流体控制设备、流体控制设备的异常检测方法、异常检测装置以及异常检测系统制造方法及图纸

在流体控制设备中，即使在流体的漏出微小的情况下也能够检测漏出。另外，将流体的漏出异常识别为伴随流体控制设备的动作的变化，以高精度检测流体的漏出。能够检测异常的流体控制设备(V1)设置有流路和通过隔膜(22)与流路隔离的封闭空间(S2)，具有检测封闭空间(S1)内的压力的压力传感器(P)、执行给定的信息处理的处理模块以及检测流体控制设备(V1)的动作的动作检测机构，处理模块执行如下处理：通过对由压力传感器(P)检测出的检测值与给定的阈值进行比较来判别流体控制设备(V1)的异常的判别处理、以及根据流体控制设备(V1)的动作来校正给定的阈值的校正处理。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】流体控制设备、流体控制设备的异常检测方法、异常检测装置以及异常检测系统
本专利技术涉及在流体控制装置中检测流体的漏出的技术。
技术介绍
以往，在半导体晶圆的表面形成薄膜的成膜处理中，要求膜厚的细微的控制，近年来，使用了以原子级或分子级的厚度形成薄膜的ALD(AtomicLayerDeposition：原子层沉积)这样的成膜方法。但是，这样的成膜处理对向成膜装置供给流体的流体控制设备要求比迄今为止更高的高频度的开闭动作，有时会由于其负荷而容易引起流体的漏出等。故而，对能够容易地检测流体控制设备中的流体的漏出的技术的要求变高。另外，在半导体制造工艺中使用反应性高、毒性极高的气体，因此重要的是能够在漏出微小的情况下且能够远程地检测出漏出。在这方面，在专利文献1中，提出了一种由形成于对流体的流量进行控制的控制器的外表面的孔和安装于该孔的泄漏检测构件构成的密封部破损检测机构，所述孔与控制器内的空隙连通，所述泄漏检测构件由安装于所述孔的筒状体和设置于该筒状体的可动构件构成，该可动构件基于在控制器内的所述空隙内充满的漏出流体的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种流体控制设备，其能够检测异常，并设置有流路和通过隔离构件与该流路隔离的封闭空间，/n所述流体控制设备具有：/n压力传感器，其检测所述封闭空间内的压力；/n处理模块，其执行给定的信息处理；以及/n动作检测机构，其检测所述流体控制设备的动作，/n所述处理模块执行如下处理：/n判别处理，通过对由所述压力传感器检测出的检测值与给定的阈值进行比较来判别所述流体控制设备的异常；以及/n校正处理，根据由所述动作检测机构检测出的动作来校正所述给定的阈值。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180810 JP 2018-1515871.一种流体控制设备，其能够检测异常，并设置有流路和通过隔离构件与该流路隔离的封闭空间，
所述流体控制设备具有：
压力传感器，其检测所述封闭空间内的压力；
处理模块，其执行给定的信息处理；以及
动作检测机构，其检测所述流体控制设备的动作，
所述处理模块执行如下处理：
判别处理，通过对由所述压力传感器检测出的检测值与给定的阈值进行比较来判别所述流体控制设备的异常；以及
校正处理，根据由所述动作检测机构检测出的动作来校正所述给定的阈值。


2.根据权利要求1所述的流体控制设备，其中，
所述动作检测机构是检测所述流体控制设备的驱动压力的驱动压力传感器，
所述校正处理根据检测出的所述流体控制设备的驱动压力来校正所述给定的阈值。


3.根据权利要求1所述的流体控制设备，其中，
所述动作检测机构是检测所述流体控制设备的开闭动作的开闭检测机构，
所述校正处理中，根据检测出的所述流体控制设备的开闭动作来校正所述给定的阈值。


4.根据权利要求1所述的流体控制设备，其中，
所述动作检测机构具有自动学习单元，该自动学习单元通过基于所述检测值的变动模式与开闭动作的相关关系的模式分析来识别开闭动作。


5.根据权利要求1至4中任一项所述的流体控制设备，其中，
所述流体控制设备还具有测量外部温度的温度传感器，
所述校正处理中，根据所述流体控制设备的动作和所述外部温度来校正所述给定的阈值。


6.根据权利要求1至5中任一项所述的流体控制设备，其中，
所述隔离构件是隔膜，
所述流体控制设备具有阀机构，所述阀机构通过使所述隔膜与设置于所...

【专利技术属性】
技术研发人员：丹野龙太郎，篠原努，铃木裕也，木曾秀则，
申请(专利权)人：株式会社富士金，
类型：发明
国别省市：日本;JP