电光装置、其制造方法以及电子设备制造方法及图纸

本发明专利技术的目的是，高效率制造能够进行高品质的显示的电光装置。通过在基板表面上叠层限制层和辅助层形成取向膜。限制层，具有在基板表面将电光物质的取向限制在特定方向的取向限制力。辅助层，作为限制层的下层设置，用于在取向限制力方面辅助限制层、具有在特定方向中的至少沿基板表面的方位角方向的取向限制力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及例如液晶装置等电光装置的制造方法及该电光装置、以及具有该电光装置的例如液晶投影机等电子设备的

技术介绍
在此种的电光装置中，利用具有特定表面形状的取向膜，进行电光物质的取向控制。如此的取向膜，除通过对聚酰亚胺等有机膜实施研磨处理制作外，有时通过从斜向对基板进行真空蒸镀(即，斜向蒸镀法)或溅射氧化硅(SiO)等无机材料，进行制作。以下，将如此的对成膜面从斜向供给蒸发材料的成膜方法，适宜称为“斜向成膜法”。根据斜向成膜法，利用自遮蔽(self-shadowing)效果，形成蒸发材料的向基板的入射方向倾斜的微细的柱状结构。因此，利用该形状，使液晶取向。斜向成膜法，在筋状的取向处理斑等研磨处理上的问题方面得到解决，而且作为可得到耐光性好的取向膜的方法，引人注目。此外，利用斜向成膜法的取向膜，已知，根据蒸镀材料、其形状、或者液晶材料，液晶分子水平取向或垂直取向(例如，参照非专利文献1)。可是，一般，在成为取向膜的基底的基板表面，几乎都存在起因于布线或电极、遮光膜等的厚度的台阶高度差。因此，在斜向成膜时，产生成为台阶高度差的遮蔽，难成膜或不能完全成膜的区域。如果在取向膜上出现如此的斑，因取向能力弱，成为导致因漏光或透射率下降而降低对比度的原因。为此，提出了消除取向膜上的斑乃至起因于其的显示斑的方案。例如在专利文献1中，公开了由2层斜向蒸镀膜构成的取向膜。在此种情况下，第2层蒸镀膜，通过使蒸镀方向中的方位角分量不同于第1层的蒸镀膜，在第1层上，即使对于难蒸镀的台阶高度差的影，也能够蒸镀。此外，在专利文献2及3中，也公开了通过将斜向蒸镀膜形成为2层，消除因台阶高度差不能蒸镀的区域的技术。专利文献1特开2002-277879号公报专利文献2特开2001-5003号公报专利文献3特开昭53-60254号公报非专利文献1M.Lu et al.，SID’00 DIGEST，29.4，446(2000)但是，由于也包括专利文献1的2层取向膜，利用斜向成膜法的取向膜的取向能力基本上来自膜结构，因此有时达不到可与有机聚酰亚胺取向膜匹敌的水平。尤其，因为不进行研磨处理，因此存在难同时且可靠地控制取向的极角方向和方位角方向，容易对显示、响应速度产生不良影响的技术问题。具体是，在将采用斜向成膜法的取向膜用于垂直取向模式的情况下，如果以预倾角小的条件成膜取向膜，由于不规定液晶分子倒下的方向，因此在像素内发生向错。因此，如果为了规定液晶分子倒下的方向，某种程度地加大预倾角，这样就存在因液晶的双折射，不能足够暗地显示黑电平的问题。此外，在将采用斜向成膜法的取向膜用于水平模式的情况下，由于因使用的材料，方位角方向的稳定性弱，因此受横电场的影响，发生向错，存在得不到按照设计的透射率的问题。
技术实现思路
本专利技术是鉴于以上的问题点而提出的，其目的在于，提供能够进行高品质的显示、可高效率制造的电光装置及其制造方法，以及具有如此的电光装置的电子设备。本专利技术的电光装置，为解决上述问题，具有一对基板、夹持在所述一对基板间的电光物质以及取向膜，该取向膜形成在所述一对基板中的至少一方的基板上的面向所述电光物质的一侧的表面上；所述取向膜，在所述表面上，叠层有具有在所述表面上将所述电光物质的取向限制在特定方向的取向限制力的限制层、和作为所述限制层的下层设置的，用于在所述取向限制力方面辅助所述限制层的，具有在所述特定方向中至少沿所述表面的方位角方向的取向限制力的辅助层。根据本专利技术的电光装置，以通过控制液晶等电光物质的取向状态进行灰度显示的方式构成，利用取向膜限制电光物质的初始取向。本专利技术的取向膜，具有2层或2层以上的多层结构，由配置在基板表面上的限制层和其下层即辅助层构成。