微区下发光件的外量子效率检测系统技术方案

本实用新型专利技术提供了一种微区下发光件的外量子效率检测系统，该检测系统包括：接收光路，包括第一显微物镜及用于测定光强的第一检测装置，第一检测装置对准于第一显微物镜的后端；用于获取接收光路的响应函数的标定设备，包括光源、用于将光线汇聚于第一显微物镜的焦平面上的聚光件、用于将不同频率光线导入第一显微物镜的前端的传导件和用于测定焦平面上的不同频率光线的光谱强度分布的第二检测装置，聚光件的第一端对准于光源，聚光件的第二端对准于焦平面，传导件设置于所述焦平面；以及用于测定待测发光件的电流的第三检测装置。本实用新型专利技术解决了传统的外量子效率检测装置检测单像素或亚毫米级别的微小尺寸的发光器件时准确性差的问题。

【技术实现步骤摘要】
微区下发光件的外量子效率检测系统
本技术涉及发光件的检测
，具体涉及一种微区下发光件的外量子效率检测系统。
技术介绍
外量子效率是用于表征发光器件的重要参数之一。近年来，随着电子技术的不断发展，人们对于高性能平板显示的要求不断提高，对于更小的单像素尺寸以及更低的能耗，一直是发光器件行业的追求。现有的优化方式，通常从通过器件材料及加工工艺设计，或者通过微纳结构设计等层面提升发光器件的外量子效率。而在提升发光器件的外量子效率的研究及研发初期阶段，为了考虑时间以及成本的因素，通常仅会制备单像素或者亚毫米尺度甚至更小尺寸的样品发光器件。随即面临的问题是，随着发光器件的发光面的减小，其光通量随之变小，常规外量子效率检测装置(一般是基于积分球体系)，则不能很好的对如此小尺寸的发光器件进行准确的外量子效率检测。
技术实现思路
为克服现有技术所存在的缺陷，现提供一种微区下发光件的外量子效率检测系统，以解决传统的外量子效率检测装置检测单像素或亚毫米级别的微小尺寸的发光器件时准确性差的问题。为实现上述目的，提供一种微区下发光件本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微区下发光件的外量子效率检测系统，其特征在于，包括：/n接收光路，包括用于采集入射光线的第一显微物镜及用于测定所述入射光线的光强的第一检测装置，所述第一检测装置对准于所述第一显微物镜的后端；/n用于获取所述接收光路对不同频率的入射光线的响应函数的标定设备，包括用于发射不同频率光线的光源、用于将所述不同频率光线汇聚于所述第一显微物镜的前端的焦平面上的聚光件、用于将汇聚于所述焦平面上的所述不同频率光线导入所述第一显微物镜的前端的传导件和用于测定汇聚于所述焦平面上的所述不同频率光线的光谱强度分布的第二检测装置，所述聚光件的第一端对准于所述光源，所述聚光件的第二端对准于所述焦平面，所述传导件设...

【技术特征摘要】
1.一种微区下发光件的外量子效率检测系统，其特征在于，包括：
接收光路，包括用于采集入射光线的第一显微物镜及用于测定所述入射光线的光强的第一检测装置，所述第一检测装置对准于所述第一显微物镜的后端；
用于获取所述接收光路对不同频率的入射光线的响应函数的标定设备，包括用于发射不同频率光线的光源、用于将所述不同频率光线汇聚于所述第一显微物镜的前端的焦平面上的聚光件、用于将汇聚于所述焦平面上的所述不同频率光线导入所述第一显微物镜的前端的传导件和用于测定汇聚于所述焦平面上的所述不同频率光线的光谱强度分布的第二检测装置，所述聚光件的第一端对准于所述光源，所述聚光件的第二端对准于所述焦平面，所述传导件设置于所述焦平面；以及
用于测定待测发光件的发光时的电流的第三检测装置。


2.根据权利要求1所述的微区下发光件的外量子效率检测系统，其特征在于，所述接收光路还包括耦合件，所述耦合件对准于所述第一显微物镜的后端，所述第一检测装置对准于所述耦合件。


3.根据权利要求1所述的微区下发光件的外量子效率检测系统，其特征在于，所述传导件为透光介质，所述聚光件为第二显微物镜，所述第二显微物镜的后端对准所述光源，所述第二显微物镜的前端与所述第一显...

【专利技术属性】
技术研发人员：洪少欣，贺晓龙，周燕飞，殷海玮，
申请(专利权)人：上海复享光学股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31