【技术实现步骤摘要】
用于晶圆的夹取及传输机构、CMP抛光设备
本专利技术涉及晶圆传输
,具体涉及一种用于晶圆的夹取及传输机构、CMP抛光设备。
技术介绍
晶圆制造过程主要包括扩散(ThermalProcess)、光刻(Photo-lithography)、刻蚀(Etch)、离子注入(IonImplant)、薄膜生长(DielectricDeposition)、化学机械抛光(CMP)、金属化(Metalization)七个相互独立的工艺流程,这些工艺流程都会有相对应的晶圆制造设备来完成芯片制造流程。晶圆制造设备主要包括光刻机、刻蚀机、薄膜设备、扩散\离子注入设备、湿法设备、CMP抛光设备、过程检测七大类。其中,CMP抛光设备是一种集机械学、流体力学、材料化学、精细化工、控制软件等多领城最先进技术于一体的设备,是集成电路制造设备中较为复杂和研制难度较大的设备之一。CMP抛光设备包括前端晶圆存储设备、抛光区和清洗区;在晶圆的整个的流转过程中,需要传输设备将晶圆在抛光区和清洗区之间进行转移和交换以及在抛光区的各载物台之间进行交换;同时,在传输设备的前端需要设置有夹取装置,对晶圆进行取放。
技术实现思路
因此,本专利技术提供一种用于晶圆的夹取及传输机构。本专利技术还提供一种具有上述用于晶圆的夹取及传输机构的CMP抛光设备。本专利技术提供的一种用于晶圆的夹取及传输机构,包括:水平传输机构,具有水平滑轨平台、第一驱动块和第一驱动电机,所述第一驱动块在所述第一驱动电机的驱动下沿所述水平滑轨平台进 ...
【技术保护点】
1.一种用于晶圆的夹取及传输机构,其特征在于,包括:/n水平传输机构,具有水平滑轨平台(1)、第一驱动块和第一驱动电机(2),所述第一驱动块在所述第一驱动电机的驱动下沿所述水平滑轨平台进行水平移动;/n垂直传输机构,具有竖直滑轨平台(3)、第二驱动块和第二驱动电机(4),所述竖直滑轨平台连接在所述第一驱动块上,所述第二驱动块在所述第二驱动电机的驱动下沿所述竖直滑轨平台进行竖直移动;/n旋转机构,具有旋转轴(6)、旋转座(5)和第三驱动电机(7),所述旋转座(5)连接在所述第二驱动块上,所述旋转轴(6)竖直设置并可沿其自身轴线进行转动地连接在所述旋转座(5)上,所述旋转轴(6)在所述第三驱动电机(7)的驱动下进行旋转;/n夹持机构,具有悬臂(10)和夹持组件,所述悬臂(10)的一端连接在所述旋转轴(6)上,所述悬臂(10)的另一端与所述夹持组件连接;/n所述夹持组件包括:对称设置的第一夹爪组和第二夹爪组,所述第一夹爪组具有竖直朝下设置的至少一个第一夹指(11),所述第二夹爪组上具有竖直朝下设置的对称的至少两个第二夹指(17)。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于晶圆的夹取及传输机构,其特征在于,包括:
水平传输机构,具有水平滑轨平台(1)、第一驱动块和第一驱动电机(2),所述第一驱动块在所述第一驱动电机的驱动下沿所述水平滑轨平台进行水平移动;
垂直传输机构,具有竖直滑轨平台(3)、第二驱动块和第二驱动电机(4),所述竖直滑轨平台连接在所述第一驱动块上,所述第二驱动块在所述第二驱动电机的驱动下沿所述竖直滑轨平台进行竖直移动;
旋转机构,具有旋转轴(6)、旋转座(5)和第三驱动电机(7),所述旋转座(5)连接在所述第二驱动块上,所述旋转轴(6)竖直设置并可沿其自身轴线进行转动地连接在所述旋转座(5)上,所述旋转轴(6)在所述第三驱动电机(7)的驱动下进行旋转;
夹持机构,具有悬臂(10)和夹持组件,所述悬臂(10)的一端连接在所述旋转轴(6)上,所述悬臂(10)的另一端与所述夹持组件连接;
所述夹持组件包括:对称设置的第一夹爪组和第二夹爪组,所述第一夹爪组具有竖直朝下设置的至少一个第一夹指(11),所述第二夹爪组上具有竖直朝下设置的对称的至少两个第二夹指(17)。
2.根据权利要求1所述的用于晶圆的夹取及传输机构,其特征在于,所述夹持组件还包括:
支架(22),与所述悬臂(10)连接,并分别连接所述第一夹爪组和所述第二夹爪组;
夹爪驱动装置(23),连接在所述支架(22)上,具有驱动所述第一夹爪组和所述第二夹爪组相互远离的驱动力;
弹性件,连接在所述支架(22)上,具有驱动所述第一夹爪组和所述第二夹爪组相互靠近的偏压力。
3.根据权利要求2所述的用于晶圆的夹取及传输机构,其特征在于,所述第一夹爪组包括:
第一夹指(11);
第一连杆(12),一端与所述第一夹指(11)连接,另一端穿过所述支架(22)与所...
【专利技术属性】
技术研发人员:李欢,刘福强,王鹏,李伟,
申请(专利权)人:北京烁科精微电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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