隐形眼镜的清洗与消毒系统技术方案

一种隐形眼镜清洗与消毒系统，其上外壳部分含紫外线灯；下基座部分含充满盐水的清洗消毒室；扰动机构在水中引起扰动；电控单元在清洗消毒周期内控制紫外线灯及扰动机构。隐形眼镜盒有一对盛眼镜的下方镜盒部分及可遮住紫外线的上方支架。扰动机构有一磁踏板系在一弹簧末端。踏板由磁通发生器驱动，在水中产生旋涡，带走镜片上的沉积物，沉积物在支架上以上被紫外线消毒。该系统不用擦洗和加热镜片，也不用清洁剂，防腐剂和化学药品。（*该技术在2012年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种隐形眼镜的保养系统，特别是关于能提供在一整体单元内清洗及消毒隐形眼镜的系统。隐形眼镜已广为使用，最近几年并引进精密隐形眼镜材料及保养制品。但适当保养仍然是很昂贵及耗费时间之事，因而使隐形眼镜使用人望而生畏，甚至放弃所规定的保养程序。适当的隐形眼镜保养包括将外来尘埃、雾膜以及如粘液、蛋白质及酶等沉积物自隐形眼镜上除去，并将沉淀和隐形眼镜中的有机体消毒，以防止眼睛在随后使用时受到感染。消毒工作对使用“软”性(亲水性)隐形眼镜尤其重要，因此种软性隐形眼镜会在清洗溶液中吸收水分。传统的清洗程序包括日常擦拭法(人工控拭)，即以肥皂或清洁剂人工擦拭，再在水中洗濯。使用自来水，因其中有硬矿物质，故不适宜。除了不方便之外，人工擦拭处理隐形眼镜会将隐形眼镜擦伤或在显微镜下可看到的对隐形眼镜的损伤。于是隐形眼镜须改为浸入化学溶液和/或加热六小时至一夜之久，消毒周期太长;且浸泡溶液中通常含有清洁剂、酵素除去剂、防腐剂及其他化学药剂，此类药剂会被吸入眼镜内，因而将刺激眼睛及粘膜。加热消毒对清洗隐形眼镜的沉积物不太有效，并且会使矿物沉积在隐形眼镜表面。此外，使隐形眼镜重复加热以消毒会逐渐造成眼镜材料实质上的退化。某些对隐形眼镜的消毒设计是以紫外线辐射来杀死微生物，如颁给N.Baron的美国专利4，063，890号及颁给P.Tittel等人的美国专利4，868，397号所示。但在不断消毒周期后紫外线辐射会对隐形眼镜聚合材料造成退化危险。此外，事前仍然需要人工清洗，不但不便且易造成隐形眼镜损伤。因此，本专利技术的主要目的在于提供一种系统，该系统能清洗沉积物并能方便地消毒隐形眼镜，且时间亦甚短。其具体目的在于发展一种不用刺激的化学药品、防腐剂、清洁剂或去酵剂的系统，该系统能消毒隐形眼镜而不必加热或使用消毒用化学溶液。根据本专利技术，一种隐形眼镜的清洗与消毒系统包括一封闭的外壳，其中有一小室以容纳一定容积的液体;一个装在小室上方部位而在一定量液体之上的紫外线辐射源;一个眼镜盒以容纳隐形眼镜于小室内并浸入在该液体中;一扰动机构用来引致液体扰动使其有足够力量以去除眼镜上的尘埃、雾膜及其他沉积物使之落入液体中;以及一电控单元，以操作紫外线辐射源去消毒液体中的被除去的尘埃、雾膜及其他沉积物。在一较佳的实施例中，眼镜盒有一对下方的镜盒部分，被装在一上方支架上，该支架有一对臂部，装在外壳的各侧面，以悬吊镜盒部分于液体中。上方支架部分浸没在液体中，液体则位于紫外线(以下简称UV)源与镜盒部分之间，以防止UV光线直接照射在隐形眼镜上，因此可防止UV对隐形眼镜聚合材料造成退化。扰动机构为一磁踏板或磁转子形式，置于小室底部的中央位置，并由磁通发生器驱动，以产生一旋涡在镜盒部分中及其四周旋转。从隐形眼镜上去除的尘埃、雾膜及其他沉积物被旋涡带到液体上部，即在隐形眼镜盒上方支架之上的液体中，杂物在该处被UV辐射消毒。消毒后的沉积物留在上方支架处，然后被收集清除。外壳最好做成包括一下方基座部分，该部分中包含上述清洗及消毒小室、扰动机构及系统的电控部分。UV源为一种UV杀菌灯，装在上方外壳部分中，在使用时该部分扣合在下方基座部分上。上方部分有供UV灯用的电接触点，在使用时该接触点与基座部分的接触点成电连接。此种结构可保证电源仅在上方部分已与基座部分装妥时才供电给UV灯，因而可防止对使用人造成意外的UV照射之伤害。监视电路可监视UV灯及扰动机构，并由一发光二极管(LED)提供目视指示。旋涡扰动产生出足够的流体力以清除隐形眼镜上的沉积物，因而可避免对人工擦拭及使用清洁剂的化学药物之需求。UV辐射可迅速将清除的沉积物和液体消毒，而不需加热且不需使用防腐剂和化学药物。清洗液体为简单的盐水溶液，其对眼睛不会造成刺激。清洗工作可在一清洗单元中以单一循环方式完成而无须外界参予。