具有消影效果的金属桥结构及包含该结构的触摸屏制造技术

本实用新型专利技术公开了一种具有消影效果的金属桥结构及包含该结构的触摸屏，该结构包括多条折线，相邻两条折线之间首尾连接形成弯折部，多条折线连接成具有两个自由端的波动的金属桥，金属桥的两个自由端分别与间隔开的两个电极接触；该金属桥为多层堆叠设置的金属膜层结构。本实用新型专利技术还涉及包含该结构的触摸屏。本实用新型专利技术的金属桥结构结合了现有ITO搭桥和金属搭桥的优点，在不增加膜层的情况下，通过设计具有一定形状的金属桥，达到金属桥点消影的效果，提高金属桥方案产品的外观效果，使此方案产品应用范围更广。

【技术实现步骤摘要】
具有消影效果的金属桥结构及包含该结构的触摸屏
本技术属于触控显示领域，具体涉及一种具有消影效果的金属桥结构及包含该结构的触摸屏。
技术介绍
触摸屏产品有双面结构和单面桥式结构及低端的毛毛虫等结构，双面结构触摸屏产品设计主要被苹果公司申请专利，应用于苹果产品或苹果授权的产品上。毛毛虫结构只能实现简单触控和手势，主要应用在低端产品上。单面桥式结构产品在市面上占主流，包括消费电子、工控产品、车载产品等都在大量使用。单面桥式结构从搭桥膜层材质上分，又有ITO桥（如图1所示）和金属桥结构（如图2所示）。ITO桥sensor桥点不易见，但工序多；金属桥sensor工序少,但常规设计金属桥点明显，不管是反射还是透射看都比较明显。单面桥式结构ITO搭桥方案，是行业最常用的方案，此方案实现工艺和技术较容易。如图1所示，从ITO桥方案膜层结构看，此方案比金属桥结构产品多一道ITO膜层，从工艺上分解，就需要增加一道ITO镀膜，一道ITO光刻和蚀刻，产品流程更长，成本更高，效率也更低。另ITO桥方案如果在PET膜上成膜，不能卷对卷加工，OC后再镀ITO2技术难度非常大。单面桥式结构金属搭桥方案，常规矩形金属桥设计，从工艺流程和成本效率等比较，相对于ITO桥方案更有优势，如图2所示，膜层结构减少一层，可以提高效率，降低成本。但金属桥结构产品的金属桥点用肉眼直观看就能很容易看到，外观效果不佳，桥点明显、发亮，影响视觉效果。特别像消费类电子产品，需要近距离使用的，更是影响使用效果。此类产品应用范围较窄，只有外观效果要求不高的产品上可使用，或平时使用离眼睛比较远的产品，很少使用在消费电子产品上。
技术实现思路
本技术提供一种具有消影效果的金属桥结构及包含该结构的触摸屏，结合了ITO搭桥和金属搭桥的优点，在不增加膜层的情况下，通过设计具有一定形状的金属桥，达到金属桥点消影的效果，提高金属桥方案产品的外观效果，使此方案产品应用范围更广。本技术的技术方案是，具有消影效果的金属桥结构，该结构包括多条折线，相邻两条折线之间首尾连接形成弯折部，多条折线连接成具有两个自由端的波动的金属桥，金属桥的两个自由端分别与间隔开的两个电极接触；该金属桥为多层堆叠设置的金属膜层结构。进一步地，所述折线为3条，连接后形成Z字型金属桥，其两个自由端分别连接到间隔开的电极。进一步地，所述弯折部的夹角为60~150°。进一步地，所述金属桥的宽度为5-15μm。采用所述金属桥结构制备的触摸屏，包括基材层，基材层上设有消影层和ITO图形层，ITO图形层上设置金属桥结构的下方设有绝缘层，绝缘层上方设置金属桥结构，与金属桥结构同层设置还有位于触摸屏外围的引线，金属桥结构及引线的上方设置保护层。常规矩形金属桥结构触摸屏，在屏幕点亮时金属桥点目测发亮，桥点非常明显，熄屏或点亮屏幕在暗背景下桥点反射明显，严重影响视觉效果。屏幕点亮状态下金属桥点发亮明显，本技术通过设计特殊形状的金属桥，将常规的矩形金属桥修改为具有弯折部位的“Z”形金属桥，利用金属桥点左右两个拐角透射过来的光线形成光干涉，消弱桥点处的光强度，来达到消影的效果。本技术不需要额外增加膜系，就能实现金属桥点消影的目的，成本低效率高。附图说明图1为
技术介绍
中ITO桥结构产品示意图，其中左图为触摸屏膜层结构示意图，右图为触摸屏俯视图。图2为
技术介绍
