【技术实现步骤摘要】
一种上研磨盘、上研磨部件、行星盘球磨机构及球磨装置
本技术涉及球体的抛光
，具体涉及一种反式行星盘式球磨装置。
技术介绍
精密金属球体在诸多应用中具有不可替代的重要作用，例如在圆度仪、静电陀螺、轴承中都会使用到精密金属球体，再如，在激光聚变实验中，常常会使用精密空心金属球体作为点火靶丸。在精密金属球体的诸多研磨、抛光方法中，盘式球磨机相对于四轴抛光机、等离子体抛光等超精密抛光方法，具有研磨效率高，下量速度快，可同时对多个球体进行研磨的优点，而被广泛采用。盘式抛光机作为球体研磨、抛光设备，已经经历了上百年的发展历程，在陶瓷、冶金、化工、航天以及国防等诸多领域有着极其重要的应用。常见的盘式球磨机加工方式包括行星盘式加工方式、搓球加工方式以及摆动式加工方式等，这些加工方式各有优缺点。行星盘式加工方式，理论上针对单颗球体的加工而言具有较好的加工效果。行星盘式加工方式可以实现中等批量加工，但是球体加工效果的提高是伴随球体公转线速度的变化，也即是球体在加工过程中极易出现拥挤碰撞的现象，导致加工效果不佳。搓球加工方式...
【技术保护点】
1.一种用于盘式球磨机的上研磨盘，其特征在于，上研磨盘(1)的下表面上设有沿周向分布的V型槽(4)，上研磨盘(1)的下表面用于与下研磨盘(2)的上表面适配；所述上研磨盘(1)采用于与浮动部件连接，用作浮动式研磨盘。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于盘式球磨机的上研磨盘，其特征在于，上研磨盘(1)的下表面上设有沿周向分布的V型槽(4)，上研磨盘(1)的下表面用于与下研磨盘(2)的上表面适配；所述上研磨盘(1)采用于与浮动部件连接，用作浮动式研磨盘。
2.根据权利要求1所述的一种用于盘式球磨机的上研磨盘，其特征在于，所述V型槽(4)的角度为90°。
3.根据权利要求1所述的一种用于盘式球磨机的上研磨盘，其特征在于，所述上研磨盘(1)的下表面上还设有偏心槽(5)，所述偏心槽(5)与V型槽(4)连通；在上研磨盘(1)的轴心线方向上，偏心槽(5)的深度大于V型槽(4)的深度。
4.根据权利要求3所述的一种用于盘式球磨机的上研磨盘，其特征在于，所述偏心槽(5)以上研磨盘(1)的盘心为中心呈扇形结构，且沿轴向贯穿上研磨盘(1)。
5.根据权利要求1所述的一种用于盘式球磨机的上研磨盘，其特征在于，在径向方向上，用于连接上研磨盘(1)的转轴(3)的轴心与上研磨盘(1)的盘心偏离距离R，满足R＞0。
6.根据权利要求5所述的一种用于盘式球磨机的上研磨盘，其特征在于，所述R的值为研磨微球的直径值与允许误差之和。
<...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈果，王涛，刘艳松，何小珊，艾星，易泰民，李俊，何智兵，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：新型
国别省市：四川;51
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。