丙烯酸树脂及其制备方法和应用技术

本发明专利技术提供了一种丙烯酸树脂及其制备方法和应用。所述丙烯酸树脂的制备方法包括如下步骤有：将丙烯酸单体、溴化亚铜、配体、引发剂和还原剂于反应溶剂中进行混合处理，后进行聚合反应；其中，所述还原剂为银单质，且所述还原剂足量。所述丙烯酸树脂制备方法以零价银单质作为温和的还原剂，可使聚合过程的一价铜离子保持恒定，使活性聚合反应过程可控，使得聚合生成丙烯酸树脂具有更低数均分子量分布，如丙烯酸树脂数均分子量分布<1.2。

【技术实现步骤摘要】
丙烯酸树脂及其制备方法和应用
本专利技术属于光刻胶
，尤其涉及一种丙烯酸树脂及其制备方法和应用。
技术介绍
光刻胶作为一种光敏性的材料，是集成电路精细加工技术的关键性加工材料。其中丙烯酸树脂作为光刻胶组成的一部分，决定着光刻胶性能的优劣，是目前光刻胶材料研究的热点。随着制造技术的不断发展，对光刻胶的技术要求越来越高，为了满足日益苛刻的工艺条件，需要开发更高性能的光刻胶产品。相对于传统的I线、G线、KrF光刻胶，ArF光刻胶产品具有优异的分辨率，可达到90nm以下。ArF光刻胶由树脂、光敏剂、添加剂溶剂等组成，树脂是光刻胶性能的载体，对光刻胶的分辨率、线边粗糙度、图形形貌等性能有重要影响。通常情况下，在90nm光刻工艺下，对光刻胶用树脂的数均分子量分布要达到1.2以下，而当光刻工艺进入65nm技术节点后，数均分子量分布为1.2的树脂会使光刻胶的分辨率和边缘粗糙度无法达标，同时会引起脚状图形(FootingProfiles)现象，这对树脂合成技术提出了更高的要求。为了降低光刻胶用树脂的数均分子量分布，目前公开了一种数均分子量窄本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种丙烯酸树脂的制备方法，包括如下步骤：/n将丙烯酸单体、溴化亚铜、配体、引发剂和还原剂于反应溶剂中进行混合处理，后进行聚合反应；其中，所述还原剂为银单质，且所述还原剂足量。/n

【技术特征摘要】
1.一种丙烯酸树脂的制备方法，包括如下步骤：
将丙烯酸单体、溴化亚铜、配体、引发剂和还原剂于反应溶剂中进行混合处理，后进行聚合反应；其中，所述还原剂为银单质，且所述还原剂足量。


2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述丙烯酸单体与银单质是按照丙烯酸单体与银单质重量比为100～400:(0.01～0.1)的比例进行添加混合。


3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述丙烯酸单体、溴化亚铜、配体和还原剂是按照如下重量比于反应溶剂进行混合处理：
所述丙烯酸单体：反应溶剂：溴化亚铜：配体：银单质：引发剂＝100～400:(100～800):(1～3):(1～9):(0.01～0.1):(0.1～3)。


4.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于：所述丙烯酸单体：反应溶剂：溴化亚铜：配体：银单质：引发剂＝100～200:(100～400):(2～3):(2～5):(0.05～0.1):(0.2～2)。


5.如权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在于：所述丙烯酸单体为如下结构通式Ⅰ的单体结构，其中R1为直链或环状结构：

和/或
所述配体为如下结构通式Ⅱ所示，其中R2...

【专利技术属性】
技术研发人员：马潇，周浩杰，杨鑫楷，夏正建，杨平原，毛智彪，许从应，
申请(专利权)人：宁波南大光电材料有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33