一种用于LCD玻璃基板沉积作业框架导向棒的清洗装置制造方法及图纸

技术编号:26874555 阅读:21 留言:0更新日期:2020-12-29 13:08
本实用新型专利技术涉及LCD显示屏CF制造辅助器械技术领域,公开了一种用于LCD玻璃基板沉积作业框架导向棒的清洗装置,包括设置在机架上的清洗池,清洗池侧边设有工作台,清洗池的池底低于工作台的台面,清洗池长度方向的一端侧壁设有卡盘,清洗池与卡盘相对的侧壁设有承托机构,工作台上设有导向机构,导向机构上设有可与工件相互作用的清洗机构。能够极大的提升清洗效率,节省人工消耗,且过程中不需要人员进行再操作,能够避免人员与清洗用的化学药品直接接触,保护人员安全,另外承托机构和调节机构的设置,还可以适配不同规格的导向棒,实现柔性化作业,提高生产效率、降低生产成本,具有极大的推广价值和广阔的应用前景。

【技术实现步骤摘要】
一种用于LCD玻璃基板沉积作业框架导向棒的清洗装置
本技术涉及LCD显示屏CF制造辅助器械
,具体涉及一种用于LCD玻璃基板沉积作业框架导向棒的清洗装置。
技术介绍
在LCD显示屏的CF制造过程中,在腔体内用于放置玻璃基板的框架(Carrier、Tray等),其各种材料在玻璃基板上沉积过程中,框架表面也会沉积材料,随着沉积物厚度的增加,沉积膜与挡板的附着力会降低,沉积膜可能会脱落污染腔体,影响LCD显示屏的显示质量,所以需要对腔体内裸露于工艺环境中的部件进行精密再生,延长部件的使用寿命,确保制程环境满足显示屏制程工艺要求,提升产品质量,降低客户端制程成本。而框架上有些特殊部件(规则的不锈钢圆柱形部件)只能使用物理方式(使用酒精、丙酮、蓝威宝、聚丙烯酸铵盐等有机试剂进行擦拭)进行手动清洁,但部件体积过大、过重,人员进行不易搬运、清洁效率低下,人员直接接触化学药品也存在安全隐患。因此,LCD显示屏CF制造辅助器械
亟需一种能够用于LCD玻璃基板沉积作业框架导向棒自动化、连续化清洗作业的装置。专
技术实现思路
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【技术保护点】
1.一种用于LCD玻璃基板沉积作业框架导向棒的清洗装置,其特征在于,包括设置在机架(1)上的清洗池(11),所述清洗池(11)侧边设有工作台(12),所述清洗池(11)的池底低于工作台(12)的台面;所述清洗池(11)长度方向的一端侧壁设有卡盘(2),所述清洗池(11)与卡盘(2)相对的侧壁设有承托机构(3),所述工作台(12)上设有导向机构(5),所述导向机构(5)上设有可与工件(9)相互作用的清洗机构(6),所述导向机构(5)可驱动清洗机构(6)在卡盘(2)和承托机构(3)之间往复运动;所述卡盘(2)远离承托机构(3)的一端设有驱动机构(7)。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于LCD玻璃基板沉积作业框架导向棒的清洗装置,其特征在于,包括设置在机架(1)上的清洗池(11),所述清洗池(11)侧边设有工作台(12),所述清洗池(11)的池底低于工作台(12)的台面;所述清洗池(11)长度方向的一端侧壁设有卡盘(2),所述清洗池(11)与卡盘(2)相对的侧壁设有承托机构(3),所述工作台(12)上设有导向机构(5),所述导向机构(5)上设有可与工件(9)相互作用的清洗机构(6),所述导向机构(5)可驱动清洗机构(6)在卡盘(2)和承托机构(3)之间往复运动;所述卡盘(2)远离承托机构(3)的一端设有驱动机构(7)。


2.根据权利要求1所述的一种用于LCD玻璃基板沉积作业框架导向棒的清洗装置,其特征在于,所述承托机构(3)包括托块(31),所述托块(31)中部设有用于放置工件(9)的V形让位槽,所述让位槽的两侧壁上端设有承托轮对(33),所述托块(31)的一端铰接压块(32),所述压块(32)可以扣合在托块(31)上,所述压块(32)的中部对应让位槽的位置设有压轮(34),所述托块(31)和压块(32)远离铰接点的一端设有卡位组件。


3.根据权利要求2所述的一种用于LCD玻璃基板沉积作业框架导向棒的清洗装置,其特征在于,所述卡位组件包括设置在压块(32)远离铰接点一端的卡腔(35),所述卡腔(35)可以容纳托块(31)远离铰接点的一端,所述卡腔(35)侧壁设有若干卡孔(36),所述卡孔(36)与压块(32)垂直,所述托块(31)对应卡孔(36)的位置设有一个与卡孔(36)适配的通孔。


4.根据权利要求1~3任意一项所述的一种用于LCD玻璃基板沉积作业框架导向棒的清洗装置,其特征在于,所述承托机构(3)设置在调节机构(4)上,所述调节机构(4)可以带动承托机构(3)靠近或远离卡盘(2)和/或靠近或远离清洗池(11)的池底。


5.根据权利要求4所述的一种用于LCD玻璃基板沉积作业框架导向棒的清洗装置,其特征在于,所述调节机构(4)包括沿清洗池(11)宽度方向延伸的支承台(42),所述支承台(42)顶面与承托机构(3)底面固接,所述支承台(42)的两端设有竖直延伸的滑动台(43),所述滑动台(43)上设有沿清洗池(11)长度方向延伸的滑孔(44),所述调节机构(4)还包括一对在清洗池(11)长度方向相对侧壁之间并列设置的滑杆(41),所述滑...

【专利技术属性】
技术研发人员:万长明王宏宇罗雪春万其凯胡家铭
申请(专利权)人:成都拓维高科光电科技有限公司
类型:新型
国别省市:四川;51

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