的高速化的要求下，与反复进行晶片台的加减速的步进重复(step and repeat)方式相比，能够减轻伴随台的扫描产生的振动和摇晃对曝光精度的影响。
[0006]但是，上述专利文献3中公开的技术是将缩小投影曝光作为基础的半导体曝光装置的技术，其
与本专利技术的转移技术不同。即，曝光装置的中间掩膜台和晶片台的结构和扫描技术与本专利技术的台结构和扫描技术完全不同，本专利技术的台结构和扫描技术用于将本专利技术的掩膜图案以高位置精度的方式缩小投影到供体基板上的对象物，进而以相同的高
位置精度将该对象物转移到受体基板上。因此，作为本专利技术的具体的台结构及其扫描技术不能参照上述专利文献3中公开的技术。
[0007]现有技术文献
[0008]专利文献1：日本专利公开公报特开2014-67671号
[0009]专利文献2：日本专利公开公报特开2010-40380号
[0010]专利文献3：日本专利公开公报特开2000-21702号
技术实现思路
[0011]通过将保持供体基板的供体台和放置在该供体台上的保持光学系统的光学台的两个台与保持受体基板的受体台作为独立的机构的构成、以及不将光学台直接放置于供体台而作为分别独立设置在刚性高的平台上的构成，使伴随各台的扫描产生的振动和各种错误对台间的同步位置精度造成的影响最小化。其结果，本专利技术的目的在于提供一种转移装置，其在维持转移位置精度的同时有助于受体基板的大型化、精细化和缩短节拍时间。
[0012]第一专利技术是一种转移装置，其通过从供体基板的背面向位于移动的所述供体基板的表面上的对象物照射脉冲激光，选择性地将所述对象物剥离，并将所述对象物转移到边与所述供体基板相对边移动的受体基板上，所述转移装置包括：脉冲振荡的激光装置；望远镜，使从所述激光装置射出的脉冲激光成为平行光；整形光学系统，将通过了所述望远镜的脉冲激光的空间强度分布整形为均匀的分布；掩膜，使由所述整形光学系统整形后的脉冲激光以规定的图案通过；场镜，位于所述整形光学系统和所述掩膜之间；投影透镜，将通过了所述掩膜的图案的激光缩小投影在所述供体基板的表面；掩膜台，保持所述场镜和所述掩膜；光学台，保持所述整形光学系统、所述掩膜台和所述投影透镜；供体台，以使所述供体基板的背面成为激光的射入侧的朝向保持所述供体基板；受体台，保持所述受体基板；以及可编程的多轴控制装置，具有所述脉冲激光振荡用的触发输出功能和台控制功能，所述受体台具有将水平面作为XY平面时的Y轴、铅垂方向的Z轴和XY平面内的θ轴，所述供体台具有X轴、Y轴和θ轴，所述投影透镜与所述投影透镜用的Z轴台一起保持在所述光学台上，所述望远镜、所述整形光学系统、所述场镜、所述掩膜和所述投影透镜构成缩小投影光学系统，所述缩小投影光学系统将所述掩膜的图案缩小投影在所述供体基板的表面，所述供体台的X轴设置在平台1上，所述受体台的Y轴设置在与所述平台1不同的平台2上，所述供体台的Y轴悬挂设置于所述供体台的X轴。
[0013]在此，“移动的”基板包括脉冲激光(图1A中表示为“LS”。但是，图1A虽然表示第二专利技术的主要结构部，但是由于包含与第一专利技术的结构共通的结构部分，所以进行参照。以下相同)的照射时也不停止而移动的情况和脉冲激光的照射时停止并反复进行移动和停止的情况，根据本专利技术的转移装置进行的转移工序和所要求的节拍时间等选择所述的情况。此外，也包括供体基板(D)反复进行移动和停止、受体基板(R)不停止的结构和与其相反的情况的结构。在来自供体基板的对象物的剥离中仅使用一次照射时且要求高节拍时间的情况下，适合选择供体基板和受体基板以相同或不同的速度不停止地移动的结构。另一方面，在想要使对象物层叠一定厚度的情况下等，有时选择使供体基板不停止地移动且受体基板在一定照射数期间停止的结构。
[0014]此外，“对象物”没有特别的限定，是设置在供体基板上或隔着光吸收层(图1A中省
略图示)在供体基板上设置成一片的转移对象物，包括以所述专利文献中记载的有机EL层为代表的薄膜和以微小的单元状且规则地配置有多个的对象物，但是并不限定于这些对象物。另外，转移的机理包括下述情况：被照射了激光的所述光吸收层产生冲击波，由此对象物从供体基板剥离并朝向受体基板转移；不具备光吸收层而通过直接向对象物照射的激光而剥离；但是并不限定于这些情况。
[0015]供体基板的材质只要对所述激光的波长具有透过特性即可，理想的是基板的大型化所造成的弯曲量小的材质。另外，在该弯曲量大到不满足供体基板与受体基板间的间隙的均匀性的程度的情况下，供体台(Yd本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种转移装置，其通过从供体基板的背面向位于移动的所述供体基板的表面上的对象物照射脉冲激光，选择性地将所述对象物剥离，并将所述对象物转移到边与所述供体基板相对边移动的受体基板上，所述转移装置的特征在于，所述转移装置包括：脉冲振荡的激光装置；望远镜，使从所述激光装置射出的脉冲激光成为平行光；整形光学系统，将通过了所述望远镜的脉冲激光的空间强度分布整形为均匀的分布；掩膜，使由所述整形光学系统整形后的脉冲激光以规定的图案通过；场镜，位于所述整形光学系统和所述掩膜之间；投影透镜，将通过了所述掩膜的图案的激光缩小投影在所述供体基板的表面；掩膜台，保持所述场镜和所述掩膜；光学台，保持所述整形光学系统、所述掩膜台和所述投影透镜；供体台，以使所述供体基板的背面成为激光的射入侧的朝向保持所述供体基板；受体台，保持所述受体基板；以及可编程的多轴控制装置，具有所述脉冲激光振荡用的触发输出功能和台控制功能，所述受体台具有将水平面作为XY平面时的Y轴、铅垂方向的Z轴和XY平面内的θ轴，所述供体台具有X轴、Y轴和θ轴，所述投影透镜与所述投影透镜用的Z轴台一起保持在所述光学台上，所述望远镜、所述整形光学系统、所述场镜、所述掩膜和所述投影透镜构成缩小投影光学系统，所述缩小投影光学系统将所述掩膜的图案缩小投影在所述供体基板的表面，所述供体台的X轴设置在平台1上，所述受体台的Y轴设置在与所述平台1不同的平台2上，所述供体台的Y轴悬挂设置于所述供体台的X轴。2.根据权利要求1所述的转移装置，其特征在于，所述供体台的X轴放置在所述平台1上，所述光学台放置在所述供体台的X轴上。3.根据权利要求1所述的转移装置，其特征在于，所述光学台放置在所述平台1上，所述供体台的X轴悬挂设置于所述平台1。4.根据权利要求1所述的转移装置，其特征在于，所述供体台的X轴安装在所述平台1上，所述光学台放置在与所述平台1和所述平台2都不同的平台3上。5.根据权利要求1所述的转移装置，其特征在于，在所述供体台的X轴和所述平台1之间具有用于对两者间的XY平面内的设置角度进行微调整的转动调整机构，在所述供体台的X轴和所述供体台的Y轴之间具有对两者间的XY平面内的设置角度进行微调整的转动调整机构。6.根据权利要求2所述的转移装置，其特征在于，在所述供体台的X轴和所述平台1之间具有用于对两者间的XY平面内的设置角度进行微调整的转动调整机构，在所述供体台的X
轴和所述光学台之间具有用于对两者间的XY平面内的设置角度进行微调整的转动调整机构，在所述供体台的X轴和所述供体台的Y轴之间具有用于对两者间的XY平面内的设置角度进行微调整的转动调整机构。7.根据权利要求3所述的转移装置，其特征在于，在所述供体台的X轴和所述平台1之间具有用于对两者间的XY平面内的设置角度进行微调整的转动调整机构，在所述光学台和所述平台1之间具有用于对两者间的XY平面内的设置角度进行微调整的转动调整机构，在所述供体台的X轴和所述供体台的Y轴之间具有用于对两者间的XY平面内的设置角度进行微调整的转动调整机构。8.根据权利要求4所述的转移装置，...
【专利技术属性】
技术研发人员：山冈裕，仲田悟基，小泽周作，
申请(专利权)人：丸文株式会社，
类型：发明
国别省市：
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