一种金刚线切割多晶硅片制绒工艺制造技术

技术编号:27008585 阅读:29 留言:0更新日期:2021-01-08 17:15
本发明专利技术涉及一种金刚线切割多晶硅片制绒工艺,包括如下步骤:步骤一,采用碱性抛光液对多晶硅片进行化学抛光处理;步骤二,采用镀挖一体处理液对抛光后的硅片进行挖孔处理,在硅片表面制备出纳米孔洞;步骤三,采用脱银处理液对挖孔后的多晶硅片进行脱银处理,脱除硅片表面银颗粒;步骤四,采用扩孔处理液对脱银处理后的硅片进行扩孔处理,在硅片表面形成亚微米或微米级的孔洞。本发明专利技术通过对抛光、镀银挖孔、脱银、扩孔的合理控制,使得整个黑硅制绒过程便于控制,简化了制绒步骤,节省槽体数量和设备空间,降低了成本;提高开路电压,提高了组件的CTM;通过优化镀银添加剂组分,降低银含量,配合合理的污水处理工艺,降低了废液处理成本。

【技术实现步骤摘要】
一种金刚线切割多晶硅片制绒工艺
本专利技术属于多晶硅太阳能电池制造领域,具体涉及一种金刚线切割多晶硅片制绒工艺。
技术介绍
太阳能光伏技术经过近些年的不断发展,工艺日趋成熟。目前单晶硅太阳能电池由于具有转换效率高的优势,尤其在使用金刚线切割硅片之后,成本大幅度下降,市场份额逐渐增大,使得多晶硅太阳能电池的生存环境日趋恶劣。为了提高多晶硅电池的转换效率,近年来普遍采用了湿法黑硅技术。它利用金属辅助催化腐蚀,可有效解决金刚线硅片的制绒问题,并能显著提升多晶硅电池的转换效率,提高市场竞争力,但是现有的黑硅技术仍然存在很多弊端。首先,常规的银离子催化腐蚀工艺,整个制绒步骤繁琐,要包括碱抛、镀银、挖孔、扩孔、清洗等,机台槽体占地面积大,设备和化学品成本高,使得投入和产出不成比例,性价比低,现在已有很多采用黑硅工艺的厂家转为常规制绒工艺。其次,黑硅的效率提升仅0.2-0.3%,主要是电池端的电流提升,而通常采用酸液扩孔后的黑硅电池片,制成组件后的CTM(电池片制成组件对电池片效率的利用率)就比较低,即扩孔效果不理想。最后,金属辅助化学刻蚀所使用的银离子浓度虽然不高,但在大规模生产中其消耗量也很大,而且废液银离子的聚集,对环境危害巨大,必须增加废液处理投入,进一步增加了生产成本。综上所述,能否开发一种制绒步骤简单,两步法制绒,再采用新的扩孔工艺,将绒面尺寸进行优化,提升CTM,而且含银废水处理量少的,综合成本低的多晶硅黑硅制绒添加剂,将有非常重要的现实意义。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种多晶硅黑硅制绒工艺,通过整合镀银和挖孔,简化制绒步骤,节省槽体数量和设备空间,降低成本;通过优化扩孔添加剂组分和工艺,适当增加孔径大小和深度,在提高电池短路电流的同时,提高开路电压,提高了组件的CTM;通过优化镀银添加剂组分,降低银含量,配合合理的污水处理工艺,杜绝了对环境的危害,降低了废液处理成本。为实现上述目的,本专利技术设计了一种金刚线切割多晶硅片制绒工艺,包括如下步骤:步骤一,采用碱性抛光液对多晶硅片进行化学抛光处理;所述抛光液由4%~20%氢氧化钾或氢氧化钠、1%-2%抛光添加剂A和余量的去离子水组成;所述的抛光添加剂A由0.2%-0.4%的氢氧化钠、0.03%-0.05%硅酸钠、0.05%-0.1%羟(羧)甲基纤维素钠、0.05%-0.1%甲酸钠、0.05%-0.15%乙酸钠、1.0%-1.2%糊精、0.02%-0.03%异丙基苯磺酸钠、0.02%-0.