全部清洗循环可在30分钟内完成。此系统设计为具有自备的电子控制单元，在低电压(14V)下工作，该电压可由壁插式标准线电压变压器降压获得。此系统不产生任何过量的热，不用有毒或刺激性化学品，亦无危险之辐射。本专利技术的其他特点及优点将通过对下述较佳实施例并配合下列附图的详细说明而更为明显附图说明图1为本专利技术的隐形眼镜清洗消毒系统外观图。图2为隐形眼镜清洗消毒系统的盖子部分、隐形眼镜盒子及下方基座部分的侧剖视图。图3为一示意图，说明隐形眼镜清洗及消毒系统的清洗及消毒功能。图4为用来在清洗消毒系统中产生液体扰动的磁踏板的细节图。图5为显示清洗消毒系统在使用时各组件安排情况的侧视图。图6为清洗消毒系统中使用的隐形眼镜盒的细节图。图7为清洗消毒系统中电控单元的示意图。图8表示出该清洗消毒系统循环的各步骤。参看图1，本专利技术的隐形眼镜清洗系统的一个较佳实施例中有一上方外壳部分1，其内包含一杀菌紫外线(UV)灯及一下方基座部分2，基座部分中容纲一清洗及消毒室及系统的电控电路。备有一指示灯3以指示本单元在清洗消毒循环时的作业情况。低压(14V)经由一接头连接器4接至此单元，该连接器耦合至低压插头5，插头5末端与降压变压器7的电源线6连接。变压器单元7为一典型的隔离式UL核准的壁插式变压器，可以选择在120或220伏之线电压下使用。图2更详细显示出隐形眼镜清洗消毒系统的组件。紫外线灯10装在外壳上方部分1内，其灯头部位于空腔11中并作为由UV灯产生的紫外线光的局部反射器。灯的基座10a固定在一框架隔间1a上，该隔间与单元底架接地，中心接触点10b与金属接触元件12成电接触。由外壳上方部分1中的开口13可接触到该接触元件12。下方基座部分2是由基座外壳壁18、有一上方消毒部分15及下方清洗部分16所形成的小室、以及密封在弹性不锈钢弹簧20b(图4)末端的塑料踏板20a中的碟形永久磁铁17形式的扰动诱发机构组成。驱动变压器19位于清洗室的底壁16a下面，以产生不规则磁通来驱动磁踏板20a使其振动。当清洗液充满清洗及消毒室15、16时，磁踏板20a之振动会在液体中产生旋涡效应而用于清洗及消毒循环中，以下将会详细说明。与基座部分2一起尚示有系统的电控单元21、供插入开口13中以建立与接触元件12电连接的电源供应接触针22，使之在使用时，当上方外壳部分上之后供UV灯通电之用，以及还示出安装部分23，用以固定踏板弹簧20b的另一端。设置隐形眼镜盒子14是用以盛装浸入清洗及消毒室15和16液体中的隐形眼镜。隐形眼镜盒子有一对下方镜盒部分14a和14b，装在上方框架14c上。上方框架14c延伸出一对臂部14d和14e，这两个臂装在外壳基座部分2的各侧面上，以悬吊放在液体中的镜盒部分。图3示出该清洗消毒系统在使用时各部件的作用。一定量的液体24充满清洗及消毒室15和16中。隐形眼镜装在眼镜盒子14的镜盒部分。驱动变压器19提供扰动磁通的磁耦合使磁碟形踏板17、20振动，因而在小室内引起旋涡波26。振动波26可将隐形眼镜上的尘埃及雾膜去掉并清洗镜片。这些沉积物由旋涡波26带到上方清毒室15的眼镜盒上方框架14c之上，在该处被UV灯10的UV辐射线27消毒。消毒后的沉积物停留在上方框架14c处，然后被收集除去。上方框架部分14c插在UV灯与眼镜盒子之间，以阻止UV光直接照射在隐形眼镜上。UV光的能量随在液体中所通过的距离成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种隐形眼镜的清洗与消毒系统，设有一密封外壳（１，２），外壳中有一小室（１５，１６），以容纳少量液体；一紫外线（ＵＶ）辐射源（１０），装在小室的上方部分；其特征在于该系统还包括：－隐形眼镜盒子（１４），其具有镜盒部分（１４ａ，１４ｂ），以盛装各片隐形眼镜，使之浸于所述小室内的液体中；－扰动机构（１７，１９，２０ａ），以在所述液体中引起扰动，从而以足够的力量将隐形眼镜上沉积的尘埃、雾膜及其他沉积物清除到液体中；以及－电子控制单元（２１），用以操作所述紫外辐射源，以消毒眼镜上由扰动机构清除到液体中的尘埃、雾膜及其他沉积物。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：S博罗夫斯基，
申请(专利权)人：美国视力有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]