中现有金属桥结构产品示意图，其中左图为触摸屏膜层结构示意图，右图为触摸屏俯视图。图3为本技术提供的触摸屏膜层结构示意图，其中3为基材层、4为消影层、5为ITO图形层，6为绝缘层，7为金属桥结构层，8为保护层。图4为实施例1中的金属桥结构俯视图。其中1为金属桥折线，2为电极。图5为实施例2中的金属桥结构俯视图。具体实施方式下面将结合实施例对本技术的实施方案进行详细描述，但是本领域技术人员将会理解，下列实施例仅用于说明本技术，而不应视为限定本技术的范围。实施例1：如图4所示，一种具有消影效果的金属桥结构，该结构包括3条折线1，相邻两条折线之间首尾连接共形成2个弯折部，多条折线连接成具有两个自由端的波动的金属桥，金属桥的两个自由端分别与间隔开的两个电极2接触，整个金属桥的形状从俯视角度看类似“Z”字型。该金属桥采用CuNi/Cu/CuNiTi三层堆叠的金属膜层，表面的CuNiTi金属膜层进行黑化处理，其反射率在35%以下，面电阻为0.6Ω，金属桥的宽度为10μm。该具有消影效果的金属桥结构的制备具体包括以下步骤：1）在需要设置金属桥结构的产品表面通过磁控溅射依次镀上CuNi/Cu/CuNiTi三层金属膜，磁控溅射CuNiTi金属膜时在溅射气体中充入一定量的氧气，其中氧气与溅射气体的体积比为15%；2）完成镀膜后，在膜层表面通过光刻做成所需金属桥的光阻膜图形；3）光刻完成后，再通过蚀刻法将图形外的其它多余的金属膜层去掉；最后将图形表面的光阻膜去掉，即得具有消影效果的金属桥结构。实施例2：如图5所示，一种具有消影效果的金属桥结构，该结构包括5条折线，相邻两条折线之间首尾连接共形成4个弯折部，多条折线连接成具有两个自由端的波动的金属桥，金属桥的两个自由端分别与间隔开的两个电极接触。实施例3：一种具有消影效果的金属桥结构，该结构包括4条折线，相邻两条折线之间首尾连接共形成3个弯折部，多条折线连接成具有两个自由端的波动的金属桥，金属桥的两个自由端分别与间隔开的两个电极接触。实施例4：采用实施例1中的金属桥结构制备触摸屏，如图3所示；包括基材层3，基材层上设有消影层4和ITO图形层5，ITO图形层上设置金属桥结构的下方设有绝缘层6，绝缘层上方设置金属桥结构7，与金属桥结构同层设置还有位于触摸屏外围的引线，金属桥结构及引线的上方设置保护层8。其中基材层可选玻璃、PET膜或COP膜或PI膜。具体制备工艺为：步骤1：通过磁控溅射方法在基材表面镀ITO消影层和ITO膜；步骤2：通过黄光及蚀刻工艺将ITO膜做出所需图形；步骤3：通过黄光工艺将需要在ITO上跨桥的图形做上一层绝缘层；步骤4：通过磁控溅射方法在基材及图形表面镀金属膜；步骤5：通过黄光及蚀刻工艺将金属膜层做成桥及外围引线；步骤6：通过黄光工艺将图形做上一层保护层，得到触摸屏。采用本技术金属桥结构的手机屏幕，无论在反射光还是透射光照下，桥点消影效果都比常规金属桥结构的要好，常规金属桥结构的手机存在肉眼可见的明显桥点，而采用本技术金属桥结构的手机屏幕肉眼未观察到桥点。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.具有消影效果的金属桥结构，其特征在于：该结构包括多条折线，相邻两条折线之间首尾连接形成弯折部，多条折线连接成具有两个自由端的波动的金属桥，金属桥的两个自由端分别与间隔开的两个电极接触；该金属桥为多层堆叠设置的金属膜层结构。/n

【技术特征摘要】
1.具有消影效果的金属桥结构，其特征在于：该结构包括多条折线，相邻两条折线之间首尾连接形成弯折部，多条折线连接成具有两个自由端的波动的金属桥，金属桥的两个自由端分别与间隔开的两个电极接触；该金属桥为多层堆叠设置的金属膜层结构。


2.根据权利要求1所述的金属桥结构，其特征在于：所述折线为3条，连接后形成Z字型金属桥，其两个自由端分别连接到间隔开的电极。


3.根据权利要求1所述的金属桥结构，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：傅志敏，黄勇祥，张莉，郑建万，秦重虎，汪晚红，蒋雨彬，
申请(专利权)人：宜昌南玻显示器件有限公司，
类型：新型
国别省市：湖北;42