03%异构十三醇聚氧乙烯醚和余量的去离子水组成;步骤二,采用镀挖一体处理液对抛光后的硅片进行挖孔处理,在硅片表面制备出纳米孔洞;所述的镀挖一体处理液由0.3%-0.6%双氧水、3%-6%氢氟酸、1%-2%镀银挖孔添加剂B和余量的去离子水组成;所述的镀银挖孔添加剂B由0.9%-1.2%硝酸银、0.08%-0.12%的硝酸、3.0%-3.5%乙二醇单甲醚、0.5%-0.8%聚乙二醇200-300、0.05%-0.15%乙二胺四乙酸、0.75%-0.95%壳寡糖和余量的去离子水组成;步骤三,采用脱银处理液对挖孔后的多晶硅片进行脱银处理,脱除硅片表面银颗粒;所述的脱银处理液由3%-6%氨水、5%-10%双氧水和余量的去离子水组成。步骤四,采用扩孔处理液对脱银处理后的硅片进行扩孔处理,在硅片表面形成亚微米或微米级的孔洞;所述扩孔处理液由10%-25%氢氟酸、20%-35%硝酸和余量的去离子水组成。本专利技术的优点和有益效果在于:本专利技术通过对抛光、镀银挖孔、脱银、扩孔的合理控制,使得整个黑硅制绒过程便于控制,简化了制绒步骤,节省槽体数量和设备空间,降低了成本;适当增加孔径大小和深度,在提高电池短路电流的同时,提高开路电压,提高了组件的CTM,可以获得外观良好、高转换效率的多晶黑硅片;通过优化镀银添加剂组分,降低银含量,配合合理的污水处理工艺,杜绝了对环境的危害,降低了废液处理成本。附图说明图1为本专利技术的实施例1中的制绒表面形貌SEM图。图2为本专利技术的实施例2中的制绒表面形貌SEM图。图3为本专利技术的实施例3中的制绒表面形貌SEM图。具体实施方式:下面结合附图和实施例,对本专利技术的具体实施方式做进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本专利技术的技术方案,而不能以此来限制本专利技术的保护范围。实施例1参见图1,一种金刚线切割多晶硅片制绒工艺,包括如下步骤:步骤一,采用碱性抛光液对多晶硅片进行化学抛光处理;所述抛光液由20%氢氧化钾或氢氧化钠、2%抛光添加剂A和余量的去离子水组成;所述的抛光添加剂A由0.4%的氢氧化钠、0.05%硅酸钠、0.1%羟(羧)甲基纤维素钠、0.1%甲酸钠、0.15%乙酸钠、1.2%糊精、0.03%异丙基苯磺酸钠、0.03%异构十三醇聚氧乙烯醚和余量的去离子水组成;步骤二,采用镀挖一体处理液对抛光后的硅片进行挖孔处理,在硅片表面制备出纳米孔洞;所述的镀挖一体处理液由0.6%双氧水、6%氢氟酸、2%镀银挖孔添加剂和余量的去离子水组成;所述的镀银挖孔添加剂由1.2%硝酸银、0.12%的硝酸、3.5%乙二醇单甲醚、0.8%聚乙二醇200、0.15%乙二胺四乙酸、0.95%壳寡糖和余量的去离子水组成;步骤三,采用脱银处理液对挖孔后的多晶硅片进行脱银处理,脱除硅片表面银颗粒;所述的脱银处理液由6%氨水、10%双氧水和余量的去离子水组成。步骤四,采用扩孔处理液对脱银处理后的硅片进行扩孔处理,在硅片表面形成亚微米级的孔洞;所述扩孔处理液由25%氢氟酸、35%硝酸和余量的去离子水组成。