【技术实现步骤摘要】
换能器
本专利技术涉及一种换能器。
技术介绍
超音波换能器包括块材压电陶瓷换能器、电容式微机械超音波换能器及压电式微机械超音波换能器。近几年,许多厂商及研究单位纷纷投入电容式微机械超音波换能器的开发。此技术利用半导体工艺,可使超音波换能器的体积微小化,相较于传统的块材压电材料,更易整合至各种产品上。电容式微机械超音波换能器包括第一电极、位于第一电极上方的振荡膜以及位于振荡膜上的第二电极,其中第一电极与振荡膜之间具有一空腔。第一电极与第二电极之间的电场可使振荡膜在空腔中摆动,由此,便可发出超音波。目前制作空腔其中一种方式是:先在基板上形成牺牲图案层,再形成空腔定义层,以包覆牺牲图案层;之后,利用蚀刻液去除空腔定义层内的牺牲图案层;由此,便可形成多个空腔。然而,当靠近基板边缘的空腔内的牺牲图案层去除干净时,靠近基板中间的空腔内的牺牲图案层却尚未去除干净。为使所有空腔内的牺牲图案层皆去除干净,需增加工艺时间,而不利于量产。另一方面,若不增加工艺时间,残留在空腔内的牺牲图案层会造成空腔的均匀性下降,影响电容式微机械超音波换能器的性能。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种性能佳的换能器。本专利技术一实施例的换能器,包括多个工作结构。每一工作结构包括第一电极、空腔定义层、第二电极以及多个封止件。空腔定义层设置于第一电极上。空腔定义层具有振荡膜。振荡膜设置于第一电极的上方。振荡膜具有主要部以及由主要部向外延伸的多个辅助部。振荡膜的主要部与第一电极之间具有空腔。振荡膜的多个辅助部与第一电极 ...
【技术保护点】
1.一种换能器,包括:/n多个工作结构,其中每一该工作结构包括:/n一第一电极;/n一空腔定义层,设置于该第一电极上,其中该空腔定义层具有一振荡膜,该振荡膜设置于该第一电极的上方,该振荡膜具有一主要部以及由该主要部向外延伸的多个辅助部,该振荡膜的该主要部与该第一电极之间具有一空腔,该振荡膜的多个所述辅助部与该第一电极之间具有多个通道,且该振荡膜的多个所述辅助部分别具有多个贯孔;/n一第二电极,设置于该振荡膜的该主要部上;以及/n多个封止件,设置于该空腔定义层上和多个所述贯孔中;/n其中,多个所述工作结构包括一第一工作结构,该第一工作结构的多个所述通道包括多个通道组,每一该通道组的多个通道设置于该第一工作结构的该空腔的相对两侧,位于每一该通道组的每一该通道上的一该贯孔设置于该第一工作结构的该空腔与相邻的另一该工作结构的该空腔之间,且该第一工作结构的多个所述通道组是交错设置。/n
【技术特征摘要】
20200310 TW 1091078321.一种换能器,包括:
多个工作结构,其中每一该工作结构包括:
一第一电极;
一空腔定义层,设置于该第一电极上,其中该空腔定义层具有一振荡膜,该振荡膜设置于该第一电极的上方,该振荡膜具有一主要部以及由该主要部向外延伸的多个辅助部,该振荡膜的该主要部与该第一电极之间具有一空腔,该振荡膜的多个所述辅助部与该第一电极之间具有多个通道,且该振荡膜的多个所述辅助部分别具有多个贯孔;
一第二电极,设置于该振荡膜的该主要部上;以及
多个封止件,设置于该空腔定义层上和多个所述贯孔中;
其中,多个所述工作结构包括一第一工作结构,该第一工作结构的多个所述通道包括多个通道组,每一该通道组的多个通道设置于该第一工作结构的该空腔的相对两侧,位于每一该通道组的每一该通道上的一该贯孔设置于该第一工作结构的该空腔与相邻的另一该工作结构的该空腔之间,且该第一工作结构的多个所述通道组是交错设置。
2.如权利要求1所述的换能器,其中每一该工作结构的该第二电极具有一第一部和一第二部,该第二电极的该第一部设置于该振荡膜的该主要部上,该第二电极的该第二部设置于该空腔外,且该第二电极的该第二部的在一方向上的一宽度小于该第二电极的该第一部在该方向上的一宽度。
3.如权利要求2所述的换能器,其中一拟直线通过该第一工作结构的一该通道组的多个所述通道上的多个所述贯孔,该第一工作结构的该第二电极的该第二部的一延伸方向与该拟直线具有一夹角θ,且10°≤θ≤80°。
4.如权利要求2所述的换能器,其中该第二电极的该第一部的该宽度为L1,该第二电极的该第二部的该宽度为L2,且0.01≤(L2/L1)≤1。
5.如权利要求1所述的换能器,其中多个所述工作结构设置于一基板上,该第一工作结构的一该贯孔于该基板上的一垂直投影位于该第一工作结构的一该通道于该基板上的一垂直投影以内。
6.如权利要求1所述的换能器,其中该每一该通道的一宽度落在3μm至8μm的范围。
7.如权利要求1所述的换能器,其中该第一工作结构的至少一该通道与相邻的另一该工作结构的至少一该通道直接地连接。
8.如权利要求1所述的换能器,其中该第一工作结构的至少一该通道与相邻的另一该工作结构的至少一该通道彼此分离。
9.如权利要求1所述的换能器,其中该第一工作结构的一该通道与相邻的另一该工作结构的一该通道直接地连接,且该第一工作结构的另一该通道与相邻的...
【专利技术属性】
技术研发人员:邱品翔,黄泰翔,邱炜茹,陈政翰,李文渊,
申请(专利权)人:友达光电股份有限公司,
类型:发明
国别省市:中国台湾;71
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