一种大培养皿常压低温等离子体处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种大培养皿常压低温等离子体处理装置，包括箱体，箱体的底部内壁上固定设置有低温等离子体电极基台，低温等离子体电极基台的顶部外壁上固定设置有支撑板，支撑板的顶端焊接有固定板，通孔的侧壁上固定设置有夹紧弹簧，夹紧弹簧的一端固定连接有夹板，箱体的顶部外壁上焊接有固定架，箱体通过固定架连接有气缸，气缸的输出端固定连接有推拉杆，推拉杆远离气缸的一端固定连接有低温等离子体上电极，箱体的底部外壁上固定安装有连接板，连接板的底部外壁上焊接有活动轴，活动轴的下方设置有固定轴，且活动轴的底端插入固定轴的内部，活动轴的底端焊接有挡块，固定轴的内部设置有内弹簧，活动轴的外壁上套设有外弹簧。

【技术实现步骤摘要】
一种大培养皿常压低温等离子体处理装置
本技术涉及等离子体实验设备
，特别涉及一种大培养皿常压低温等离子体处理装置。
技术介绍
等离子体是一种高能量的物质聚集态，其中含有大量的电子、离子、激发态的原子、分子、光子和自由基等活性粒子，利用等离子体对材料进行处理可引起材料表面的物理变化（如刻蚀、解吸、溅射、注入、激发和电离等）和化学变化（如氧化、分解、交联、聚合和接枝等），以达到改变材料表面特性（包括亲水性、疏水性、粘合性、阻燃性、防腐性、防静电性以及生物适应性）的目的，等离子体聚合是利用放电把有机类气态单体等离子化，使其产生各类活性物质，由这些活性物质之间或活性物质与单体之问进行加成反应形成聚合膜，而等离子体表面处理是利用非聚合性无机气体(Ar2、N2、H2、O2等)的等离子体进行表面反应，通过表面反应在表面引入特定官能团，产生表面侵蚀，形成交联结构层或生成表面自由基，在经等离子体活化而成的表面自由基位置，能进一步反应产生特定官能团，如氢过氧化物，在低温等离子中由于存在离子和自由电子、自由基，其提供了常规化学反应器中所没有的化学反应条件，既能本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种大培养皿常压低温等离子体处理装置，包括箱体（1），其特征在于：所述箱体（1）的底部内壁上固定设置有低温等离子体电极基台（2），所述低温等离子体电极基台（2）的顶部外壁上固定设置有支撑板（3），所述支撑板（3）的顶端焊接有固定板（4），所述固定板（4）上开设有通孔（5），所述通孔（5）的侧壁上固定设置有夹紧弹簧（6），所述夹紧弹簧（6）的一端固定连接有夹板（7），所述箱体（1）的顶部外壁上焊接有固定架（8），所述箱体（1）通过所述固定架（8）连接有气缸（9），所述气缸（9）的输出端固定连接有推拉杆（10），所述推拉杆（10）远离所述气缸（9）的一端固定连接有低温等离子体上电极（11）。/...

【技术特征摘要】
1.一种大培养皿常压低温等离子体处理装置，包括箱体（1），其特征在于：所述箱体（1）的底部内壁上固定设置有低温等离子体电极基台（2），所述低温等离子体电极基台（2）的顶部外壁上固定设置有支撑板（3），所述支撑板（3）的顶端焊接有固定板（4），所述固定板（4）上开设有通孔（5），所述通孔（5）的侧壁上固定设置有夹紧弹簧（6），所述夹紧弹簧（6）的一端固定连接有夹板（7），所述箱体（1）的顶部外壁上焊接有固定架（8），所述箱体（1）通过所述固定架（8）连接有气缸（9），所述气缸（9）的输出端固定连接有推拉杆（10），所述推拉杆（10）远离所述气缸（9）的一端固定连接有低温等离子体上电极（11）。


2.根据权利要求1所述的一种大培养皿常压低温等离子体处理装置，其特征在于：所述箱体（1）的底部外壁上固定安装有连接板（12），所述连接板（12）的底部外壁上焊接有活动轴（13），所述活动轴（13）的下方设置有固定轴（14），所述固定轴（14）的内部中空，且所述活动轴（13）的底端插入所述固定轴（14）的内部，所述活动轴（13）的底端焊接有挡块（15），所述固定轴（14）...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑艳，高彪，沈义信，
申请(专利权)人：苏州思诚者信息科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32