共聚物、树脂组合物、保护膜及保护膜的形成方法技术

本发明专利技术涉及一种组合物，其含有聚合物，该聚合物含有下述聚合单元：来自（ａ１）具有环氧乙基或氧杂环丁基的聚合性不饱和化合物、（ａ２）具有以甲基丙烯酸１－二乙基丙酯为代表的特定结构的聚合性不饱和化合物的聚合单元及（ａ３）与上述聚合单元（ａ１）、（ａ２）不同的聚合单元。上述组合物能够形成保存稳定性优良、平坦性高的固化膜，而且，优选用于形成透明性及表面硬度高、耐热耐压性、耐酸性、耐碱性、耐溅射性、蚀刻耐性等各种的耐性优良的光设备用保护膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及共聚物、树脂组合物、用上述组合物形成保护膜的方法及保护膜。更具体而言涉及组合物、使用上述组合物的保护膜的形成方法及使用上述组合物形成的保护膜，上述组合物优选用作形成液晶显示元件(LCD)用滤色器及电荷耦合元件(CCD)用滤色器中使用的保护膜的材料。
技术介绍
LCD或CCD等放射线设备，在其制备工序中，用溶剂、酸或碱溶液等对显示元件进行浸渍处理，利用溅射形成配线电极层时，元件表面局部暴露在高温中。因此，为了防止上述处理使元件发生劣化或造成损伤，在元件表面设置由对上述处理具有耐性的薄膜构成的保护膜。要求上述保护膜具有以下性能对需要形成该保护膜的基体或下层、甚至形成在保护膜上的层具有高密合性，膜本身平滑、强韧，具有透明性，耐热性及耐光性高，经过较长时间也不发生着色、黄变、白化等变质，耐水性、耐溶剂性、耐酸性及耐碱性优良等。作为用于形成满足上述各种特性的保护膜的材料，例如已知含有具有缩水甘油基的聚合物的热固性组合物(参见特开平5-78453号公报及特开2001-91732号公报)。另外，将上述保护膜用作彩色液晶显示装置或电荷耦合元件的滤色器的保护膜时，通常要求将由形成在底本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种共聚物，其特征为，该共聚物［Ａ－１］含有下述聚合单元：（ａ１）来自具有环氧乙基或氧杂环丁基的聚合性不饱和化合物的聚合单元、及（ａ２）来自具有下述式（０１）表示的结构的聚合性不饱和化合物的聚合单元，－＊－Ｏ－Ｒ…（０１）　 　此处，Ｒ是：碳原子数为５以上的叔烷基；被碳原子数为１～４的烷氧基取代的碳原子数为４以上的叔烷基；上述式中以叔碳原子键合与Ｒ键合的氧原子（－Ｏ－）的环碳原子数为３以上的环烷基；或上述式中以叔碳原子键合与Ｒ键合的氧原子（－Ｏ－）的４元环以上的内酯环或内酰胺环。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：吉泽纯司，梶田彻，加藤嘉文，山内英树，上田二朗，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]