光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法技术方案

本发明专利技术提供一种光学系统(LS)，其中，具备满足以下条件式的透镜(L22)：2.0100<ndLZ+(0.00925×νdLZ)<2.080028.0<νdLZ<40.0其中，ndLZ：透镜的对d线的折射率，νdLZ：透镜的以d线为基准的阿贝数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法
本专利技术涉及光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法。
技术介绍
近年来，在数码相机和摄像机等摄像装置中使用的摄像元件正在推进高像素化。设置于使用了这种摄像元件的摄像装置的摄影镜头，优选为如下的镜头：除了球面像差、彗差等基准像差(单一波长的像差)以外，还良好地对色差进行校正，以使得在白色光源下在像的颜色中没有模糊，且具有高分辨率。特别是，优选的是，在色差的校正中，除了一级的消色差以外，还良好地校正二级光谱。作为色差的校正手段，例如公知有使用具有异常色散性的树脂材料的方法(例如，参照专利文献1)。如上所述，伴随近年来的摄像元件的高像素化，期望实现良好地对各像差进行校正的摄影镜头。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2016-194609号公报
技术实现思路
第1方式的光学系统，具备满足以下条件式的透镜：2.0100<ndLZ+(0.00925×νdLZ)<2.080028.0<νdLZ<40.0其中，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学系统，其中，具备满足以下条件式的透镜：/n2.0100<ndLZ+(0.00925×νdLZ)<2.0800/n28.0<νdLZ<40.0/n其中，ndLZ：所述透镜的对d线的折射率/nνdLZ：所述透镜的以d线为基准的阿贝数。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学系统，其中，具备满足以下条件式的透镜：
2.0100<ndLZ+(0.00925×νdLZ)<2.0800
28.0<νdLZ<40.0
其中，ndLZ：所述透镜的对d线的折射率
νdLZ：所述透镜的以d线为基准的阿贝数。


2.一种光学系统，其中，具备满足以下条件式的透镜：
1.8500<ndLZ+(0.00495×νdLZ)<1.9200
28.0<νdLZ<40.0
其中，ndLZ：所述透镜的对d线的折射率
νdLZ：所述透镜的以d线为基准的阿贝数。


3.根据权利要求1或2所述的光学系统，其中，
所述透镜满足以下条件式：
θgFLZ+(0.00316×νdLZ)<0.7010
其中，θgFLZ：所述透镜的相对部分色散，在设所述透镜的对g线的折射率为ngLZ，所述透镜的对F线的折射率为nFLZ，所述透镜的对C线的折射率为nCLZ时，通过下式被定义，即
θgFLZ＝(ngLZ-nFLZ)/(nFLZ-nCLZ)。


4.根据权利要求1～3中的任意一项所述的光学系统，其中，
所述透镜满足以下条件式：
35.0<νdLZ<40.0。


5.根据权利要求1～4中的任意一项所述的光学系统，其中，
所述透镜满足以下条件式：
1.660<ndLZ<1.750。


6.根据权利要求1～5中的任意一项所述的光学系统，其中，
所述透镜满足以下条件式：
1.670<ndLZ<1.710。


7.根据权利要求1～6中的任意一项所述的光学系统，其中，<...

【专利技术属性】
技术研发人员：栗林知宪，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP