【技术实现步骤摘要】
基于高速快反镜的激光调Q装置及调Q方法
本专利技术涉及激光调Q装置的
,特别是一种基于高速快反镜的激光调Q装置及调Q方法。
技术介绍
激光调Q技术是一种提升激光器输出峰值强度的有效方法,其通过将连续激光能量压缩到宽带极窄的脉冲发射,峰值强度可提高几个数量级。常用的激光调Q技术有,电光调Q、声光调Q、染料调Q、转镜调Q等,其中以电光调Q、声光调Q为主。电光调Q是通过在晶体上加一阶跃式电压,调节腔内光子的反射损耗;声光调Q则是通过某种特定的载波频率驱动换能器产生同一频率的超声波并传入声光介质,从而在介质内部形成折射率变化,改变光束的传播方向,到达改变腔内损耗的效果。与电光调Q、声光调Q等常用的调Q方式相比,转镜调Q方式因其机械结构复杂,同时因为机械惯性,难以实现特定序列调Q等原因,难以应用到激光加工,激光测距等领域,逐步的退出市场。然而,转镜调Q所采用的反射式调Q方式相对于上述的透射式调Q方式可以实现更高的光能利用率,同时也具备更高的光强损伤阈值,并且对调制的波长无限制,特别适用于长波红外等的传统调Q方式难以实现的 ...
【技术保护点】
1.基于高速快反镜的激光调Q装置,其特征在于:由高速快反镜模块(1),激光工作物质模块(2),激光输出模块(3),快反镜控制器(4)、冷却模块(5)、电源模块(6)和激光全反镜(7)组成,该装置存在两个主要的工作状态:a、高速快反镜模块(1)与激光工作物质模块(2)和激光输出模块(3)构成稳定的激光谐振腔,并从激光输出模块(3)输出连续激光;b、高速快反镜模块(1)发生了大角度偏转,使高速快反镜模块(1)与激光工作物质模块(2)和激光输出模块(3)无法形成稳定的激光谐振腔,激光输出模块(3)无激光输出,激光工作物质模块(2)的反转粒子数持续增加并达到饱和阈值,当高速快反镜模 ...
【技术特征摘要】
1.基于高速快反镜的激光调Q装置,其特征在于:由高速快反镜模块(1),激光工作物质模块(2),激光输出模块(3),快反镜控制器(4)、冷却模块(5)、电源模块(6)和激光全反镜(7)组成,该装置存在两个主要的工作状态:a、高速快反镜模块(1)与激光工作物质模块(2)和激光输出模块(3)构成稳定的激光谐振腔,并从激光输出模块(3)输出连续激光;b、高速快反镜模块(1)发生了大角度偏转,使高速快反镜模块(1)与激光工作物质模块(2)和激光输出模块(3)无法形成稳定的激光谐振腔,激光输出模块(3)无激光输出,激光工作物质模块(2)的反转粒子数持续增加并达到饱和阈值,当高速快反镜模块(1)在这两个状态之间快速切换时,状态b条件下大量反转粒子数所存储的能量在短时间内被释放出来,形成峰值强度极高的强脉冲激光,通过控制快反镜控制器(4),可以使高速快反镜模块(1)产生特定序列的偏摆,从而产生特定序列的激光脉冲。
2.根据权利要求1所述的基于高速快反镜的激光调Q装置,其特征在于:所述的高速快反镜模块(1)采用压电陶瓷或电致伸缩材料驱动器。
3.根据权利要求1所...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄林海,周子夜,冯忠义,
申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所,
类型:发明
国别省市:四川;51
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