【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】热电堆自测试和/或自校准
本公开涉及基于热电堆的设备的测试和/或校准,具体地但不排他地,涉及基于热电堆的IR探测器的测试和/或校准。
技术介绍
已经证明,可以制造基于热电堆的IR检测器,特别是在硅技术中。例如,Schneeberger等人的“优化的CMOS红外检测器微系统”,ProcIEEETencon1995,报道了基于热电堆的CMOSIR检测器的制造。热电堆包括串联连接的多个热电偶。KOH(氢氧化钾)被用于蚀刻薄膜并改善热绝缘。每个热电偶包括2个不同材料的条带,这些条带电连接并在一端形成热结点(称为热结点),而材料的另一端串联地电连接到其它热电偶,形成热冷结点。热电偶的热接点在膜上,而冷接点在膜的外部。在该论文中给出了具有不同材料成分的热电偶的三种不同设计:铝和p掺杂的多晶硅、铝和n掺杂的多晶硅、或p掺杂的多晶硅和n掺杂的多晶硅。入射IR辐射引起膜的温度的轻微增加。塞贝克效应引起每个热电偶上的轻微电压差,导致热电堆上的电压差的极大增加,该电压差是每个热电偶上的电压之和。以前,Nieveld的“使用硅平面技术制造的热电堆”、传感器和致动器3(1982/83)179-183,示出了在基于铝和单晶硅P+作为热电偶材料的微芯片上制造热电堆。这种热电堆是一种一般的热电堆设备,其不是用于IR检测,并且该设备的热电堆不在膜上。Allison等人的“具有高灵敏度的块状微加工硅热电堆”,传感器和致动器A104200332-39,涉及基于单晶硅P掺杂和N掺杂材料的热电堆。然而,这些是通过P型晶片和N型晶片的晶片键合形 ...
【技术保护点】
1.一种用于测试和/或校准基于热电堆的设备的方法,该方法包括:/n施加第一极性的电偏压到所述基于热电堆的设备,并测量电参数的第一值;以及/n施加第二极性的电偏压到所述基于热电堆的设备,并测量电参数的第二值。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180316 US 15/923,6701.一种用于测试和/或校准基于热电堆的设备的方法,该方法包括:
施加第一极性的电偏压到所述基于热电堆的设备,并测量电参数的第一值;以及
施加第二极性的电偏压到所述基于热电堆的设备,并测量电参数的第二值。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一极性的所述电偏压和所述第二极性的所述电偏压被施加到至少一个热电堆。
3.根据权利要求1和2中任一项所述的方法,该方法还包括:
使用所述第一值和所述第二值来确定所述设备是否正确地运行。
4.根据权利要求1、2和3中任一项所述的方法,该方法还包括:
使用所述第一值和所述第二值来确定用于所述基于热电堆的设备的校准的第三值。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述第一极性和所述第二极性为相反的极性。
6.根据前述权利要求中任一所述的方法,该方法还包括:
确定所述第一值和所述第二值的所述大小;
计算所述第一值的所述大小和所述第二值的所述大小之间的绝对差的值。
7.根据权利要求6所述的方法,该方法还包括:
确定所述绝对差的所述值是否大于预定阈值。
8.根据权利要求6或7所述的方法,该方法还包括:
存储所述绝对差的所述值或根据所述绝对差计算的值。
9.根据权利要求6、7和8中任一项所述的方法,其中,所述第一值的所述大小与所述第二值的所述大小之间的绝对差基于在取消从所述热电堆的所述材料的所述电阻产生的电压之后由于加热而在所述热电堆中产生的所述电压。
10.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述第一极性的所述电偏压和所述第二极性的所述电偏压具有基本相等的大小。
11.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述施加所述第一极性的所述电偏压到所述红外检测器以及施加所述第二极性的所述电偏压到所述红外检测器包括:施加电流到所述基于热电堆的设备;并且可选地
其中测量所述第一值和测量所述第二值包括:测量所述基于热电堆的设备两端的所述电压。
12.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述施加所述第一极性的所述电偏压是通过将第一电流从所述基于热电堆的设备的正端子引导到负端子来实现的;并且其中所述施加第二极性的所述电偏压是通过将第二电流从所述基于热电堆的设备的所述负端子引导到所述正端子来实现的。
13.根据前述权利要求中任一项所述的方法,该方法还包括:
电连接至少两个基于热电堆的...
【专利技术属性】
技术研发人员:S·Z·艾利,K·莱蒂斯,
申请(专利权)人:AMS传感器英国有限公司,
类型:发明
国别省市:英国;GB
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