一种密封式旋转匀胶设备制造技术

本发明专利技术一种密封式旋转匀胶设备，包含有主机架（3），所述主机架（3）上竖向设置有转动主轴（10），所述转动主轴（10）由主动力机构（7）驱动旋转，载物盘（4）固定安装于转动主轴（10）的顶部，且载物盘（4）位于主机架（3）的平台面上方，基片顶升机构（9）安装于主机架（3）的平台面下方，且基片顶升机构（9）的顶升件向上穿过主机架（3）的平台面，载物盘（4）上方设置有同步盖（2），且同步盖（2）的顶部中心轴旋转插接在同步盖提升机构（1）上。本发明专利技术一种密封式旋转匀胶设备，能够方便的对超大尺寸基片进行旋涂匀胶。胶。胶。

【技术实现步骤摘要】
一种密封式旋转匀胶设备


[0001]本专利技术涉及一种旋转匀胶设备，尤其是一种密封式结构的旋转匀胶设备。

技术介绍

[0002]目前，大型激光设备制造过程，需要采用涂胶设备对超大尺寸基片进行光刻胶的涂覆（即匀胶工艺）。常规的光刻胶涂覆工艺有喷涂、旋涂（旋转涂胶）及刮涂等，其中旋涂工艺的膜厚均匀性最好。
[0003]但是，如今半导体行业内的旋转涂胶设备无法完成大尺寸基片的光刻胶涂覆工艺，极少数定制的超大尺寸涂胶设备结构简单，只能实现基片的旋转，无法避免涂胶过程中的气流影响，从而无法保证方型基片的涂胶工艺。为此，亟需一种能够解决上述问题的旋涂匀胶设备。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于克服上述不足，提供一种能够方便的对超大尺寸基片进行旋涂匀胶的密封式旋转匀胶设备。
[0005]本专利技术的目的是这样实现的：一种密封式旋转匀胶设备，包含有主机架，所述主机架上竖向设置有转动主轴，所述转动主轴由主动力机构驱动旋转，载物盘固定安装于转动主轴的顶部，且载物盘位于主机架的平台面上方，基片顶升机构安装于主机架的平台面下方，且基片顶升机构的顶升件向上穿过主机架的平台面，载物盘上方设置有同步盖，且同步盖的顶部中心轴旋转插接在同步盖提升机构上。
[0006]本专利技术一种密封式旋转匀胶设备，所述主动力机构经由同步传动带驱动转动主轴旋转，且同步传动带由同步带张紧机构提供张紧力。
[0007]本专利技术一种密封式旋转匀胶设备，所述主机架侧壁上安装有小车导向定位机构，用于对装载有集片的小车进行定位导向。
[0008]本专利技术一种密封式旋转匀胶设备，滑动设置于平移机构上的自动涂胶臂位于载物盘上方；用于对放置于载物盘上的集片进行旋涂作业。
[0009]本专利技术一种密封式旋转匀胶设备，自动腐蚀臂安装于主机架旁。
[0010]本专利技术一种密封式旋转匀胶设备，所述载物盘上设置有真空吸附孔，上述转动主轴经旋转接头与载物盘箱连接，且真空吸附孔经由旋转接头上的气孔连通至抽真空装置。
[0011]本专利技术一种密封式旋转匀胶设备，所述同步盖提升机构包含有水平设置的连接平板，同步盖的顶部中心轴旋转插接在连接平板的一端上，该连接平板滑动设置于竖向安装的滑轨模组上，且连接平板的另一端上设置有配重，使得其可承受重量较大的同步盖的开盖和闭盖。
[0012]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：本专利技术可方便的为基片（尤其是超大尺寸）提供旋涂工艺，且加装自动腐蚀臂臂后可进
行湿法腐蚀工艺，实现一机多用；同时，本专利技术设备整体结构紧凑，在保证涂胶和腐蚀工艺的前提下，设备自动化程度较高，便于超大尺寸基片的工艺生产要求。
附图说明
[0013]图1为本专利技术一种密封式旋转匀胶设备的结构示意图。
[0014]图2为本专利技术一种密封式旋转匀胶设备的正视图。
[0015]图3为本专利技术一种密封式旋转匀胶设备的侧视图。
[0016]图4为本专利技术一种密封式旋转匀胶设备的俯视图。
[0017]其中：同步盖提升机构1、同步盖2、主机架3、载物盘4、小车导向定位机构5、自动涂胶臂6、主动力机构7、自动腐蚀臂8、基片顶升机构9、转动主轴10、同步带张紧机构11、12。
具体实施方式
[0018]参见图1~4，本专利技术涉及的一种密封式旋转匀胶设备，包含有主机架3，所述主机架3上竖向设置有转动主轴10，所述转动主轴10由主动力机构7驱动旋转，载物盘4固定安装于转动主轴10的顶部，且载物盘4位于主机架3的平台面上方，其特征在于：基片顶升机构9安装于主机架3的平台面下方，且基片顶升机构9的顶升件向上穿过主机架3的平台面，载物盘4上方设置有同步盖2，且同步盖2的顶部中心轴旋转插接在同步盖提升机构1上；优选的，所述主动力机构7经由同步传动带12驱动转动主轴10旋转，且同步传动带12由同步带张紧机构11提供张紧力；优选的，所述主机架3侧壁上安装有小车导向定位机构5，用于对装载有集片的小车进行定位导向；优选的，滑动设置于平移机构上的自动涂胶臂6位于载物盘4上方；用于对放置于载物盘4上的集片进行旋涂作业；优选的，自动腐蚀臂8安装于主机架3旁；优选的，所述载物盘4上设置有真空吸附孔，上述转动主轴10经旋转接头与载物盘4箱连接，且真空吸附孔经由旋转接头上的气孔连通至抽真空装置；优选的，所述同步盖提升机构1包含有水平设置的连接平板，同步盖2的顶部中心轴旋转插接在连接平板的一端上，该连接平板滑动设置于竖向安装的滑轨模组上，且连接平板的另一端上设置有配重，使得其可承受重量较大的同步盖2的开盖和闭盖。
[0019]本专利技术涉及一种密封式旋转匀胶设备的工作原理为：旋涂时：装载有基片的小车经由小车导向定位机构5定位后，基片顶升机构9把基片吸附并向上顶起，基片脱离小车后，小车退出，基片顶升机构9下降使基片置于载物盘4上，载物盘4吸附住基片，自动涂胶臂5移动至基片上方涂胶开始涂胶作业，完成涂胶后退出回零位，接着同步盖提升机构1将同步盖2下降至与载物盘4四周接触，使其同步盖2和载物盘4盖紧密封形成同步腔，上述涂胶后的基片位于同步腔内，随后主动力机构7带动同步带12使转动主轴10按照工艺要求转动，使基片完成旋涂工艺；接着小车再次驶入接走完成匀胶作业的基片。
[0020]腐蚀时：匀胶后的基片完成烘烤后，再次经由小车导向定位机构5定位后，基片顶升机构9把基片吸附并向上顶起，基片脱离小车后，小车退出，基片顶升机构9下降使基片置于载物盘4上，载物盘4吸附住基片，自动腐蚀臂8移动至基片上方进行工艺腐蚀；待刻蚀完毕后，同旋涂时一样，基片顶升机构9向上把基片吸附并向上顶起，接着驶入小车，随后基片顶升机构9下降使腐蚀后的基片置于小车上，小车退出即可。
[0021]另外：需要注意的是，上述具体实施方式仅为本专利的一个优化方案，本领域的技术人员根据上述构思所做的任何改动或改进，均在本专利的保护范围之内。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种密封式旋转匀胶设备，包含有主机架（3），所述主机架（3）上竖向设置有转动主轴（10），所述转动主轴（10）由主动力机构（7）驱动旋转，载物盘（4）固定安装于转动主轴（10）的顶部，且载物盘（4）位于主机架（3）的平台面上方，其特征在于：基片顶升机构（9）安装于主机架（3）的平台面下方，且基片顶升机构（9）的顶升件向上穿过主机架（3）的平台面，载物盘（4）上方设置有同步盖（2），且同步盖（2）的顶部中心轴旋转插接在同步盖提升机构（1）上。2.如权利要求1所述一种密封式旋转匀胶设备，其特征在于：所述主动力机构（7）经由同步传动带（12）驱动转动主轴（10）旋转，且同步传动带（12）由同步带张紧机构（11）提供张紧力。3.如权利要求1所述一种密封式旋转匀胶设备，其特征在于：所述主机架（3）侧壁上安装有小车导向定位机构（5...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪竹，陈酉冰，魏益波，刘正伟，
申请(专利权)人：江苏雷博科学仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：