限制层，是用于通过与电光物质接触，直接控制与取向膜的界面附近的电光物质的方向(即，电光物质的平均的配列方向)而设置的，具有作为将电光物质的取向限制在特定方向的取向膜的功能(取向能力)。此处，所谓“特定方向”，是作为电光物质的取向方向预先设定的特定的方向，通常作为相对于基板表面的极角方向及方位角方向，3维地设定。但是，如果限制层只是1层，如上所述取向限制力多不足。尤其，如果其方位角方向的取向限制力不足，有引起取向斑、响应速度的降低等，成为显示不良的原因的可能性。因此，在本专利技术中，在限制层的下层侧，叠层有用于加强限制层的取向限制力的辅助层。更具体地是，辅助层，以具有相对于特定方向中的方位角方向的取向能力的方式构成。这意味着，一般，使由辅助层限制的电光物质的取向方向，与由限制层限制的电光物质的取向方向一致，或形成为一致，但根据电光物质的光学模式，也不一定使两者一致。或者，辅助层，可以不仅具有方位角方向的取向限制力，也具有极角方向的取向限制力，即，本专利技术的辅助层，至少关于方位角方向的取向控制，如上所述，只要起到辅助限制层的作用就可以。其意思是，辅助层既可以是与限制层相同的膜，在只对方位角方向提供取向限制力的情况下等，也可以是材料或结构与限制层不同的膜。此外，辅助层，既可以是1层，也可以是多层。辅助层，虽位于限制层的下方，但是通过与电光物质的相互作用，能够使取向能力充分作用于电光物质。此外，由于限制层及辅助层的取向能力来自其形状，所以，例如，利用斜向蒸镀等形成时的各层的厚度，非常薄，到40～100nm的程度。因此，辅助层和电光物质的距离，接近相互发挥作用的程度。由于具有如此的构成，所以本专利技术的取向膜，不通过研磨处理提供取向能力，具备来自膜自身的结构乃至形状的取向能力。即，取向膜，通过以基板表面为基底的蒸镀法或溅射法等形成。此外，取向膜，也可以例如由SiO等无机材料构成，形成在一对基板的任何一方或双方上。如此的取向膜，与单独采用限制层时相比，方位角方向的取向限制力增强，以进一步加强电光物质的方位角方向的取向力的方式作用。其结果，例如，在垂直取向模式中，即使在以预倾角小的条件成膜取向膜的情况下，由于规定液晶分子的倒下方向，所以能够抑制或预先防止向错的发生。此外，即使在水平取向模式中，由于方位角方向的稳定性充分增强，因此能够抑制或预先防止向错的发生。即，根据本专利技术，能够抑制或预先防止因取向膜的取向限制力不足而产生的电光物质的取向斑或响应速度的降低，能够进行高品质的显示。此外，本专利技术的取向膜，只要能够设方向特定方向提供取向能力的条件，就能够采用例如斜向蒸镀等通常的成膜方法，可靠地形成能够发挥功能的状态。如上所述，在本专利技术的电光装置中，由于设置叠层有限制层和辅助层的取向膜，对辅助层提供能够使电光物质取向为特定的方位角方向的取向能力，所以能够增强电光物质的方位角方向的取向力，能够进行高品质的显示。此外，如此的取向膜，由于具有根据膜结构的取向能力，所以不需要研磨处理。因此，消除了伴随研磨处理产生的显示不良。同时，由于能够只通过采用斜向成膜法等成膜就能够完成，所以能够高效率地制造电光装置。另外，在用无机材料构成取向膜的各层的情况下，与实施研磨处理的聚酰亚胺膜等的有机取向膜相比，具有能够进一步提高耐光性的优点。在本专利技术的电光装置的一方式中，所述辅助层，包括使所述电光物质水平取向的层。根据此方式，辅助层，一般以包括只具有方位角方向的取向限制力的层的方式构成。即，可以是这样的层的单层，也可以包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电光装置，其特征在于：具有，一对基板；夹持在所述一对基板间的电光物质；以及取向膜，其形成在所述一对基板中的至少一方的基板上的面向所述电光物质的一侧的表面上；所述取向膜，在所述表面上，叠层有具有在所 述表面上将所述电光物质的取向限制在特定方向的取向限制力的限制层，和作为所述限制层的下层设置的、为了在所述取向限制力方面辅助所述限制层的、具有在所述特定方向中的至少沿所述表面的方位角方向的取向限制力的辅助层。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：和野裕美，田中孝昭，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]