实施例2参见图2,一种金刚线切割多晶硅片制绒工艺,包括如下步骤:步骤一,采用碱性抛光液对多晶硅片进行化学抛光处理;所述抛光液由15%氢氧化钾或氢氧化钠、1.5%抛光添加剂A和余量的去离子水组成;所述的抛光添加剂A由0.3%的氢氧化钠、0.04%硅酸钠、0.07%羟(羧)甲基纤维素钠、0.07%甲酸钠、0.1%乙酸钠、1.1%糊精、0.025%异丙基苯磺酸钠、0.025%异构十三醇聚氧乙烯醚和余量的去离子水组成;步骤二,采用镀挖一体处理液对抛光后的硅片进行挖孔处理,在硅片表面制备出纳米孔洞;所述的镀挖一体处理液由0.45%双氧水、4.5%氢氟酸、1.5%镀银挖孔添加剂和余量的去离子水组成;所述的镀银挖孔添加剂由1.1%硝酸银、0.1%的硝酸、3.25%乙二醇单甲醚、0.65%聚乙二醇200、0.1%乙二胺四乙酸、0.8%壳寡糖和余量的去离子水组成;步骤三,采用脱银处理液对挖孔后的多晶硅片进行脱银处理,脱除硅片表面银颗粒;所述的脱银处理液由4.5%氨水、7.5%双氧水和余量的去离子水组成。步骤四,采用扩孔处理液对脱银处理后的硅片进行扩孔处理,在硅片表面形成亚微米级的孔洞;本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种金刚线切割多晶硅片制绒工艺,其特征在于,包括如下步骤:步骤一,采用碱性抛光液对多晶硅片进行化学抛光处理,/n所述的抛光液由4%~20%氢氧化钾或氢氧化钠、1%-2%抛光添加剂A和余量的去离子水组成,所述的抛光添加剂A由0.2%-0.4%的氢氧化钠、0.03%-0.05%硅酸钠、0.05%-0.1%羟(羧)甲基纤维素钠、0.05%-0.1%甲酸钠、0.05%-0.15%乙酸钠、1.0%-1.2%糊精、0.02%-0.03%异丙基苯磺酸钠、0.02%-0.03%异构十三醇聚氧乙烯醚和余量的去离子水组成;/n步骤二,采用镀挖一体处理液对抛光后的硅片进行挖孔处理,在硅片表面制备出纳米孔洞;/n步骤三,采用脱银处理液对挖孔后的多晶硅片进行脱银处理,脱除硅片表面银颗粒;/n步骤四,采用扩孔处理液对脱银处理后的硅片进行扩孔处理,在硅片表面形成亚微米或微米级的孔洞。/n

【技术特征摘要】
1.一种金刚线切割多晶硅片制绒工艺,其特征在于,包括如下步骤:步骤一,采用碱性抛光液对多晶硅片进行化学抛光处理,
所述的抛光液由4%~20%氢氧化钾或氢氧化钠、1%-2%抛光添加剂A和余量的去离子水组成,所述的抛光添加剂A由0.2%-0.4%的氢氧化钠、0.03%-0.05%硅酸钠、0.05%-0.1%羟(羧)甲基纤维素钠、0.05%-0.1%甲酸钠、0.05%-0.15%乙酸钠、1.0%-1.2%糊精、0.02%-0.03%异丙基苯磺酸钠、0.02%-0.03%异构十三醇聚氧乙烯醚和余量的去离子水组成;
步骤二,采用镀挖一体处理液对抛光后的硅片进行挖孔处理,在硅片表面制备出纳米孔洞;
步骤三,采用脱银处理液对挖孔后的多晶硅片进行脱银处理,脱除硅片表面银颗粒;
步骤四,采用扩孔处理液对脱银处理后的硅片进行扩孔处理,在硅片表面形成亚微米或微米级的孔洞。


2.根据权利要求1所述的多晶黑硅制绒工艺,其特征在于,所述的镀挖一体处理液由0.3%-0.6%双氧水、3%-6%氢氟酸、1%-2%镀银挖孔添加剂和余量的去离子水组成;
所...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘瑞鸿姬俊杰冯永康余刚常传波
申请(专利权)人:镇江仁德新能源科技有限公司镇江荣德新能源科技有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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