【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及具有有优良耐久性的防水薄膜的光学元件以及生产光学元件的方法。现有技术光学元件如透镜上的抗反射膜通常由无机氧化物如ZrO2、SiO2形成。由于该原因，因出汗或指纹而产生的污点易于粘附于其上，并且难于擦去这些污点。为了解决这样的问题，众所周知的是在抗反射膜上提供防水膜。在最近几年，需要这样的防水膜具有使防水性随时间的延续而降低的现象降至最小的性能。作为得到这种性能的一种方法，JP-A-5-215905公开了其中将有机硅化合物在真空中加热进行蒸汽淀积以在抗反射膜上形成防水膜的方法。在具有在抗反射膜上有防水层的光学元件被污染的情况下，通过布料等可擦去防水膜上的污点。当通过布料等擦去污点时，可能因防水膜上的摩擦系数高而产生布料被拉住的感觉。由于该原因，就会存在用布料进行的擦拭太有力，而可能在透镜上形成划痕的危险。专利技术概述为了解决前述问题而作出了本专利技术，并且本专利技术的目的是提供光学元件，其中例如当通过布料等擦去防水膜上的污点时，可以平滑地擦拭防水膜的顶部。本专利技术的另一个目的是提供制备具有所需的有利效果的光学元件的方法。前述问题通过所附权利要求...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
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