【技术实现步骤摘要】
加热器支架以及加热器装置
本专利技术涉及加热器支架以及加热器装置。
技术介绍
在用于分子束外延(MBE:MolecularBeamEpitaxy)装置的分子束源中,为了填充并加热所要蒸发的原料而使用坩埚。为了对该坩埚进行加热,在坩埚的周围卷绕排列有线圈状的加热器。为了将该线圈状的加热器保持在固定位置,公开了形成有加热器排列用的槽的加热器支架(例如,参照专利文献1)。另外,作为形成这样的加热器支架的材料,例如使用PBN(PyrolyticBoronNitride,热解氮化硼)(例如,参照非专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特公平03-18734号公报非专利文献非专利文献1:“PBN的用途例”,[online],信越化学工业株式会社,[平成29年9月1日检索],因特网<URL:https://www.shinetsu.co.jp/jp/products/pdf/PBN-01_What_is_PBN.pdf>
技术实现思路
r>专利技术所要解决本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种加热器支架,其特征在于,至少与加热器接触的部分由具有氧化铝的组成的晶体制成。/n
【技术特征摘要】
20190620 JP 2019-1143341.一种加热器支架,其特征在于,至少与加热器接触的部分由具有氧化铝的组成的晶体制成。
2.根据权利要求1所述的加热器支架,其特征在于,所述具有氧化铝的组成的晶体...
【专利技术属性】
技术研发人员:宫崎真行,小暮公男,松本康裕,风间良秋,市原正浩,
申请(专利权)人:安达满纳米奇精密宝石有限公司,株式会社桑尼克,佳能特机株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。