表面处理方法技术

提供一种能够抑制在构件的表面沉积的成膜物从构件脱离的表面处理方法。表面处理方法包括：通过喷砂处理使构件(10)的金属制的表面(10F)粗糙化；通过阳极氧化而在已粗糙化的表面(10F)形成多孔质的氧化皮膜；以及利用蚀刻液至少对氧化皮膜进行蚀刻。

【技术实现步骤摘要】
表面处理方法
本专利技术涉及表面处理方法。
技术介绍
溅射装置、蚀刻装置以及灰化装置等各种真空处理装置由具有金属制表面的多个构件构成。构成真空处理装置的构件包括：将在真空处理装置中针对处理对象进行处理的处理空间分区的构件、及配置于处理空间内的其他各种各样的构件。在这些构件上由于附着伴随处理空间内的处理而产生的成膜物质，从而成膜物沉积。从构件脱离的成膜物成为微粒，有可能由于附着于处理对象、构件而使处理对象污染。因此，例如在溅射装置具备的防附着板的表面实施喷砂处理和喷镀(例如参照专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-224921号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，关于针对适用于真空处理装置的构件的表面的表面处理，在抑制在那些构件的表面沉积的成膜物脱离的观点上，还留有研讨的余地。本专利技术以提供能够抑制在构件的表面沉积的成膜物从构件脱离的表面处理方法为目的。用于解决课题的方案一方式的表面处理方法包括：通过喷砂处理使构件的金属制的表本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种表面处理方法，包括：/n通过喷砂处理使构件的金属制的表面粗糙化；/n通过阳极氧化在已粗糙化的所述表面形成多孔质的氧化皮膜；以及/n利用蚀刻液至少对所述氧化皮膜进行蚀刻。/n

【技术特征摘要】
20190625 JP 2019-1175021.一种表面处理方法，包括：
通过喷砂处理使构件的金属制的表面粗糙化；
通过阳极氧化在已粗糙化的所述表面形成多孔质的氧化皮膜；以及
利用蚀刻液至少对所述氧化皮膜进行蚀刻。


2.根据权利要求1所述的表面处理方法，其中，
形成所述氧化皮膜包括：形成具有1μm以上20μm以下的厚度的所述氧化皮膜。


3.根据权利要求1或2所述的表面处理方法，其中，
至少...

【专利技术属性】
技术研发人员：稻吉荣，石榑文昭，佐藤洋志，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，日本爱发科泰克能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP